论文摘要
研究采用多弧离子镀技术镀膜时,电弧放电阶段中电弧弧斑的运动对后续膜层质量与靶材烧蚀有着非常重要的影响,目前很少有弧斑运动相关的研究。研究通过外加脉冲磁场以实现对阴极靶面磁场分布的精确调控,探究了磁场分布对弧斑运动的影响,并结合分形理论分析弧斑的运动轨迹,系统研究了电弧放电过程中靶面电弧弧斑的运动特性。结果表明,在永磁铁磁场与脉冲磁场共同作用下,弧斑在原有的随机运动基础上叠加了反安培力方向的旋转运动与向靶沿扩散的漂移运动。随着靶面总磁场强度的上升,弧斑平均运动速度增加,弧斑寿命变短;弧斑运动范围可控,最大运动范围可覆盖靶面的90%以上;分形维数可控,镍铬合金靶和钛铝合金靶弧斑轨迹图像的最大分形维数可分别为1.145和1.159,对应靶材烧蚀区域面积达到92%。通过改进工艺参数,能够显著减少大颗粒污染并提升膜层质量,同时通过维数可预测靶材烧蚀情况,能更高效地利用靶材。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 左帅,王浩琦,陈淑年,庞盼,廖斌
关键词: 多弧离子镀,弧斑运动,靶材烧蚀,脉冲磁场,分形
来源: 中国表面工程 2019年03期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 北京师范大学核科学与技术学院,北京市辐射中心
分类号: TG174.444
页码: 59-68
总页数: 10
文件大小: 4786K
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