论文摘要
设计视像自动对准系统采用工业相机从MICRALIGN M系列投影式光刻机的双目显微镜提取含有掩模对准标记和晶圆对准标记图像,经过图像处理后获取对准标记的位置坐标以及掩模标记与晶圆标记间坐标差,控制晶圆或者掩模调整平台位置,实现光刻机的视像自动对准功能。经过现场批量生产验证,视像自动对准系统的对准精度优于1μm。标记识别率与掩模和晶圆的图像有关,对于某类产品标记识别率达到99%以上,一般类别产品标记识别率可以达到97%以上,可以满足现场自动化生产要求。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 王勇,封国齐,陈旭东,曹永辉
关键词: 光刻机,视像,自动对准,机器视觉
来源: 电子工业专用设备 2019年06期
年度: 2019
分类: 信息科技
专业: 无线电电子学,计算机软件及计算机应用
单位: 杭州电子科技大学数字媒体技术系,杭州士兰集成电路有限公司
分类号: TN305.7;TP391.41
页码: 45-49
总页数: 5
文件大小: 1443K
下载量: 139
相关论文文献
- [1].掩模版表面灰尘检查设备的优化[J]. 信息记录材料 2020(03)
- [2].基于直写技术的微纳掩模制作技术研究进展[J]. 传感器与微系统 2019(07)
- [3].基于RFID的数字化掩模制造[J]. 电子与封装 2017(08)
- [4].掩模版复印工艺图形畸变分析与改进[J]. 半导体光电 2020(05)
- [5].相移掩模清洗结晶控制[J]. 电子工业专用设备 2012(05)
- [6].基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计[J]. 制造技术与机床 2015(08)
- [7].一种掩模版制版用夹具装置的研制[J]. 电子工业专用设备 2010(11)
- [8].模糊掩模及其与传统掩模的关系[J]. 遥感技术与应用 2009(04)
- [9].掩模版制作工艺中典型问题探析[J]. 固体电子学研究与进展 2009(04)
- [10].掩模版雾状缺陷的解决方案[J]. 半导体技术 2008(10)
- [11].缺陷对极紫外掩模多层结构反射场的扰动研究[J]. 半导体光电 2020(02)
- [12].感应耦合等离子体干法刻蚀中光刻胶掩模的异常性[J]. 半导体光电 2016(01)
- [13].光掩模制造:集成电路产业的风向标——从凸版光掩模公司看产业发展[J]. 华东科技 2012(02)
- [14].凸版光掩模将提高上海合资厂的产能和技术能力[J]. 电子产品世界 2011(12)
- [15].硅各向同性深刻蚀中的多层掩模工艺[J]. 半导体光电 2010(04)
- [16].基于金属掩模的全息光刻微纳光栅制备工艺[J]. 中国激光 2019(12)
- [17].飞秒激光掩模版加工中的精度控制方法[J]. 红外与激光工程 2010(02)
- [18].利用数字光刻系统制作铬掩模的工艺[J]. 激光与光电子学进展 2010(12)
- [19].面曝光快速成形系统中掩模图形的生成方法[J]. 西安工程大学学报 2014(01)
- [20].极紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法[J]. 光学学报 2020(10)
- [21].张网焊接设备掩模夹持组件设计研究[J]. 电子技术 2020(02)
- [22].光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法[J]. 中国激光 2013(01)
- [23].无锡中微掩模电子有限公司[J]. 国防科技工业 2013(02)
- [24].线性啁啾相位掩模的研制[J]. 中国激光 2009(03)
- [25].Toppan:将向中国市场推出0.18μm光掩模[J]. 电子工业专用设备 2008(04)
- [26].基于宏微驱动的光刻机掩模台控制系统设计[J]. 自动化技术与应用 2017(10)
- [27].基于改进掩模法的自适应图像增强算法[J]. 科学技术与工程 2009(19)
- [28].间隙及掩模偏心对采用理想模板窄带算法共相拼接镜的影响[J]. 激光与光电子学进展 2020(08)
- [29].基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法[J]. 光学学报 2018(01)
- [30].液晶掩模的纳秒脉冲激光加工试验[J]. 红外与激光工程 2011(10)