10.6μm激光对红外成像系统干扰特性研究

论文摘要

针对10.6μm激光照射某型红外成像系统所产生的干扰效应开展研究。运用ABCD矩阵变换法实现了激光在红外光学系统每个物镜前后和激光到达探测器表面的功率密度计算;通过研究10.6μm激光对红外成像系统的作用机理,深入分析了激光照射下红外光学玻璃、红外探测器的温升效应,揭示了激光对红外成像系统图像干扰效应的一般规律;搭建了10.6μm激光作用红外成像系统试验测试平台,验证了激光照射对光学材料的温升效应、激光照射过程中红外图像的响应特征和不同强度激光照射下的红外图像干扰和饱和效应。

论文目录

• 1 引 言
• 2 10.6 μm激光对红外成像系统干扰特性分析
•   2.1 10.6 μm激光照射红外成像系统的功率密度计算
•   2.2 10.6 μm激光作用红外成像系统的物理特性分析
•     2.2.1 10.6 μm激光在红外光学材料表面的吸收和反射
•     2.2.2 10.6 μm激光对材料照射的热效应
•   2.3 10.6 μm激光作用红外成像系统的成像性能分析
• 3 实验验证
•   3.1 10.6 μm激光作用红外物镜的温升实验
•   3.2 10.6 μm激光作用红外成像系统实验
•     （a） 一次激光照射对红外图像的影响
•     （b） 不同照射强度对红外图像的影响
• 4 结束语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 荆卫国,田超,王红培,孙明昭

关键词: 激光,红外成像系统,干扰效应

来源: 激光与红外 2019年04期

年度: 2019

分类: 信息科技,基础科学,工程科技Ⅱ辑

专业: 物理学,武器工业与军事技术,无线电电子学

单位: 中国人民解放军63870部队

分类号: TJ5;TN24;TN215

页码: 497-502

总页数: 6

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