论文摘要
主要分析了不同溴甲醇溶液腐蚀方法对分子束外延用碲锌镉(211)B衬底表面粗糙度及反射式高能电子衍射(RHEED)图样的影响。实验发现化学抛光后未使用溴甲醇腐蚀的CZT(211)B衬底虽然表面粗糙度较小(小于1.0 nm),但表面RHEED衍射图样无任何衍射点或者条纹;采用0.05%溴体积比的溴甲醇溶液腐蚀CZT(211)B衬底时,即使腐蚀极短的时间,衬底表面粗糙度也达到2.0 nm以上,且表面存在高密度的柱状物,衬底表面RHEED图样呈圆点状或条纹较粗且存在亮点;采用0.01%溴体积比的溴甲醇溶液腐蚀CZT(211)B衬底,表面粗糙度可控制在1.0 nm左右,同时RHEED图样为特征的CZT(211)B晶面短条纹衍射图样,条纹清晰,同时多片衬底重复实验结果一致。同时在其上分子束外延的未优化的中波碲镉汞材料半峰宽为(49.1±5.9)arcsec,组分为0.3083±0.0003,厚度为6.54±0.019μm。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 吴亮亮,王丛,高达,王经纬,刘铭,周立庆
关键词: 碲锌镉,溴甲醇,表面粗糙度,反射式高能电子衍射,碲镉汞
来源: 激光与红外 2019年05期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 华北光电技术研究所
分类号: TG146.192
页码: 571-576
总页数: 6
文件大小: 924K
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标签：碲锌镉论文; 溴甲醇论文; 表面粗糙度论文; 反射式高能电子衍射论文; 碲镉汞论文;