导读:本文包含了离子束辅助沉积技术论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:离子束,薄膜,真空镀膜,技术,光栅,纳米,增透膜。
离子束辅助沉积技术论文文献综述
吴丹,谢惠民[1]（2014）在《聚焦离子束辅助沉积微区制栅技术》一文中研究指出本文主要介绍了基于聚焦离子束的辅助沉积技术的微区制备变形传感元件-光栅的制备,相比于以往的制栅方法,基于聚焦离子束辅助沉积的制栅方法对试件表面损伤小,对试件的要求低,定位方便,适合薄膜结构和微纳米器件表面的光栅制备。为了验证这种方法的有效性,采用聚焦离子束系统在铝膜/柔性基底结构表面沉积Pt,并利用铝膜表面沉积的光栅对铝膜表面裂尖的变形进行了测量,实验结果表面这种方法是行之有效的。(本文来源于《北京力学会第20届学术年会论文集》期刊2014-01-12）
丁晓非,曾葆青,林艾光,陈宝清[2]（2010）在《离子束辅助沉积技术(IBAD)在冷作模具表面改性上的应用》一文中研究指出IBAD是离子注入及沉积技术发展起来的材料表面改性方面的综合技术,工模具经IBAD处理后现场使用寿命可提高2～4倍。材料经IBAD处理后改性层的硬度明显提高、摩擦系数减小、耐磨性增强;改性层是由(Ti2N+TiN)、(α-Fe+TiN)、(α-Fe(N)+Cr7C3)叁层次组成,与基体间附着性好、晶粒细化呈纳米相。(本文来源于《真空》期刊2010年04期）
冯涛[3]（2010）在《光学薄膜离子束辅助蒸发沉积技术新进展》一文中研究指出本文介绍了光学薄膜离子束辅助蒸发沉积技术的进展,介绍了离子源技术以及离子束辅助沉积技术对薄膜特性的影响。(本文来源于《今日科苑》期刊2010年14期）
王多书,罗崇泰,陈焘,熊玉卿,刘宏开[4]（2009）在《耐磨增透SiO_2复合薄膜的离子束辅助沉积技术研究》一文中研究指出SiO_2薄膜因其具有良好的化学稳定性、机械性能和较宽的透明区而在表面工程领域得到广泛的应用,例如:可用于紫外、可见和红外区各种多层光学膜,还可用于防潮解、防腐蚀的保护膜等。本文采用电子束轰击结合离子束辅助沉积方法,研究了具有耐磨增透功能的SiO_2薄膜(本文来源于《TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》期刊2009-08-15）
杨伟声[5]（2008）在《离子束辅助沉积（IAD）真空镀膜技术研究》一文中研究指出在红外光学系统中,绝大多数红外光学元件必须镀制减反射膜来降低表面反射损失,高性能的红外减反射膜是红外光学系统的一个关键部分。同时,由于使用环境恶劣,红外光学元件通常除了必须具有较高的光学性能外,还必须具有较好的耐环境能力。在红外光谱区中经常使用高折射率基片,比如锗(n=4.0)等,由于光线在这些材料表面上的反射损耗特别严重,如果不镀减反射膜,红外光学元件是不能使用的(比如锗片如果不镀膜,其在8～12μm内只有46%的透过率)。红外锗晶体光学零件在8～12μm减反射膜的膜层强度差是当前国内外薄膜光学亟待解决的一个难题,这是由于在红外波段中,实际可供使用的镀膜材料非常有限,最常用的红外镀膜材料如:ZnS、BaF_2、CaF_2及ZnSe等质地非常疏松且极易潮湿。国内外过去一直采用传统的电子束蒸发技术在锗基片上镀制红外增透膜,但其膜层牢固度差,抗潮湿能力差,以致在恶劣环境中无法使用。本文利用离子束辅助沉积技术(IAD)在红外锗晶体表面镀制8～12μm宽带增透膜制备工艺,实现了高质量、高可靠性的红外膜层。(本文来源于《南京理工大学》期刊2008-10-01）
谭明,曹猛,邓湘云,李德军[6]（2008）在《利用离子束辅助沉积技术合成ZrB2／AlN纳米多层膜的研究》一文中研究指出纳米多层硬质薄膜的合成是目前材料科学和表面工程研究的热点之一,与单组分薄膜相比,纳米多层薄膜的硬度、韧性、抗氧化性能及耐腐蚀等机械性能和摩擦磨损性能明显改善,特别是过渡金属硼化物和氮化物本身就具有这方面的优势,由它们相互之间组成的纳米多层膜必将也存在高模量效应和高硬效应。离子束辅助沉积(IBAD)技术是集薄膜沉积和离子注入于一体的制膜技术,它具有膜基结合力强、膜层致密、可控性好等独特的优点,成为一种常用的物理气相沉积方法。本研究利用离子束辅助沉积系统合成一系列ZrB2/AlN纳米多层薄膜,利用XRD、纳米力学测试系统和多功能材料表面性能实验仪分析了辅助轰击能量、基底温度、以及调制周期对薄膜的微结构和机械性能的影响。结果表明:多层膜都显示了尖锐的ZrB2 (001)和AlN(111)择优取向,且衍射峰普遍宽化,大部分多层膜的纳米硬度与弹性模量值都高于两种个体材料硬度的平均值,同时摩擦系数及膜基结合力等性能均得到明显改善。这些改善的程度明显依赖于轰击能量、基底温度、以及多层膜的调制周期。(本文来源于《第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集（一）》期刊2008-10-01）
王叁胜[7]（2006）在《离子束辅助沉积技术及其在YBCO覆膜导体制备方面的应用进展》一文中研究指出离子束辅助沉积(IBAD)技术因为材料生长过程中辅助离子束的引入,可以显着的改变材料的微观结构和取向等,被广泛的试用于各种功能材料的制备。其中包括近年来广泛应用于YBCO涂层导体的制备。(本文来源于《中国真空学会2006年学术会议论文摘要集》期刊2006-10-01）
鲁平,聂明局,刘德明,马卫东[8]（2006）在《离子束辅助沉积真空镀膜技术制备阵列波导光栅波导材料》一文中研究指出采用离子束辅助沉积(IBAD)真空镀膜技术制备阵列波导光栅(AWG)波导材料。以固体石英玻璃材料作为衬底,采用离子束辅助沉积真空镀膜制备SiO2膜层,以实现偏振不敏感的阵列波导光栅。实验表明器件的偏振相关性大大改善,其双折射B约为1.4077×10-5,远小于二氧化硅-硅基波导结构阵列波导光栅的双折射B=2×10-4。器件的热稳定性也得以改善,当工作环境的温度变化范围为-10~70℃时,采用此方法研制的阵列波导光栅最大波长漂移为1.144 nm,小于普通的二氧化硅-硅基波导结构阵列波导光栅的波长漂移1.368 nm。(本文来源于《中国激光》期刊2006年05期）
潘峰,曾飞,赵斌[9]（2002）在《离子束辅助沉积技术制备非晶合金薄膜》一文中研究指出本文阐述了用离子束辅助沉积(IBAD)技术制备非晶合金薄膜的基本思路,介绍了本研究组在二元合金系统里制备非晶和亚稳晶相的研究结果。研究发现,在所选的几个系统里采用IBAD技术均实现了非晶化,还发现了某些新相形成和相演化现象,表现出与多层膜离子束混合(IM)不同的相形成规律。二元系统的形成热、组元金属的晶体结构和辅助离子束的能量对相的形成均有重要的影响。这些研究表明IBAD技术在二元合金系统中制备与研究非晶合金薄膜以及亚稳晶态薄膜方面具有很大的应用前景和理论意义。(本文来源于《中国真空学会五届叁次理事会暨学术会议论文集》期刊2002-12-01）
王昌祥,陈治清[10]（1999）在《离子束辅助沉积技术制备HA/Ti植入材料的设计》一文中研究指出羟基磷灰石（ＨＡ），由于具有良好的生物亲和性及与机体的骨性结合性，是金属植入材料的理想涂层材料。目前，主要采用等离子体喷涂、涂覆和烧结的方法将ＨＡ 涂覆在金属植入体表面或直接使用羟基磷灰石植入体用于临床的修复重建手术，但均因强度和涂层结合力不足，在应用中受到限制。采用离子束辅助沉积技术将离子注入与物理气相沉积相结合，进行钛及钛合金的表面处理，对制备ＨＡ／Ｔｉ植入体具有极大的优越性。本文报导离子束辅助沉积制备ＨＡ／Ｔｉ植入体的设计，并利用世界公认的Ｔｒｉｍ ９６ 程序对制备参数进行计算，为进一步的研究和应用奠定基础。(本文来源于《生物医学工程学杂志》期刊1999年02期）
离子束辅助沉积技术论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
IBAD是离子注入及沉积技术发展起来的材料表面改性方面的综合技术,工模具经IBAD处理后现场使用寿命可提高2～4倍。材料经IBAD处理后改性层的硬度明显提高、摩擦系数减小、耐磨性增强;改性层是由(Ti2N+TiN)、(α-Fe+TiN)、(α-Fe(N)+Cr7C3)叁层次组成,与基体间附着性好、晶粒细化呈纳米相。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
离子束辅助沉积技术论文参考文献
[1].吴丹,谢惠民.聚焦离子束辅助沉积微区制栅技术[C].北京力学会第20届学术年会论文集.2014
[2].丁晓非,曾葆青,林艾光,陈宝清.离子束辅助沉积技术(IBAD)在冷作模具表面改性上的应用[J].真空.2010
[3].冯涛.光学薄膜离子束辅助蒸发沉积技术新进展[J].今日科苑.2010
[4].王多书,罗崇泰,陈焘,熊玉卿,刘宏开.耐磨增透SiO_2复合薄膜的离子束辅助沉积技术研究[C].TFC’09全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2009
[5].杨伟声.离子束辅助沉积（IAD）真空镀膜技术研究[D].南京理工大学.2008
[6].谭明,曹猛,邓湘云,李德军.利用离子束辅助沉积技术合成ZrB2／AlN纳米多层膜的研究[C].第七届全国表面工程学术会议暨第二届表面工程青年学术论坛论文集（一）.2008
[7].王叁胜.离子束辅助沉积技术及其在YBCO覆膜导体制备方面的应用进展[C].中国真空学会2006年学术会议论文摘要集.2006
[8].鲁平,聂明局,刘德明,马卫东.离子束辅助沉积真空镀膜技术制备阵列波导光栅波导材料[J].中国激光.2006
[9].潘峰,曾飞,赵斌.离子束辅助沉积技术制备非晶合金薄膜[C].中国真空学会五届叁次理事会暨学术会议论文集.2002
[10].王昌祥,陈治清.离子束辅助沉积技术制备HA/Ti植入材料的设计[J].生物医学工程学杂志.1999
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