径迹纳米孔高分子膜的制备和表征

径迹纳米孔高分子膜的制备和表征

论文摘要

载能重离子辐照高分子膜形成的离子潜径迹,经后续处理可制备出离子径迹纳米孔高分子膜。本文介绍了传统的离子径迹蚀刻法与最近发展的离子径迹紫外辐照方法制备径迹纳米孔高分子膜的过程及其纳米孔膜孔径的表征。离子径迹紫外辐照方法舍弃了传统离子径迹蚀刻法的化学蚀刻过程,所制备的径迹纳米孔高分子膜的孔密度高,孔道尺寸为纳米甚至亚纳米尺度,在海水淡化、离子分离等领域具有广阔的应用前景。

论文目录

  • 1 传统离子径迹蚀刻的纳米孔高分子膜
  • 2 潜径迹纳米孔高分子膜
  • 3 径迹纳米孔高分子膜的表征
  • 4 潜径迹纳米孔形成机理
  • 5 结论与展望
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 汪茂,王雪,刘峰,王宇钢

    关键词: 核径迹,纳米孔,高分子膜,选择性离子输运

    来源: 原子能科学技术 2019年10期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

    专业: 材料科学,工业通用技术及设备

    单位: 北京大学核物理与核技术国家重点实验室

    基金: 国家自然科学基金资助项目(11335003,11875076)

    分类号: TB383.2

    页码: 2120-2128

    总页数: 9

    文件大小: 1291K

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