高品质光学级单面生长石英晶体的生长技术研究

高品质光学级单面生长石英晶体的生长技术研究

论文摘要

采用水热温差法,研发了一种高品质光学级单面生长石英晶体技术,分析了光学级石英晶体单面生长原理和关键技术,并对所制备的光学级单面生长石英晶体的性能进行了测试与表征。研究结果表明:采用单面生长技术能极大地减少石英晶体内部缺陷,制备出的石英晶体具有极高的品质,其中包裹体指标、条纹指标达和光学均匀性分别达到国家标准GB/T7895-2008中的Ia级、1级和A级,达到了目前国家标准中的顶尖水平。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 高品质光学级石英晶体单面生长原理及特点
  • 3 高品质光学级单面生长石英晶体生长关键技术
  •   3.1 籽晶选择与加工
  •   3.2 原料选择及优化
  •   3.3 填充度控制
  •   3.4 加热升温过程控制
  •   3.5 釜内恒温与降温控制
  •   3.6 籽晶片挂法
  • 4 高品质光学级单面生长石英晶体性能
  • 5 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 刘盛浦,孙玉坤,郭兴忠,吴兰

    关键词: 石英晶体,生长工艺,单面生长

    来源: 人工晶体学报 2019年01期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 化学

    单位: 浙江大学浙江加州国际纳米技术研究院

    基金: 国家重点研发计划(2016YFB0401305),青山湖科技城创新载体建设项目

    分类号: O78

    DOI: 10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2019.01.011

    页码: 64-69

    总页数: 6

    文件大小: 701K

    下载量: 79

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