导读:本文包含了直流反应磁控溅射论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献，主要关键词:磁控溅射,薄膜,氧化钨,氧化亚铜,氮化物,微结构,衬底。
直流反应磁控溅射论文文献综述写法
王美涵,高博文,陈昀[1]（2018）在《在石英纤维丝上对向靶材直流反应磁控溅射沉积氧化铝薄膜》一文中研究指出采用对向靶材直流反应磁控溅射法,以金属铝为靶材,高纯氧为反应气体,在石英纤维丝上沉积了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的晶体结构、化学组成和表面形貌进行了研究.结果表明,室温沉积的氧化铝薄膜具有无定形结构,其组成为非化学计量比的氧化铝.场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)显示在石英纤维丝上沉积的氧化铝薄膜致密且平整.沉积氧化铝薄膜的单根石英纤维丝的拉伸强度提高了1.85倍.(本文来源于《沈阳大学学报(自然科学版)》期刊2018年06期）
张泽华,赵青南,刘翔,李渊,曾臻[2]（2018）在《膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响》一文中研究指出采用直流反应磁控溅射法在FTO玻璃基片上沉积了不同厚度的氧化镍(NiO)薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、紫外可见分光光度计、电化学工作站,研究了NiO薄膜厚度对其微观结构、形貌,以及电致变色性能的影响。结果表明,随着溅射时间增加,NiO薄膜厚度增加,试样的初始态可见光谱透过率逐渐降低,(200)晶面的XRD衍射峰强度逐渐增加;以1 M KOH溶液作为电解质,随着NiO薄膜厚度增加,薄膜电荷储存量逐渐增大。NiO薄膜厚度为920 nm的试样着色效率最高,达到了23.46 cm2/C;80 nm厚度的薄膜试样光学调制幅度最大,波长550 nm处为40.85%。薄膜越厚,着、褪色时间越长;所有试样着色时间均大于褪色时间,80 nm厚度的薄膜试样的着色、褪色时间最快,分别为4.47 s和2.28 s。(本文来源于《硅酸盐通报》期刊2018年09期）
周方杨,徐进,杨喜锐,梁海龙,赵鹏[3]（2017）在《衬底温度对直流反应磁控溅射TiN电极薄膜显微结构及导电性能的影响》一文中研究指出二氧化铪基新型铁电薄膜器件等研究提出了在低衬底温度下制备高导电性和低表面粗糙度纳米超薄TiN电极薄膜的迫切需求。利用直流反应磁控溅射方法在单晶硅基片上制备TiN薄膜,衬底温度范围从室温~350℃,以XPS、XRD、AFM以及XRR等为主要手段对薄膜样品的成分、物相、表面粗糙度以及厚度和密度等进行了表征分析。结果表明在350℃的较低衬底温度下,通过减少溅射沉积时间可获得厚度<30nm的高导电性TiN电极薄膜。(本文来源于《功能材料》期刊2017年08期）
王进霞,洪瑞金,张涛,陶春先,张大伟[4]（2017）在《直流反应磁控溅射制备单一相Cu_2O薄膜及光电性能研究》一文中研究指出室温下,采用直流反应磁控溅射法制备透明导电氧化亚铜(Cu_2O)薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪及拉曼光谱仪分别研究不同沉积时间下制备的Cu_2O薄膜的晶体结构、表面形貌、电阻率及表面增强拉曼散射特性。实验结果表明,沉积时间为3和6min时,获得单一相的透明导电Cu_2O薄膜;随着沉积时间的增加,薄膜由非晶态转变为(111)方向择优生长,薄膜致密且颗粒呈球状,其粗糙度的均方根(RMS)值增大,薄膜电阻率呈下降趋势;以罗丹明B(RhB)为探针分子,表征样品表面增强拉曼活性,通过对比不同样品表面RhB的拉曼光谱,其散射强度随薄膜表面粗糙度的增大而增强。(本文来源于《功能材料》期刊2017年04期）
刘磊,王涛,何智兵,张玲,易勇[5]（2017）在《直流/射频耦合反应磁控溅射法类金刚石薄膜的制备与分析》一文中研究指出采用直流/射频耦合反应磁控溅射法在Si(111)衬底上使用高纯石墨靶材制备出了类金刚石(DLC)薄膜。分别采用表面轮廓仪、激光拉曼光谱、傅里叶变换红外光谱、X射线光电子能谱、扫描电镜、白光干涉仪、纳米压痕对薄膜的性能进行了表征和分析。研究了沉积过程中不同工作气压(0.35~1.25Pa)对薄膜沉积速率、结构、表面形貌及力学性能的影响。研究表明,随着工作气压的升高,薄膜的沉积速率逐渐减小,薄膜中sp3含量先升高后降低;薄膜表面粗糙度随工作气压的升高呈现出先降低后升高的趋势,且在工作气压为1.0Pa时达到最小值6.68nm;随着工作气压的升高,薄膜的显微硬度与体弹性模量先升高后降低,且在工作气压为1.0Pa时分别达到最大值11.6和120.7GPa。(本文来源于《功能材料》期刊2017年01期）
邓阳,黎毓灵,唐相国,张子威,周克崧[6]（2016）在《硬质合金上直流反应磁控溅射沉积纳米W基氮化物涂层初探》一文中研究指出采用直流反应磁控溅射(DCMS)技术在YG10X细晶硬质合金表面沉积纳米W基氮化物涂层,借助扫描电镜、X射线衍射仪、纳米压痕仪、摩擦磨损试验机、电化学工作站等检测手段分别对涂层和基体的形貌、组织与性能进行了表征分析。结果表明,纳米W基氮化物涂层表面呈"菜花状",亲水性较好,主要物相为W2N,晶粒平均尺寸15-20nm,表现为较强的(200)晶面择优取向,厚度约3.6μm,组织为纤细短柱状晶和无特征形态的结合;氩离子对基体表面产生了显着的刻蚀作用,涂层与基体结合良好,Lc载荷为96N时,薄膜才开始出现裂纹,涂层硬度为3368HV_(0.025),抗塑性变形能力较好;纳米W基氮化物涂层的摩擦系数为0.38,磨损率为2.04×10~(-16)m~3/N·m。耐蚀性测试结果表明,YG10X基体沉积纳米W基氮化物涂层后,腐蚀电位提高0.219V,腐蚀电流密度降低超过了一个数量级。(本文来源于《珠叁角光电产业与真空科技创新论坛暨广东省真空学会2016年学术年会论文集》期刊2016-12-02）
罗乐平,赵青南,刘旭,丛芳玲,顾宝宝[7]（2016）在《基片温度对直流反应磁控溅射法制备氧化钨电致变色材料循环寿命的影响》一文中研究指出通过选取室温、100℃、200℃叁个不同基片温度制度来探讨基片温度对氧化钨薄膜电致变色循环寿命的影响。实验结果表明:当基片温度由室温提高至100℃后,氧化钨薄膜的循环寿命有较大的改善,循环次数由806次提高至3000次。当基片温度由100℃提高至200℃时,循环寿命反而有所衰退,循环次数由3000次减少至1000次。(本文来源于《硅酸盐通报》期刊2016年06期）
刘龙,周升国,王跃臣,刘正兵,马利秋[8]（2016）在《直流反应磁控溅射沉积a-C:H薄膜的微结构和摩擦磨损行为》一文中研究指出采用直流的反应磁控溅射技术,以高纯石墨为溅射靶材和CH_4为反应气体,调节CH_4流量,在p(100)单晶硅和不锈钢基底上成功制备出系列的含氢a-C:H薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、Raman光谱、纳米压痕仪、CSM划痕测试仪、摩擦磨损试验机等测试手段对所制备含氢a-C:H薄膜的微结构、力学性能和摩擦磨损行为进行系统表征.结果表明:随着CH_4流量的增加,含氢a-C:H薄膜的致密度呈现出微弱的先增加后减小的趋势;薄膜的沉积速率随着CH_4流量的增加逐渐增加,但增幅呈现出逐渐减小趋势;随着CH_4流量的增加,薄膜中sp~3杂化键含量及其纳米硬度和杨氏模量也呈现出先增加后减小的规律;摩擦实验结果表明当CH_4流量为8 sccm,所制备的含氢a-C:H薄膜的摩擦学性能最佳,摩擦系数为0.20,磨损率为6.48×10~(-7)mm~3/(N·m).(本文来源于《有色金属科学与工程》期刊2016年01期）
罗乐平,赵青南,刘旭,王燕芳,杨振[9]（2015）在《氧化钨薄膜的直流反应磁控溅射法制备和电致变色性能表征》一文中研究指出用直流反应磁控溅射法在TTO导电玻璃上制备了非晶态氧化钨电致变色薄膜,研究了氧氩比、溅射气压、薄膜膜厚对薄膜致色效率、光学调制幅度的影响。采用FESEM、XPS对薄膜表面微观形貌及组分的化合价态进行了表征,采用紫外-可见分光光度计和电化学工作站对样品的光学性能及电致变色性能进行了研究。结果表明:当氧/氩比比值在0.2以上时,薄膜中钨元素为+6价,致色效率及可见光光学调制幅度较优;当沉积气压由1.0Pa提高至2.4Pa时,薄膜结构由致密变为疏松,致色效率及可见光光学调制幅度得到提高;当沉积气压进一步提高至3.4Pa时,电致变色性能变化幅度不大,但薄膜表面会出现几微米长的交错裂纹;当薄膜厚度由150nm依次增加至300nm、600nm时,薄膜的光学带隙由3.41eV依次降至3.32eV、3.20eV,致色效率及可见光光学调制幅度得以提高。(本文来源于《2015年全国玻璃科学技术年会论文专集》期刊2015-04-11）
姚斌,岳永高,隋瑛锐,杨景海[10]（2014）在《直流反应磁控溅射制备Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的结构和光学性能研究》一文中研究指出利用直流反应磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积了(002)方向高度择优生长的纤锌矿结构的Zn1-xCdxO(x=0,0.2)合金薄膜.利用XRD、XPS、TEM、PL对薄膜的结构和光学性能进行了详细研究.结果表明,随着x=0到x=0.2,(002)衍射峰从34.36°偏移到33.38°,(002)方向的晶面间距从0.260 nm增加到0.268 nm,Zn1-xCdxO薄膜的光学带隙也从3.20 eV减小到2.70 eV,相应的近带边发光峰从393 nm红移到467 nm.另外,我们还从能带结构观点对Zn1-xCdxO薄膜的发光机理进行了研究.(本文来源于《吉林师范大学学报(自然科学版)》期刊2014年03期）
直流反应磁控溅射论文开题报告范文
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
采用直流反应磁控溅射法在FTO玻璃基片上沉积了不同厚度的氧化镍(NiO)薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、紫外可见分光光度计、电化学工作站,研究了NiO薄膜厚度对其微观结构、形貌,以及电致变色性能的影响。结果表明,随着溅射时间增加,NiO薄膜厚度增加,试样的初始态可见光谱透过率逐渐降低,(200)晶面的XRD衍射峰强度逐渐增加;以1 M KOH溶液作为电解质,随着NiO薄膜厚度增加,薄膜电荷储存量逐渐增大。NiO薄膜厚度为920 nm的试样着色效率最高,达到了23.46 cm2/C;80 nm厚度的薄膜试样光学调制幅度最大,波长550 nm处为40.85%。薄膜越厚,着、褪色时间越长;所有试样着色时间均大于褪色时间,80 nm厚度的薄膜试样的着色、褪色时间最快,分别为4.47 s和2.28 s。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
直流反应磁控溅射论文参考文献
[1].王美涵,高博文,陈昀.在石英纤维丝上对向靶材直流反应磁控溅射沉积氧化铝薄膜[J].沈阳大学学报(自然科学版).2018
[2].张泽华,赵青南,刘翔,李渊,曾臻.膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响[J].硅酸盐通报.2018
[3].周方杨,徐进,杨喜锐,梁海龙,赵鹏.衬底温度对直流反应磁控溅射TiN电极薄膜显微结构及导电性能的影响[J].功能材料.2017
[4].王进霞,洪瑞金,张涛,陶春先,张大伟.直流反应磁控溅射制备单一相Cu_2O薄膜及光电性能研究[J].功能材料.2017
[5].刘磊,王涛,何智兵,张玲,易勇.直流/射频耦合反应磁控溅射法类金刚石薄膜的制备与分析[J].功能材料.2017
[6].邓阳,黎毓灵,唐相国,张子威,周克崧.硬质合金上直流反应磁控溅射沉积纳米W基氮化物涂层初探[C].珠叁角光电产业与真空科技创新论坛暨广东省真空学会2016年学术年会论文集.2016
[7].罗乐平,赵青南,刘旭,丛芳玲,顾宝宝.基片温度对直流反应磁控溅射法制备氧化钨电致变色材料循环寿命的影响[J].硅酸盐通报.2016
[8].刘龙,周升国,王跃臣,刘正兵,马利秋.直流反应磁控溅射沉积a-C:H薄膜的微结构和摩擦磨损行为[J].有色金属科学与工程.2016
[9].罗乐平,赵青南,刘旭,王燕芳,杨振.氧化钨薄膜的直流反应磁控溅射法制备和电致变色性能表征[C].2015年全国玻璃科学技术年会论文专集.2015
[10].姚斌,岳永高,隋瑛锐,杨景海.直流反应磁控溅射制备Zn_(1-x)Cd_xO薄膜的结构和光学性能研究[J].吉林师范大学学报(自然科学版).2014