集成电路制造厂化学机械研磨废水回用技术

集成电路制造厂化学机械研磨废水回用技术

论文摘要

采用混凝+板式膜+反渗透工艺对某集成电路制造厂的化学机械研磨废水进行处理。试验和实际应用结果表明:采用聚合氯化铝(Poly Aluminium Chloride,PAC)作为混凝剂,在添加浓度为0.5‰、反应pH值为8.0时,可有效降低化学机械研磨废水中溶解硅的初始浓度;配合板式膜过滤和反渗透工艺,最终产水的导电度小于50μs/cm,浊度小于1.0 NTU,溶解硅浓度小于0.001‰。产水的水质优于自来水,可回用至超纯水系统作为超纯水制备的原水。

论文目录

  • 0 引 言
  • 1 化学机械研磨废水来源
  • 2 废水水量和水质
  • 3 溶解硅的去除
  • 4 浊度的去除
  • 5 系统流程和实际运行结果
  • 6 结 语
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 王雯佳,章婷婷

    关键词: 化学机械研磨废水,混凝,板式膜,反渗透,回收水,超纯水

    来源: 上海船舶运输科学研究所学报 2019年03期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑,信息科技

    专业: 环境科学与资源利用,无线电电子学

    单位: 同济大学环境工程与科学学院,同济大学苏州研究院

    分类号: X76;TN40

    页码: 85-90

    总页数: 6

    文件大小: 643K

    下载量: 66

    相关论文文献

    标签:;  ;  ;  ;  ;  ;  

    集成电路制造厂化学机械研磨废水回用技术
    下载Doc文档

    猜你喜欢