常规超导体及Ⅳ-Ⅵ族薄膜的分子束外延生长及扫描隧道显微镜研究

常规超导体及Ⅳ-Ⅵ族薄膜的分子束外延生长及扫描隧道显微镜研究

论文摘要

随着材料维度的降低,表面、界面处的电子结构在各类新奇物性中往往起着至关重要的作用。低维材料与衬底界面处的相互作用将对材料的性质产生巨大影响。因此,异质结界面工程是调控低维材料物性的一个有效途径。在本论文中,我们通过分子束外延(MBE)技术,在钛酸锶衬底上外延生长了传统超导体(Sn,Pb)以及IV-VI族化合物(PbSe,SnSe2),并利用扫描隧道显微镜/扫描隧道显微谱(STM/STS)对异质结的制备及性质展开研究。论文取得的主要成果如下:(1)在钛酸锶(SrTiO3)衬底上,我们分别制备了结晶良好的弱耦合(Sn)以及强耦合(Pb)超导体小岛。低温STS观察到了Sn和Pb岛中增强的超导能隙,这可以归因于SrTiO3衬底界面处的电荷注入及界面电声耦合增强。变温隧穿电导谱研究发现,Sn岛中增强的超导能隙(2.05 meV)对应于超导转变温度Tc(8.2 K),是块体Sn单晶Tc值的2.2倍。而Pb岛中大的超导能隙(7.1 meV,4.6 meV)则表现出相对低的Tc值(9.8 K,5.4 K)。这是由于Pb岛中存在电子关联与超导性间的竞争,导致Tc没有得到明显的提高。我们的研究表明SrTiO3衬底的界面效应可以有效提高弱耦合超导体的Tc值。(2)在钛酸锶衬底上,我们外延生长了寡层PbSe薄膜。通过对不同层厚薄膜的STM/STS研究发现,薄膜和衬底间的界面应力效应,导致PbSe晶格发生褶皱,从而形成√2×√2重构。随着层厚的增加,压缩应力释放,最终在第7层PbSe中观察到一维的边缘态。基于第一性原理计算发现,压缩应力引起的晶格褶皱将会调制单层PbSe能带反转能隙的大小,导致拓扑相变的产生。因此,我们的计算和实验结果表明,外延的PbSe中确实存在可能的二维拓扑晶体绝缘体相,界面应力可以有效地调制其拓扑性质。(3)在钛酸锶衬底上,我们通过分子束外延技术生长出连续、层数可控的SnSe2薄膜。STM及拉曼测量结果表明,界面应力可以引起薄层SnSe2薄膜中强的面内压缩应力,导致2×2电荷序的形成。随着应力的释放,双层薄膜中出现1×1六角晶格和2×2电荷序共存的区域。空间分辨的STS测量发现,增强的界面超导性仅存在于1×1区域。结合实验测量和第一性原理计算结果,增强的界面超导性是界面电荷转移及应力效应共同作用的结果。

论文目录

  • 摘要
  • Abstract
  • 1 引言
  •   1.1 量子尺寸效应
  •   1.2 传统超导简介
  •   1.3 拓扑晶体绝缘体
  •     1.3.1 三维拓扑晶体绝缘体
  •     1.3.2 二维拓扑晶体绝缘体
  •     1.3.3 二维拓扑态的谱学表征
  •   1.4 电荷密度波
  •   1.5 界面效应
  •     1.5.1 界面增强电声耦合
  •     1.5.2 界面电荷转移
  •     1.5.3 界面应力效应
  •   1.6 本论文结构安排
  • 2 实验技术与原理
  •   2.1 超高真空技术(UHV)
  •   2.2 分子束外延技术(MBE)
  •   2.3 低温强磁场技术
  •   2.4 扫描隧道显微镜技术(STM)
  •     2.4.1 STM的基本原理
  •     2.4.2 扫描隧道谱(STS)
  •     2.4.3 STM的基本构造
  •   2.5 实验仪器介绍
  • 3 钛酸锶衬底上Sn、Pb岛的超导性质的STM研究
  •   3.1 研究背景
  •   3.2 实验方法
  •   3.3 外延Sn岛的STM研究
  •     3.3.1 量子阱态和超导态的分布
  •     3.3.2 增强的超导性
  •   3.4 外延Pb岛的STM研究
  •     3.4.1 量子阱态的分布
  •     3.4.2 超导性质的体积依赖关系
  •   3.5 本章小结
  • 4 外延PbSe的界面应力效应及拓扑态的STM研究
  •   4.1 研究背景
  •   4.2 实验方法
  •   4.3 PbSe的 MBE生长
  •   4.4 PbSe的 STM研究
  •     4.4.1 外延PbSe的应力效应
  •     4.4.2 边缘态的谱学表征
  •   4.5 本章小结
  • 2薄膜的界面应力及电荷转移效应的STM研究'>5 外延SnSe2薄膜的界面应力及电荷转移效应的STM研究
  •   5.1 研究背景
  •   5.2 实验方法
  • 2薄膜的MBE生长'>  5.3 SnSe2薄膜的MBE生长
  • 2薄膜的STM研究'>  5.4 SnSe2薄膜的STM研究
  • 2薄膜压缩应力的表征'>    5.4.1 SnSe2薄膜压缩应力的表征
  •     5.4.2 应力效应及衬底电荷转移
  •     5.4.3 增强的界面超导性
  •   5.5 本章小结
  • 结论
  • 致谢
  • 参考文献
  • 附录 攻读博士学位期间发表的学术论文
  • 文章来源

    类型: 博士论文

    作者: 邵志斌

    导师: 潘明虎

    关键词: 异质结工程,分子束外延,钛酸锶,扫描隧道显微镜,界面应力,界面电荷转移,电声耦合增强,超导增强,拓扑相变,电荷序,增强界面超导

    来源: 华中科技大学

    年度: 2019

    分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

    专业: 物理学,材料科学

    单位: 华中科技大学

    分类号: O469;TB306

    DOI: 10.27157/d.cnki.ghzku.2019.004050

    总页数: 119

    文件大小: 9395K

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