导读:本文包含了光波导薄膜论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:波导,溶胶,凝胶,薄膜,无机,无水,磁控溅射。
光波导薄膜论文文献综述
王洁[1]（2016）在《基于溶胶凝胶法的PLZT光波导薄膜的制备研究》一文中研究指出基于PLZT的波导电光器件具有驱动电压小、功耗低、偏振不敏感等优点,成为集成光学领域的研究热点。作为PLZT波导电光器件的核心,PLZT光波导薄膜的质量将直接影响其器件的性能。具有较低传输损耗的PLZT光波导薄膜的制备具有重要意义。本文采用溶胶-凝胶(Sol-Gel)法,针对PLZT光波导薄膜的制备工艺进行了研究。首先,基于当前普遍采用的金属醇盐法,对PLZT光波导薄膜的制备工艺进行了研究。针对前驱体种类、环境湿度、热处理工艺等因素的确定进行了详细的讨论,采用优化的工艺条件获得了表面均匀平整、致密性较高的双组分PLZT光波导薄膜。由此制作了PLZT脊形光波导,并实现了波导通光。其次,为了进一步降低成本,我们采用无机盐取代金属醇盐作为溶胶的主要原料,对PLZT光波导薄膜的制备工艺进行了研究。针对溶胶体系、环境湿度、热处理工艺等条件进行了优化。采用优化的工艺条件获得了厚度4.6μm左右的双组分PLZT光波导薄膜,表面均匀平整,致密性较好,从而为PLZT光波导薄膜的低成本制备提供了依据。(本文来源于《东南大学》期刊2016-03-01）
徐真武,徐键,M.Barj[2]（2012）在《无水溶胶-凝胶法制备TiO_2-有机硅杂化光波导薄膜（英文）》一文中研究指出采用无水溶胶-凝胶法合成了新型的TiO2/有机硅杂化材料,得到的低-OH含量的光学薄膜适合应用于光波导、光集成器件和光传感器等领域。以二苯基二羟基硅烷(Diphenylsilanediol,DPSD)、钛酸丁酯(tetrabutoxytitanate,TBT)和γ-甲基丙烯酰氧-基丙基叁甲氧基硅烷(γ-methacloxypropyl trimethoxysilane,MAPTMS)为先驱体,制备出折射率可调、高透明度的有机-无机杂化光波导材料,分别在石英玻璃基片和单晶硅片上旋转涂膜得到平面光波导薄膜。用Abbe折射仪测试薄膜的折射率,用紫外-可见光-近红外分光光度计测试了薄膜的光吸收性质,用Fourier红外光谱仪和Raman光谱仪测试了薄膜的红外振动吸收光谱和Raman散射光谱并讨论了材料结构,并用棱镜耦合法测试平面光波导在632.8 nm波长下的光传输损耗。结果表明:控制Ti的加入(摩尔含量7%~22%)可以调节薄膜的折射率(1.49~1.52):平面光波导的光传输损耗约为0.7 dB/cm。此外,通过软刻蚀技术和PDMS软印章在杂化薄膜表面得到了线宽约为700 nm的光栅微结构。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2012年S3期）
徐真武,徐键,徐清波,董建峰[3]（2011）在《感光溶胶—凝胶法制备光波导薄膜微图案》一文中研究指出利用溶胶-凝胶法制备了有机-无机杂化光敏性SiO2-TiO2材料,在单晶硅基片上旋转涂膜,经前烘、紫外光固化、淋洗、后烘等步骤,在硅片上得到复制有掩模微图案的薄膜。用紫外-可见光-近红外分光光度计测试了薄膜的光透过吸收性质,用Fourier红外光谱仪测试了不同紫外光辐照时间下薄膜的红外振动吸收光谱,用高倍光学显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观察制备得到的薄膜微图案。结果表明:薄膜在紫外可见光区域的光透过率约为90%,紫外光照能促使不同的官能团间发生缩聚反应,80℃前烘温度处理以及15min左右的紫外光辐照能够得到清晰、精确的薄膜微图案。(本文来源于《光电工程》期刊2011年11期）
徐真武,剪明明,徐键,徐清波,孙广清[4]（2011）在《无水溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化光波导薄膜》一文中研究指出以二苯基二羟基硅烷(diphenylsilanediol,DPSD)和γ-甲基丙烯酰氧基丙基叁甲氧基硅烷(γ-Methacryloxypropyl trimethoxy silane,MAPTMS)为前驱体,用无水溶胶-凝胶法合成出有机-无机杂化材料,将其旋涂在硅基片和石英玻璃片上得到杂化光波导薄膜。利用Abbe折射仪测试薄膜的折射率,用Fourier红外光谱仪和Raman光谱仪测试了薄膜的红外吸收光谱和Raman散射光谱,用紫外-可见-近红外分光光度计测试了薄膜的光吸收性质,用棱镜耦合法测试薄膜的光传输损耗。结果表明:控制DPSD的加入量可以调节薄膜的折射率(1.471～1.515);杂化材料在可见和近红外区域的光透过率在90%以上;在265nm处存在强烈的苯环K带吸收峰;薄膜的光传输损耗约为1.0dB/cm。(本文来源于《硅酸盐学报》期刊2011年04期）
李爽,王凤翔,付刚,季艳菊,赵俊卿[5]（2010）在《射频磁控溅射制备ZnO光波导薄膜》一文中研究指出采用射频磁控溅射技术在石英玻璃上制备出了具有高度c轴择优取向的ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、背散射分析(RBS)、棱镜耦合等技术对其结构、光波导性质进行研究,结果表明减小溅射压强有利于提高薄膜的结晶质量,增强薄膜的c轴择优取向。溅射压强越小,薄膜越厚,薄膜的有效折射率越接近晶体材料的折射率。(本文来源于《山东建筑大学学报》期刊2010年01期）
王新昌,叶志镇,赵炳辉[6]（2008）在《沉积速率对硅基LiNbO_3光波导薄膜特性的影响》一文中研究指出利用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3晶体薄膜,研究了激光脉冲频率即薄膜沉积速率对薄膜结晶质量及取向性的影响,发现激光脉冲频率对薄膜的c轴取向性基本没有影响,但对薄膜的结晶质量影响较大,激光脉冲频率为3Hz时获得了高结晶质量的c轴取向LiNbO3晶体薄膜。XPS测试表明制得薄膜的组分符合等化学计量比,AFM测试显示制备的薄膜表面光滑,表面粗糙度为4.3nm。棱镜耦合法测试表明制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光传输损耗为1.14dB/cm。(本文来源于《光电子.激光》期刊2008年11期）
王宝玲,胡丽丽,张丽艳[7]（2008）在《溶胶-凝胶法在平面光波导薄膜制备中的应用》一文中研究指出溶胶-凝胶技术作为一种湿化学法具有工艺温度低、化学均匀性好、易实现材料的掺杂等独特的优点,平面光波导薄膜是制备其他各种波导和集成光学器件的基础。近年来,采用溶胶-凝胶技术制备平面光波导薄膜已成为研究热点。该文综述了溶胶-凝胶法在制备平面光波导薄膜中的应用及其发展趋势。(本文来源于《压电与声光》期刊2008年05期）
余凌[8]（2008）在《磁控溅射法制备硅基LiNbO_3光波导薄膜材料研究》一文中研究指出LiNbO_3因具有优异的电光、压电、非线性光学等特性,已被广泛应用于声表面波及集成光学器件中。制备集成光学器件常需将LiNbO_3制成各种形式的光波导结构,但传统方法制备的光波导薄膜存在较多的缺点,因而异质LiNbO_3薄膜引起了人们的关注。与体单晶相比,异质LiNbO_3薄膜具有明显的优势。如可以获得较大的波导膜与衬底折射率差。至今人们已经采用多种薄膜生长技术来制备异质LiNbO_3薄膜,相比其它薄膜生长技术,射频磁控溅射法有许多优势。硅材料作为半导体微电子工业的基石,在硅衬底上生长LiNbO_3薄膜与目前半导体工艺兼容,有利于光电集成且价格低廉,具有广阔的应用前景。因而,开展硅基LiNbO_3薄膜的研究具有非常重要的意义。采用缓冲层是改善薄膜生长质量的常用途径,本文采用了Si_3N_4/SiO_2作为缓冲层,波导结构为LiNbO_3/Si_3N_4/SiO_2/Si。介绍了缓冲层(Si_3N_4/SiO_2)的作用以及制备方法。在Si_3N_4/SiO_2/Si衬底上制备了LiNbO_3薄膜,分析了工艺条件(工作气压、衬底温度、退火温度、氧氩比例)与薄膜质量之间的关系,得出了生长高质量C轴取向LiNbO_3薄膜的优化条件:溅射功率为30W、氧氩比例为4:6,衬底温度为550℃、工作气压为3Pa、快速退火处理(T=700℃,保持时间60s)。通过多种测试结果的分析表明:在优化条件下生长的LiNbO_3薄膜是一种柱状的多晶结构,具有良好的C轴择优取向性,表面平整和截面清晰。这种高质量的LiNbO_3薄膜在光波导和声表面波器件应用方面具有很大的潜力,有利于光声电器件的集成。(本文来源于《电子科技大学》期刊2008-04-01）
王玥,吴远大,李建光,王红杰,胡雄伟[9]（2007）在《有机/无机杂化SiO_2/Si光波导薄膜的制备及表征》一文中研究指出采用有机/无机杂化溶胶-凝胶(sol-gel)法制备了SiO2光波导薄膜材料。采用甲基丙烯酰氧丙基叁甲氧基硅烷(MAPTMS)作为反应先躯体,四丙氧基锆(ZPO)作为调节折射率的材料,正丙醇(n-propyl alcohol)为溶剂,利用旋涂方法在Si基片上成膜,采取低温长时间、高温短时间的热处理方式,制备出无龟裂薄膜。分别采用棱镜耦合仪和原子力显微镜(AFM)研究了不同溶剂量和不同ZPO量情况下,薄膜的折射率、厚度以及表面形貌变化情况。研究结果表明:通过调节正丙醇的用量,可以实现薄膜厚度可控;通过调节ZPO的用量,可以实现薄膜折射率可控;薄膜的表面平整度非常好,在5μm×5μm的扫描范围内,表面粗糙度小于0.430 nm,表面起伏度小于0.656 nm。(本文来源于《半导体光电》期刊2007年04期）
王晨[10]（2007）在《PMMA极化聚合物光波导薄膜的改性研究》一文中研究指出本文首先通过对国内外有机聚合物薄膜光波导及其光学器件的研究现状进行的大量调研,简单阐述了极化聚合物薄膜光波导的非线性光学性能及其器件化方面的研究现状,并分析了其今后的应用和发展趋势。在此基础上,确定以具有实用化前景的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物作为薄膜光波导的主体材料,采用二氧化硅(SiO_2)无机纳米颗粒和有机染料分散红DR1来进行改性,并研制极化聚合物薄膜。论文工作针对SiO_2纳米颗粒改性和DR1极化改性两方面,采用不同的成分配比和工艺条件研制改性PMMA薄膜样品,并利用各种先进测试手段对样品进行性能表征和分析。主要从改性薄膜的成膜特性、透过率、热稳定性和折射率四个方面展开讨论,综合考虑总结出了制备无机颗粒-有机聚合物体系优良可靠的工艺流程,并从各种材料成分和结构的微观作用机理上重点分析了SiO_2纳米颗粒和DR1对PMMA薄膜性能的影响。另外,针对改性PMMA薄膜的非线性光学性能研究,首先通过对几种典型有机聚合物极化和非线性测试方法的对比分析,提出了对改性PMMA薄膜进行极化和测试的基本方案和改进思路。再利用外协单位的先进设备和实验平台,搭建了较简便的电晕极化系统和非线性测试光路。在成熟的极化条件下,对SiO_2纳米颗粒改性前后的两种PMMA薄膜样品进行了电晕极化,并采用马克条纹法测试了其二阶非线性系数d33分别为5.02×10~(-9) esu和12.66×10~(-9) esu,发现纳米改性后的薄膜样品明显具有较优的二阶非线性特性。而且通过对照两种样品极化前后的透过率光谱分析,进一步验证了改性的聚合物薄膜样品具有优良的二阶非线性特性。在微观机理上,论文也从SiO_2纳米颗粒在聚合物网络中分布的微观结构,分析了薄膜样品二阶非线性特性发生变化的原因,并推断出纳米改性的PMMA薄膜具有比较优良的弛豫特性。论文中还以K-M模型和光散射理论为基础,建立研究纳米颗粒掺杂改性的PMMA聚合物材料的紫外散射模型,利用MATLAB编制了基于Mie算法的程序,并对体系纳米粒子的粒径与透过率等的定量关系进行了理论计算。将仿真结果与实验结果进行了对比分析,结果表明吻合良好。最后利用偏振对于粒子散射影响较大的特点,提出用带偏振片的紫外光源来进行制备特殊结构光波导的光刻工艺和器件加工的设想,并综合考虑自然光和偏振光的散射机理,确定了最佳掺杂颗粒的粒径在70～80 nm之间的理想范围。本文的研究工作对有机聚合物薄膜光波导及其器件的研制提供了理论和实验依据,特别是对无机纳米颗粒改性的极化聚合物薄膜体系的研究有着重要的指导意义。(本文来源于《厦门大学》期刊2007-06-01）
光波导薄膜论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
采用无水溶胶-凝胶法合成了新型的TiO2/有机硅杂化材料,得到的低-OH含量的光学薄膜适合应用于光波导、光集成器件和光传感器等领域。以二苯基二羟基硅烷(Diphenylsilanediol,DPSD)、钛酸丁酯(tetrabutoxytitanate,TBT)和γ-甲基丙烯酰氧-基丙基叁甲氧基硅烷(γ-methacloxypropyl trimethoxysilane,MAPTMS)为先驱体,制备出折射率可调、高透明度的有机-无机杂化光波导材料,分别在石英玻璃基片和单晶硅片上旋转涂膜得到平面光波导薄膜。用Abbe折射仪测试薄膜的折射率,用紫外-可见光-近红外分光光度计测试了薄膜的光吸收性质,用Fourier红外光谱仪和Raman光谱仪测试了薄膜的红外振动吸收光谱和Raman散射光谱并讨论了材料结构,并用棱镜耦合法测试平面光波导在632.8 nm波长下的光传输损耗。结果表明:控制Ti的加入(摩尔含量7%~22%)可以调节薄膜的折射率(1.49~1.52):平面光波导的光传输损耗约为0.7 dB/cm。此外,通过软刻蚀技术和PDMS软印章在杂化薄膜表面得到了线宽约为700 nm的光栅微结构。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光波导薄膜论文参考文献
[1].王洁.基于溶胶凝胶法的PLZT光波导薄膜的制备研究[D].东南大学.2016
[2].徐真武,徐键,M.Barj.无水溶胶-凝胶法制备TiO_2-有机硅杂化光波导薄膜（英文）[J].稀有金属材料与工程.2012
[3].徐真武,徐键,徐清波,董建峰.感光溶胶—凝胶法制备光波导薄膜微图案[J].光电工程.2011
[4].徐真武,剪明明,徐键,徐清波,孙广清.无水溶胶-凝胶法制备有机-无机杂化光波导薄膜[J].硅酸盐学报.2011
[5].李爽,王凤翔,付刚,季艳菊,赵俊卿.射频磁控溅射制备ZnO光波导薄膜[J].山东建筑大学学报.2010
[6].王新昌,叶志镇,赵炳辉.沉积速率对硅基LiNbO_3光波导薄膜特性的影响[J].光电子.激光.2008
[7].王宝玲,胡丽丽,张丽艳.溶胶-凝胶法在平面光波导薄膜制备中的应用[J].压电与声光.2008
[8].余凌.磁控溅射法制备硅基LiNbO_3光波导薄膜材料研究[D].电子科技大学.2008
[9].王玥,吴远大,李建光,王红杰,胡雄伟.有机/无机杂化SiO_2/Si光波导薄膜的制备及表征[J].半导体光电.2007
[10].王晨.PMMA极化聚合物光波导薄膜的改性研究[D].厦门大学.2007
论文知识图
