低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究

低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究

论文摘要

利用分子动力学模拟方法对Cu13团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度、缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异。Cu13团簇的初始沉积能量范围为0.110.0 eV/atom,沉积率为1.0 clusters/ps,衬底温度分别为300,700和1 000 K。模拟结果表明:团簇初始沉积能量主要影响薄膜生长模式,当初始沉积能量为7.5 e V/atom的Cu13团簇沉积到温度为300 K的Fe(001)表面时,可形成表面光滑、内部缺陷少和较好外延度的高质量Cu薄膜。

论文目录

  • 1 引言
  • 2 分子动力学模型
  • 3 结果分析
  •   3.1 生长模式
  •   3.2 表面粗糙度
  •   3.3 缺陷分布
  •   3.4 外延度
  • 4 总结
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 张世旭,刘惠伟,贺亦文,张梅玲,李公平

    关键词: 分子动力学模拟,团簇沉积薄膜,团簇,表面

    来源: 原子核物理评论 2019年02期

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 兰州大学核科学与技术学院,兰州大学特殊功能材料与结构设计教育部重点实验室

    基金: 国家自然科学基金资助项目(11604129),兰州大学中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(lzujbky-2015-67,lzujbky-2019-56)~~

    分类号: TB383.2

    页码: 235-241

    总页数: 7

    文件大小: 2428K

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