圆柱型永磁体磁流变抛光头设计及其参数优化

论文摘要

针对传统加工技术存在表面损伤、加工效率低的问题,将极具前景的面接触式超精密磁流变抛光技术应用到3C制造业中。对圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中的抛光垫的形貌进行了研究分析,发现圆柱型永磁体磁流变抛光头在加工过程中存在一种"环状效应",利用"环状效应"对圆柱型永磁体磁流变抛光头进行了结构设计,并对其进行了设计理念分析;对圆柱型永磁体抛光头在6061的铝合金工件上进行了单因素抛光实验,通过实验获得了最优参数。研究结果表明:该圆柱型永磁体磁流变抛光头能够实现环状加工区域的高效光滑平坦化加工,工件表面粗糙度达到52 nm,材料去除率达9.1μm/min,大大提高了磁流变抛光的效率,为面形精度在微米级的超光滑平面的制造提供了一种高效的加工方法。

论文目录

• 0 引 言
• 1 新型抛光头的设计
•   1.1 圆柱型永磁体抛光垫的“环状效应”
•   1.2 设计理念
•   1.3 基于“环状效应”的方案设计
• 2 抛光头实验及参数选取
•   2.1 抛光头单因素实验
•   2.2 优化参数抛光实验
• 3 结束语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 高春甫,郑强,杨青形

关键词: 圆柱型永磁体,面接触,超精密磁流变抛光,环状效应,高效光滑平坦化加工

来源: 机电工程 2019年12期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学

单位: 浙江师范大学机械测控与设备技术研究所

基金: 国家自然科学基金资助项目(51275483)

分类号: TB306

页码: 1286-1289

总页数: 4

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