论文摘要
利用磁过滤电弧离子镀技术在单晶Si基体表面沉积了类金刚石薄膜,研究了工作气压和偏压占空比对DLC薄膜表面形貌、沉积速率和成键情况的影响.通过扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用Image pro-plus图像处理软件统计薄膜表面大颗粒的面积和数量,通过拉曼光谱仪测量类金刚石薄膜的成键状态,结果表明,随着工作气压从0.1 Pa升至0.5 Pa,薄膜表面大颗粒的总面积逐渐增加,沉积速率下降,sp3键含量增加;偏压占空比从15%提高至75%,表面大颗粒的总面积和数量均不断升高,沉积速率下降,薄膜中sp3键含量先降后升;占空比为30%时,薄膜中sp3键含量最低.
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文章来源
类型: 期刊论文
作者: 郭朝乾,林松盛,石倩,韦春贝,李洪,汪唯,代明江
关键词: 类金刚石薄膜,磁过滤电弧离子镀,大颗粒,成键状态
来源: 材料研究与应用 2019年02期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 化学,材料科学,工业通用技术及设备
单位: 广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室
基金: 广东省自然科学基金(2018A030313660),广东省科技计划项目(2017A070701027,2014B070705007),广东省科学院创新人才引进资助项目(2018GDASCX-0948),广东省科学院科技提升项目(2017GDASCX-0111)
分类号: TB383.2;O786
页码: 83-89
总页数: 7
文件大小: 3573K
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