大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究

大尺寸氧化铝陶瓷导轨超精研抛工艺研究

论文摘要

为了提高氧化铝陶瓷导轨超精密研抛加工的工作效率,分析了研抛压力、研抛速度以及磨料添加间隔等工艺参数与研磨抛光效率的关系。首先,根据氧化铝陶瓷导轨的特性及物理参数,确定研磨抛光盘以及磨料的选型。然后以高精度平面平晶作为检测工具,平晶与导轨表面形成干涉条纹,利用条纹的数量定量表征研抛效果。最终得到氧化铝陶瓷导轨的最佳工艺参数:每个研抛压力应该控制在40 N;研抛线速度为45 m/min;研磨剂的添加时间为30 min。在同等时间内,应用此套工艺参数可以达到更高的面型精度。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 研抛装置
  • 3 研抛过程及检测
  •   3.1 研抛压力对研抛效率的影响
  •   3.2 主轴转速对研抛效率的影响
  •   3.3 磨料添加间隔对研抛效率的影响
  • 4 工艺试验
  • 5 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 刘剑,蔡黎明,成贤锴,顾国刚,于涌

    关键词: 高精度,陶瓷导轨,超精研抛

    来源: 中国光学 2019年03期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 无机化工

    单位: 长春理工大学,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,中国科学院苏州生物医学工程技术研究所

    基金: 苏州市应用基础研究项目(No.SYG201322)~~

    分类号: TQ174.6

    页码: 663-669

    总页数: 7

    文件大小: 4027K

    下载量: 161

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