新型双沟槽抗弯曲大模场扇形瓣状光纤研究

论文摘要

提出了一种新型的抗弯曲大模场面积光纤方案——双沟槽辅助型扇形瓣状光纤。与传统的扇形瓣状光纤及单沟槽辅助扇形瓣状光纤相比,该结构具有更大的模场面积和更好的高阶模抑制能力。研究结果表明:在弯曲半径为20 cm,波长为1.55μm时,光纤的有效模场面积可达1096μm2,高阶模与基模损耗比大于100;此外,所提出的光纤对弯曲方向不敏感,弯曲方向在[-180°,180°]范围内变化时,光纤性能保持稳定。

论文目录

• 1 引 言
• 2 光纤结构和理论方法
•   2.1 光纤结构
•   2.2 理论方法
• 3 仿真结果分析与对比
• 4 光纤各参数的仿真结果分析
•   4.1 纤芯参数对光纤性能的影响
•   4.2 弯曲方向和半径对光纤性能的影响
•   4.3 沟槽宽度对光纤性能的影响
•   4.4 谐振环厚度对光纤性能的影响
•   4.5 波长对光纤性能的影响
•   4.6 折射率差对光纤性能的影响
•   4.7 两个谐振环联合作用下对光纤性能的影响
• 5 结 论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 王冠利,宁提纲,郑晶晶,李晶,许建,魏淮,裴丽,马绍朔

关键词: 光纤光学,光纤设计与制造,大模场面积,抗弯曲,单模运转

来源: 光学学报 2019年10期

年度: 2019

分类: 基础科学,信息科技

专业: 物理学,无线电电子学

单位: 北京交通大学电子信息工程学院全光网络与现代通信网教育部重点实验室

基金: 国家自然科学基金(61827817,61525501)

分类号: TN253

页码: 140-148

总页数: 9

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