半导体表面THz产生及磁场增强研究

论文摘要

太赫兹辐射技术在半导体材料、高温超导材料的性质研究、断层成像技术、无标记的基因检查、细胞水平的成像、化学和生物的检查,以及宽带通信、微波定向等许多领域有广泛的应用。研究该频段的辐射源不仅将推动理论研究工作的重大发展,而且对固态电子学和电路技术的发展也将提出重大挑战。本文主要对在半导体表面的太赫兹辐射的产生和磁场增强的太赫兹辐射进行讨论,进一步认识太赫兹技术的发展。

论文目录

• 1 绪论
• 2 太赫兹产生机制
•   2.1 光整流效应
•   2.2 光登伯效应
•   2.3 光电流效应
• 3 磁场增强太赫兹辐射
• 4 总结展望

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 南思润

关键词: 太赫兹,磁场增强,半导体

来源: 科技风 2019年06期

年度: 2019

分类: 基础科学

专业: 物理学

单位: 西北工业大学附属中学

分类号: O472

DOI: 10.19392/j.cnki.1671-7341.201906159

页码: 185-186

总页数: 2

文件大小: 94K

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