导读:本文包含了合金薄膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:合金,薄膜,磁控溅射,矫顽力,离子束,各向异性,热稳定性。
合金薄膜论文文献综述
魏白光,郝鑫禹[1]（2019）在《PtCu/C合金固溶度梯度薄膜催化剂的后处理改性和析氢性能表征》一文中研究指出通过离子束溅射(IBS)与Pt,Cu双靶移动工艺制备PtCu/C合金固溶度梯度薄膜。利用1mol/L的HNO_3对梯度薄膜进行表面刻蚀处理,得到具有大比表面积的催化剂表面结构。X射线衍射(XRD)分析结果表明:复合膜电极表层形成了PtCu置换固溶体合金,原有的Pt晶格收缩,晶面间距缩小;原子力显微镜(AFM)和高分辨透射电镜RTEM&STEM测试结果表明:后处理的样品表面具有多峰结构和沟孔状结构;采用循环伏安法(CV)和线性扫描伏安法(LSV)对样品的电化学析氢性能进行测试,结果表明:梯度材料去合金化可以有效地降低铂载量的同时,提高电化学析氢交换电流密度,后处理样品的Pt载量降低20.29%,电化学析氢交换电流密度达到0.004217A/cm~2,催化性能提高20.58%。(本文来源于《材料工程》期刊2019年11期）
蒋春霞,李荣斌,王馨,聂朝阳,居健[2]（2019）在《不同氮气流量AlCrTaTiZr高熵合金氮化物薄膜扩散阻挡性能研究》一文中研究指出目的提高铜互连扩散阻挡层的失效温度。方法采用磁控溅射方法制备了不同氮气流量下的Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系,使用真空退火炉对Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系分别进行600、700、800、900℃的真空退火,并利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电子显微镜(TEM)等表征手段对薄膜的组织结构、叁维形貌等进行表征。结果不通入氮气时,高熵合金薄膜为非晶状态。随着氮气流量的增加,薄膜的结晶性越来越好,薄膜为FCC结构。随着氮气流量的增加,高熵合金薄膜表面粗糙度呈现下降的趋势,在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的致密性最好。Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系的扩散阻挡层结构主要为非晶包裹的纳米晶结构。薄膜在800℃退火后,没有Cu-Si化合物存在,薄膜方阻为0.0937Ω/□;在900℃退火后,Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系中Si基体部分出现不规则五边形状的大颗晶粒Cu-Si化合物。结论 Al CrTaTiZrNx高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能随着氮气流量的增加,呈现先增加后降低的趋势。在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能最优,800℃高温退火后仍发挥阻挡作用。(本文来源于《表面技术》期刊2019年10期）
谈淑咏,刘晓东,霍文燚,方峰,杜兴[3]（2019）在《磁控溅射CoCrFeNi高熵合金薄膜的硬度和电阻率研究》一文中研究指出目的研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础。方法在不同溅射功率条件下(40、60、80、100 W),利用CoCr合金靶、Ni片和Fe片拼接成合金靶,采用磁控溅射法在硅基底表面沉积CoCrFeNi高熵合金薄膜。利用XRD分析薄膜相结构,通过SEM分析薄膜成分和形貌,利用显微硬度计测量薄膜硬度,采用双电测四点探针法测定薄膜电阻率。结果不同溅射功率下制备的CoCrFeNi薄膜均与基底结合良好,呈柱状生长模式,且合适的溅射功率有助于获得等摩尔比高熵合金薄膜。随着溅射功率由40 W升高至100 W,薄膜结晶性得到改善,形成简单的FCC相,(111)择优生长更加强烈,柱状生长愈加明显,晶粒尺寸增大,硬度和电阻率降低。结论溅射功率对Co CrFeNi薄膜组织和性能具有重要影响。当溅射功率为40 W时,CoCrFeNi薄膜同时具有最高硬度和最大电阻率,其值分别为940.5HV和336.5μΩ?cm。(本文来源于《表面技术》期刊2019年10期）
丁佳伟,刘炽华,王康,万松峰[4]（2019）在《沉积时间对高熵合金溅镀氮化薄膜性能的影响》一文中研究指出以高熵合金(Al Cr Nb Si Ti V)为靶材,Ar为工作气体,N2为反应气体,利用反应式直流磁控溅镀在硅晶片和车削刀具上制备高熵合氮化薄膜,探讨不同溅镀沉积时间对(Al Cr Nb Si Ti V)氮化物薄膜表层微结构及机械性质的影响。沉积薄膜中所有元素的相对原子浓度与高熵合金靶材相当。氮化物薄膜组织均匀、致密地附着于基材,薄膜表面为颗粒状组织。随着溅镀时间的增加,显示薄膜表面晶粒变大,薄膜沉积速率下降。应用高熵合金(Al Cr Nb Si Ti V) N氮化物薄膜镀层刀具干式切削S45C中碳钢圆柱工件时,工件表面的粗糙度和刀具的侧面磨损显着降低。研究显示镀层可有效提升刀具切削效率,延长刀具使用寿命,溅镀时间30 min时,车削刀具的切削性能最佳。(本文来源于《科技风》期刊2019年27期）
张艳玲,席志军[5]（2019）在《用于磁记录磁头的镍-铁-钨合金薄膜的制备及其性能》一文中研究指出采用电沉积方法制备了用于磁记录磁头的镍-铁-钨合金薄膜,并研究了钨酸钠的质量浓度对镍-铁-钨合金薄膜的成分、硬度、表面形貌及磁性能的影响。研究发现:随着钨酸钠的质量浓度的增加,镍-铁-钨合金薄膜中镍和钨的质量分数逐渐提高,而铁的质量分数有所下降。镍-铁-钨合金薄膜是一种典型的晶态颗粒膜。增加钨酸钠的质量浓度,有利于提高镍-铁-钨合金薄膜的硬度和比饱和磁化强度。当钨酸钠的质量浓度为2 g/L时,镍-铁-钨合金薄膜的矫顽力最小,约为1.96 kA/m。(本文来源于《电镀与环保》期刊2019年04期）
陈杰[6]（2019）在《铁基非晶合金薄膜压磁特性及其力敏传感器》一文中研究指出压磁式力敏薄膜传感器是近些年来国内外新兴的一种传感器。铁基非晶薄膜因其具有良好物理化学性能和优异的软磁特性,正成为该类型传感器研究的热点与方向,研究其压磁特性对开发高性能的压磁型传感器具有重大意义及实用价值。本文以铁基非晶合金薄膜为研究对象,首先较系统地总结了非晶合金薄膜压磁测试方法及其力敏传感器的结构设计,并以此为基础应用自主开发的一套完整压磁测试系统对铁基非晶合金薄膜的压磁性能及其环境稳定性进行了较系统的研究;在非晶合金表面制备了一层化学转化膜,解决了非晶合金薄膜作为力敏传感器的敏感元件所面临的封装问题,并研究了压磁型力敏薄膜传感器的芯片结构及其封装工艺;最后,初步验证了该测试方法在疲劳检测方面应用的可行性。(1)在压磁特性开放式测量装置的基础上,开发了闭合式测试系统,解决了测试系统易受外界环境干扰的问题,并提升了测试系统的灵敏度。测试系统受外界电磁场影响的距离由原有的15 mm缩减到2 mm;另外,在电感式压磁测试方法基础上,开发了可以更直观准确地反映薄膜的压磁性能变化情况的直接测量方法。(2)退火处理工艺对铁基非晶合金薄膜的压磁性能具有显着影响。Fe_(78)Si_(13)B_9,Fe_(73.5)Cu_lNb_3Si_(13.5)B_9及Fe_(71.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9V_2叁种非晶合金薄膜的最佳退火温度分别为400℃,550℃,300℃,其对应薄膜的SI_(Max)分别为0.5907、1.2998、0.1833。在相同退火处理工艺及测试条件下,Fe_(73.5)Cu_lNb_3Si_(13.5)B_9薄膜具有更优异的压磁性能。铁基薄膜对微小应力敏感,薄膜的应力敏感区间约在0~1.5 kPa之间。(3)Fe_(73.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9非晶合金薄膜在0~0.6 kPa压力带,薄膜电感值随薄膜受到的压应力增大而显着上升,即具有“正压磁效应”,其当压应力σ=0.6kPa时,SI值5.5%;环境温度对压磁效应灵敏度有显着影响,在20~30℃范围内,压磁效应和灵敏度稳定性最好。(4)薄膜的压磁效应与拉应力和压应力的合力方向θ相关。当合力方向为沿着薄膜方向的拉应力时,薄膜表现为正的压磁效应,否则呈现出负的压磁效应。Fe_(73.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9非晶合金薄膜经过退火处理后,薄膜内应力状态会发生变化,压磁效应的特征也会发生显着变化。当退火温度≥350℃时,薄膜的压磁效应类型由“正压磁效应”转变为“负压磁效应”。(5)通过转化反应成功地在Fe_(71.5)Cu_1Nb_3Si_(13.5)B_9V_2非晶合金薄膜表面制得了一种表面平整、均匀、主要成份为Cu_(0.86)Fe_(2.14)O_4和(Cu_(0.18)Fe_(0.82))Cu_(0.82)Fe_(1.18)O_4的内生转化膜,相应地其薄膜厚度约被等效地减薄了6~8μm。表面处理的最佳反应时间为15 min。表面处理后的薄膜与高分子树脂具有良好的浸润性,容易被环氧树脂封装。(6)研究了传感器的芯片结构及封装工艺对其测试性能的影响。在应力加载为0~3 kPa范围内,各结构芯片的传感器均具有良好的应力敏感性,对外呈现为正压磁效应现象。测试频率为1 kHz时,单层结构芯片的传感器压磁性能最优,其SI_(Max)表征值为1.696,灵敏度K_(Max)为3.106;测试频率为10 kHz时,叁层结构芯片的传感器压磁效应值最大。(7)应用非晶合金薄片与碳纤维制备而成的复合材料具有良好的力敏特征。复合材料材料压磁特征与外加拉应力具有明显单调相关关系,压磁特性数据结果稳定性较高。材料的K---t曲线可以直观地反映材料内部应力的突变情况。应用此复合材料制作的敏感贴片可以在一定程度上反映材料的失效问题。(本文来源于《南昌大学》期刊2019-06-30）
张青[7]（2019）在《Co基合金薄膜的制备及其磁性调控的研究》一文中研究指出选用具有高自旋极化率材料作为垂直磁性隧道结(P-MTJ)时可以获得高的隧穿磁电阻(TMR),高磁晶各向异性材料用作磁记录媒介时可以提高存储单元的热稳定性从而避免因记录单元尺寸减小而引起的超顺磁效应。本论文以典型Heeusler型自旋零带隙半导体(SGS)材料CoFeMnSi和具有高磁晶各向异性Co基(Co-Zr、Co-Hf系)无稀土硬磁材料为研究对象,使用磁控溅射法在Si衬底上制备了结构为Ta/Pd铁磁层/MgO/Pd多层膜,通过改变铁磁层厚度、MgO厚度、退火温度以及界面结构详细探讨了叁种体系的垂直磁各向异性(PMA)。研究了氢气对具有PMA效应的CoFeMnSi薄膜磁膜磁性的影响,同时通过C、N掺杂调控了Co-Zr、Co-Hf薄膜的硬磁性能.具体内容如下:首先通过调控镀膜工艺，探究了 CoFeMnSi层厚度、MgO层厚度、退火温度以及Pd/CoFeMnSi 和 CoFeMnSi/MgO 界面对 CoFeMnSi薄 PMA的影响。结果表明:Ta/Pd/CoFeMnSi(2.3 nm)/MgO(1.3 nm)/Pd结构经300℃退火后体系肯有最强的PMA效应，其回线矩形度为0.95,Keff值达到0.557×106 erg/cm3。改变测试气氛发现,氢气对该样品的磁性有显着的影响,当H2浓度由0增加至5%时,Mr由123.15 cmu/cm降低为30.75 emu/cm3,下降了75%,同时样品的PMA减弱,且该样品的磁性能在去除氢气后具有良好的可恢复性。其次研究了CoZr薄膜的硬磁性能,在Co、Zr原子比为14.31:2的CoZr薄膜中通过经入C膜制备[CoZr(2nm)C(5 nm)多层膜,薄膜经650℃退火后矫顽力为733Oe。基于CoFeMnSi薄膜PMA效应的研究结果,制备了Ta/Pd/CoZr(4.0nm)MgO/Pd多层薄膜,在300℃退火后薄膜获得了较强的PMA效应,且样品在磁场平行于膜面方向的矫顽力为1214Oe;微结构表征分析表明MgO能够调控CoZr薄膜的局域化学组成,从而促进Co11Zr2硬磁相生成,产生高的矫顽力。基于CoZr薄膜的研究方法,本实验进一步研完了CoHf薄膜的硬磁性能,通过反应溅射引入N元素对Co、Hf原子比为7.14:1的单层CoHf薄膜进行掺杂得到了矫顽力为722 Oe的磁性薄膜;引入C膜制备[CoHf(2 nm)C(8 nm)]4多层膜经650℃退火可提高其矫顽力至758Oe;通过TEM观察发现,其矫顽为来源于硬磁相Co-Hf相。Ta Pd CoHf(7.0 nm)/MgO/Pd样品经300℃退火后获得了较强的PMA效应,同时该样品在磁场平行于膜面方向的矫顽力为1229 Oe。(本文来源于《西安理工大学》期刊2019-06-30）
孔维星,巩春志,田修波[8]（2019）在《微细硬质合金刀具沉积金刚石薄膜的形核研究》一文中研究指出形核是HFCVD金刚石薄膜沉积的重要阶段,对金刚石薄膜质量至关重要。为实现金刚石薄膜在微细硬质合金刀具表面的高质量形核,选取了形核过程中的几个核心参数:热丝功率(P_f)、碳氢比(X)以及形核气压(p),设计了叁因素叁水平正交实验,采用SEM形貌分析、拉曼光谱分析以及EDS能谱分析等对形核尺寸、表面覆盖率和形核质量进行了研究。实验结果表明,热丝功率对形核尺寸和形核速率的影响最大,形核气压的影响最小,而对沉积质量影响较大的为热丝功率和形核气压,碳氢比的影响则最小。实验得到的最佳形核参数为:P_f=2 000 W,X=2.0%,p=1 400 Pa。(本文来源于《真空与低温》期刊2019年03期）
梁爽,高然,张萌颖,薛宁,祁志美[9]（2019）在《基于金银合金薄膜的高灵敏度宽光谱表面等离子体共振成像传感器》一文中研究指出报道了一种基于金银合金薄膜的宽光谱表面等离子体共振成像(SPRI)传感器,该传感器能够对吸附在薄膜局部或整个表面上的生化分子进行原位定量检测,而且与常规的金膜SPRI传感器相比,检测成本更低,检测灵敏度更高。利用质量比1:1的金银合金溅射靶在玻璃基板上淀积了厚约50 nm的均匀的金银合金薄膜。利用实验室自制的Krestchmann结构多功能平台在不同入射角下测试了金银合金薄膜被纯水覆盖后的SPR光谱和SPR彩色图像。基于色相算法计算获得了每个SPR彩像的二维色相分布及其平均色相,从而使得宽光谱SPRI传感器能够利用平均色相作为灵敏度参数进行定量检测。实验确定了平均色相对溶液折射率(RI)变化和分子吸附最为敏感的光谱区间是595–610 nm之间。在这个窄光谱范围内,平均色相与共振波长呈线性关系,其斜率为?hue/?λR=7.52 nm~(-1),这意味着基于色相的RI灵敏度是基于共振波长的RI灵敏度的7.52倍,这一结论已被实验证明。将SPRI传感器的起始共振波长设定在色相敏感光谱区间内之后,实验测得基于色相的RI灵敏度为S=29879 RIU~(-1),比在相同条件下测得的金膜SPRI的灵敏度高8倍。利用时间分辨宽光谱SPRI方法实时监测了牛血清白蛋白(BSA)分子在金银合金薄膜表面的非特异性吸附,从实验测得的平均色相随时间的变化曲线可知BSA吸附达到平衡所需时间约15 min。研究结果表明,基于金银合金薄膜的SPRI传感器具有动态定量检测蛋白质分子吸附过程的功能。(本文来源于《物理化学学报》期刊2019年06期）
朱雨婷,罗明,刘娜,肖月,王鸣[10]（2019）在《高端耐用全固态锂电池Sn-Ni合金负极薄膜材料制备及其电化学性能研究》一文中研究指出金属锡能与锂形成Li_2Sn_5、Li Sn、Li_(22)Sn_5等多种合金,理论质量比容量可达到997 mAh·g~(-1),是碳负极材料的两倍,具有良好的产业化前景,已成为全固态锂电池负极材料研发的重要方向。但是Sn负极材料在充放电过程中容易发生体积膨胀,颗粒粉化,使其与与集流体间接触性能降低,导致其循环性能较差。本文采用XRD、SEM等表征手段对薄膜材料的结构、形貌进行了分析,并对Sn-Ni合金负极薄膜材料电化学性能进行了测试分析,研究了不同溅射功率对Sn-Ni合金负极材料形貌和电化学性能的影响。(本文来源于《广东化工》期刊2019年11期）
合金薄膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
目的提高铜互连扩散阻挡层的失效温度。方法采用磁控溅射方法制备了不同氮气流量下的Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系,使用真空退火炉对Cu/AlCrTaTiZrNx/Si高熵合金薄膜体系分别进行600、700、800、900℃的真空退火,并利用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)以及透射电子显微镜(TEM)等表征手段对薄膜的组织结构、叁维形貌等进行表征。结果不通入氮气时,高熵合金薄膜为非晶状态。随着氮气流量的增加,薄膜的结晶性越来越好,薄膜为FCC结构。随着氮气流量的增加,高熵合金薄膜表面粗糙度呈现下降的趋势,在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的致密性最好。Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系的扩散阻挡层结构主要为非晶包裹的纳米晶结构。薄膜在800℃退火后,没有Cu-Si化合物存在,薄膜方阻为0.0937Ω/□;在900℃退火后,Cu/AlCrTaTiZrN20/Si薄膜体系中Si基体部分出现不规则五边形状的大颗晶粒Cu-Si化合物。结论 Al CrTaTiZrNx高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能随着氮气流量的增加,呈现先增加后降低的趋势。在氮气流量为20%时,高熵合金氮化物薄膜的扩散阻挡性能最优,800℃高温退火后仍发挥阻挡作用。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
合金薄膜论文参考文献
[1].魏白光,郝鑫禹.PtCu/C合金固溶度梯度薄膜催化剂的后处理改性和析氢性能表征[J].材料工程.2019
[2].蒋春霞,李荣斌,王馨,聂朝阳,居健.不同氮气流量AlCrTaTiZr高熵合金氮化物薄膜扩散阻挡性能研究[J].表面技术.2019
[3].谈淑咏,刘晓东,霍文燚,方峰,杜兴.磁控溅射CoCrFeNi高熵合金薄膜的硬度和电阻率研究[J].表面技术.2019
[4].丁佳伟,刘炽华,王康,万松峰.沉积时间对高熵合金溅镀氮化薄膜性能的影响[J].科技风.2019
[5].张艳玲,席志军.用于磁记录磁头的镍-铁-钨合金薄膜的制备及其性能[J].电镀与环保.2019
[6].陈杰.铁基非晶合金薄膜压磁特性及其力敏传感器[D].南昌大学.2019
[7].张青.Co基合金薄膜的制备及其磁性调控的研究[D].西安理工大学.2019
[8].孔维星,巩春志,田修波.微细硬质合金刀具沉积金刚石薄膜的形核研究[J].真空与低温.2019
[9].梁爽,高然,张萌颖,薛宁,祁志美.基于金银合金薄膜的高灵敏度宽光谱表面等离子体共振成像传感器[J].物理化学学报.2019
[10].朱雨婷,罗明,刘娜,肖月,王鸣.高端耐用全固态锂电池Sn-Ni合金负极薄膜材料制备及其电化学性能研究[J].广东化工.2019
论文知识图
