CL-208清洗剂对微晶玻璃超光滑表面低损伤清洗的影响

CL-208清洗剂对微晶玻璃超光滑表面低损伤清洗的影响

论文摘要

微晶玻璃因其良好的机械性能和较高温度下的化学稳定性而被用作激光陀螺反射镜基底材料,但两相多晶结构又使其清洗后易受腐蚀,损伤超光滑表面。通过对微晶玻璃化学稳定性进行分析,确定适宜清洗微晶玻璃超光滑表面的无腐蚀性清洗剂。通过对清洗剂体积浓度、清洗温度、清洗时间的研究,确定了清洗剂的清洗参数。根据优化后的工艺参数进行清洗,微晶玻璃超光滑表面粗糙度由清洗前的0.117nm降低到清洗后的0.061nm,接触角由清洗前的22.5°降低到清洗后的5.1°,镀膜后积分散射均值为8.0×10-6,最终获得微晶玻璃反射镜高洁净低损伤超光滑表面。

论文目录

  • 0 引言
  • 1 清洗机理分析
  •   1.1 微晶玻璃反射镜表面杂质种类分析
  •   1.2 清洗剂清洗机理
  •     (1)润湿机理
  •     (2)渗透机理
  •     (3)增溶机理
  •     (4)乳化机理
  •     (5)协同清洗作用
  • 2 实验设计
  • 3 实验结果与讨论
  •   3.1 清洗剂的选择实验
  •   3.2 清洗工艺研究
  •     (1)CL-208溶液体积浓度实验
  •     (2)CL-208溶液清洗温度实验
  •     (3)CL-208溶液清洗时间实验
  •   3.3 微晶玻璃反射镜清洗工艺验证
  • 4 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 林娜娜,矫灵艳,王利栓,崔莹,陈广悦

    关键词: 清洗剂,微晶玻璃,超光滑表面,低损伤清洗

    来源: 导航与控制 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工,工业通用技术及设备

    单位: 天津津航技术物理研究所

    分类号: TQ171.733;TB490

    页码: 99-106+8

    总页数: 9

    文件大小: 5193K

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