一种靶材喷砂辅助装置论文和设计

全文摘要

本实用新型公开了一种靶材喷砂辅助装置，涉及溅射靶材生产领域，包括基板，基板上表面开设有用于放置溅射靶材的安置槽，安置槽上方设置有用于遮挡靶材表面的挡板，基板内设置用于吸附挡板的吸附块，基板上还设置用于夹紧固定溅射靶材的夹紧组件。针对现有技术存在操作繁琐、加工效率不足的问题，本实用新型通过吸附块吸附挡板，使挡板压紧在靶材表面，便于进行喷砂处理，提高喷砂作业的效率。

主设计要求

1.一种靶材喷砂辅助装置，包括基板（1），其特征在于，所述基板（1）上表面开设有用于放置溅射靶材的安置槽（2），所述安置槽（2）上方设置有用于遮挡靶材表面的挡板（3），所述基板（1）内设置用于吸附所述挡板（3）的吸附块（4），所述基板（1）上还设置用于夹紧固定溅射靶材的夹紧组件。

设计方案

2.根据权利要求1所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述挡板（3）远离所述基板（1）的侧面一体设置有耐磨层（5），所述挡板（3）周侧卡接设置有密封圈（6）。

3.根据权利要求2所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述挡板（3）靠近所述基板（1）的侧面垂直固定有多个弹性片（7）。

4.根据权利要求1所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述夹紧组件包括设置于所述安置槽（2）两侧且沿所述安置槽（2）宽度方向滑移连接的夹板（8），所述基板（1）靠近所述夹板（8）的一侧螺纹连接有螺栓（9），所述螺栓（9）的一端贯穿所述基板（1）与所述夹板（8）转动连接。

5.根据权利要求4所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述夹板（8）远离所述螺栓（9）的侧面固定有缓冲层（10）。

6.根据权利要求5所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述缓冲层（10）远离所述螺栓（9）的侧面设置为锯齿面（11）。

7.根据权利要求1所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述吸附块（4）为磁性基座。

8.根据权利要求1所述的一种靶材喷砂辅助装置，其特征在于，所述基板（1）远离所述挡板（3）的侧面开设有多个安装槽（12），所述吸附块（4）固定在所述安装槽（12）内。

设计说明书

技术领域

本实用新型涉及溅射靶材生产领域，更具体地说，它涉及一种靶材喷砂辅助装置。

背景技术

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等。现有溅射靶材结构，如图1所示，包括背板13和钎焊在背板上的靶材14，背板13和靶材14均呈长条状，且靶材14的表面面积小于背板13的表面面积，其中背板13的材质为铜，靶材14的材质为钼、铝或者铜。加工时，需要对靶材14部分上表面和边缘部分进行喷砂处理，也需要对背板13部分上表面和背板的边缘部分进行喷砂处理。

现有技术进行喷砂时，通产是在背板13和靶材14上贴附胶带，接着用刀片划破胶带，并将除靶材14中部以外的胶带撕取，漏出靶材14和背板13上表面，接着对贴附有胶带的溅射靶材上表面进行喷砂处理，胶带保护靶材14中部不受喷砂处理。

现有技术实施时，由于喷砂前，需要贴附和撕取胶带，操作繁琐，耗时较大，影响加工效率。

实用新型内容

针对现有技术存在操作繁琐、加工效率不足的问题，本实用新型的目的是提供一种靶材喷砂辅助装置，便于对靶材进行保护，操作方便、提高生产效率。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种靶材喷砂辅助装置，包括基板，其特征在于，所述基板上表面开设有用于放置溅射靶材的安置槽，所述安置槽上方设置有用于遮挡靶材表面的挡板，所述基板内设置用于吸附所述挡板的吸附块，所述基板上还设置用于夹紧固定溅射靶材的夹紧组件。

通过上述技术方案，使用时，将溅射靶材放置在安置，再将挡板放置在靶材的上表面，利用吸附块吸附挡板，避免挡板的位置轻易地改变，最后对溅射板材上表面进行喷砂处理，有效简化加工操作，提高生产效率；此外，由于挡板可重复利用，而胶带遮挡，还会浪费胶带。

进一步的，所述挡板远离所述基板的侧面一体设置有耐磨层，所述挡板周侧卡接设置有密封圈。

通过上述技术方案，设置耐磨层用于提高挡板表面强度，避免其表面受喷砂受损；密封圈用于提高挡板与靶材之间贴合的紧密度。

进一步的，所述挡板靠近所述基板的侧面垂直固定有多个弹性片。

通过上述技术方案，弹性片用于增加挡板与靶材之间静摩擦，避免挡片在靶材上的位置轻易改变。

进一步的，所述夹紧组件包括设置于所述安置槽两侧且沿所述安置槽宽度方向滑移连接的夹板，所述基板靠近所述夹板的一侧螺纹连接有螺栓，所述螺栓的一端贯穿所述基板与所述夹板转动连接。

通过上述技术方案，使用时，拧动螺栓，推动夹板夹紧背板，从而将溅射靶材固定。

进一步的，所述夹板远离所述螺栓的侧面固定有缓冲层。

通过上述技术方案，缓冲层用于避免夹板与背板之间的刚性接触，保护背板。

进一步的，所述缓冲层远离所述螺栓的侧面设置为锯齿面。

通过上述技术方案，锯齿面用于增加缓冲层表面的粗糙度，提高背板的夹紧强度。

进一步的，所述吸附块为磁性基座。

通过上述技术方案，磁性基座的磁性通过扭动其自身旋钮可以控制磁力，便于取下挡板。

进一步的，所述基板远离所述挡板的侧面开设有多个安装槽，所述吸附块固定在所述安装槽内。

通过上述技术方案，将吸附块放置于安置槽内，避免吸附块凸出基板，便于与基板放置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)利用吸附块吸附挡板，增强挡板放置在靶材上的稳定性，便于对溅射板材上表面进行喷砂处理，简化加工操作，提高生产效率；

(2)进一步地，通过设置弹性片不仅能增加挡板与靶材之间的静摩擦，还能在吸附块吸附力消失后，利用弹性片将挡板顶起，便于将挡板取下；

(3)进一步地，通过螺栓带动夹板夹紧溅射靶材，便于将不同型号的溅射靶材固定在安置槽内，增强适用性。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

附图标记：1、基板；2、安置槽；3、挡板；4、吸附块；5、耐磨层；6、密封圈；7、弹性片；8、夹板；9、螺栓；10、缓冲层；11、锯齿面；12、安装槽；13、背板；14、靶材。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和有益效果更加清楚，下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步的详细说明，但本实用新型的实施方式不仅限于此。

如图1所示，一种靶材喷砂辅助装置，包括基板1，基板1上表面开设有用于放置溅射靶材的安置槽2，安置槽2上方设置有用于遮挡靶材表面的挡板3，挡板3采用钢板制成，基板1内设置用于吸附挡板3的吸附块4，吸附块4为磁性基座，磁性基座为现有技术，可通过扭动其自身的旋钮，控制其自身磁力的有无。使用时，先将溅射靶材放置于安置槽2内，再将挡板3放置于靶材14表面，遮挡靶材14中部，接着扭动磁性基座旋钮，使磁性基座吸附挡板3，挡板3压紧在靶材14上，继而进行喷砂处理，完成溅射靶材的喷砂处理。基板1远离挡板3的侧面开设有多个安装槽12，吸附块4固定在安装槽12内，避免吸附块4凸出基板1，便于滑动和放置基板1。

挡板3远离基板1的侧面经热处理加工形成耐磨层5，挡板3周侧卡接连接有密封圈6，密封圈6边缘部分凸起，且与靶材14抵接，避免挡板3与靶材14压合不紧密。挡板3靠近基板1的侧面垂直固定有多个弹性片7，弹性片7的两端固定在密封圈6上，的宽度大于密封圈6凸出挡板3的高度。通过设置弹性片7不仅能增加挡板3与靶材14之间的静摩擦，提高挡板3放置后的稳定性，此外，在吸附块4磁性消失后，弹性片7将挡板3顶起，便于将挡板3取下。

基板1上还设置用于夹紧固定溅射靶材的夹紧组件，夹紧组件包括沿安置槽2宽度方向滑移设置的夹板8，夹板8横截面呈U字形，基板1靠近夹板8的一侧螺纹连接有螺栓9，螺栓9的一端贯穿基板1与夹板8转动连接，夹板8开口的底部固定有缓冲层10，缓冲层10采用橡胶制成，用于避免夹板8与背板13之间的刚性抵接，损伤背板13。缓冲层10远离螺栓9的侧面设置为锯齿面11，增加缓冲层10与背板13之间的静摩擦。

综上所述：

本实用新型使用时，利用吸附块4吸附挡板3，增强挡板3放置在靶材14上的稳定性，便于对溅射板材上表面进行喷砂处理，简化加工操作，提高生产效率；通过设置弹性片7不仅能增加挡板3与靶材14之间的静摩擦，还能在吸附块4吸附力消失后，利用弹性片7将挡板3顶起，便于将挡板3取下；通过螺栓9带动夹板8夹紧溅射靶材，便于将不同型号的溅射靶材固定在安置槽2内，增强适用性。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

设计图

一种靶材喷砂辅助装置论文和设计

一种靶材喷砂辅助装置论文和设计

全文摘要

主设计要求

设计方案

设计说明书

设计图

相关信息详情

猜你喜欢