全文摘要
本实用新型公开一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层：低折射率SiO2层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层：高折射率Ti3O5层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。本实用新型只需改变第一层膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。针对不同镜片基底，可免去二次优化设计，光谱曲线优化容易。
主设计要求
1.一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2层、光学厚度K1.10、几何厚度D93.42，第三层：高折射率Ti3O5层、光学厚度K2.00、几何厚度D118.25，第二层：低折射率SiO2层、光学厚度K0.35、几何厚度D29.79，第一层：高折射率Ti3O5层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06～17.06，厚度单位nm。
设计方案
1.一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度K1.10、几何厚度D 93.42，第三层：高折射率Ti 3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度K2.00、几何厚度D118.25，第二层：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度K0.35、几何厚度D 29.79，第一层：高折射率Ti 3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06～17.06，厚度单位nm。
2.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层的折射率N 2.112。
3.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述低折射率SiO2<\/sub>层的折射率N 1.477。
4.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度K0.32、几何厚度D19.06，厚度单位nm。
5.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度K0.32、几何厚度D21.06，厚度单位nm。
6.如权利要求1所述的一种高增透抗反射光学薄膜，其特征在于：所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度K0.32、几何厚度D17.06，厚度单位nm。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及一种高增透抗反射光学薄膜。
背景技术
传统镜片镀抗反射薄膜，因基底材料的折射率不同，要针对不同的材料基底分别作抗反射膜层的膜系设计，使在不同材料基底上，反射出来的AR蓝色效果是一样的，这样就造成开发打样的时间和成本上的浪费，导致工艺光谱曲线的不稳定。
现有技术对传统技术进行改善，在传统膜系多层高、低折射率的叠加搭配的基础上进行优化，但优化为高增透膜层比较困难，一般只有通过增加膜层，或更换无吸收高折射率材料来实现。在工艺调整上有敏感层，调试要复杂一些。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种高增透抗反射光学薄膜，方便调试以适用于不同镜片基底，提升膜层品质。
为了达成上述目的，本实用新型的解决方案是：
一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层：高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层：高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。
所述高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层的折射率(N)2.112。
所述低折射率SiO2<\/sub>层的折射率(N)1.477。
所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)19.06，厚度单位nm。
所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06，厚度单位nm。
所述第一层，高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)17.06，厚度单位nm。
采用上述方案后，本实用新型的四层叠加结构中，其它三层的厚度固定不变，只需改变第一层膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。针对不同镜片基底，可免去二次优化设计，光谱曲线优化容易。
以下结合附图及具体实施例对本实用新型做详细描述。
附图说明
图1是本实用新型的复合结构示意图；
图2是本实用新型实施例一的光谱曲线图；
图3是本实用新型实施例一的色谱图；
图4是本实用新型实施例二与实施例一的光谱曲线对比图；
图5是本实用新型实施例二的色谱图；
图6是本实用新型实施例三与实施例一的光谱曲线对比图；
图7是本实用新型实施例三的色谱图。
具体实施方式
如图1所示，本实用新型揭示的一种高增透抗反射光学薄膜，由四层高、低折射率的材料交错叠加而成，而且，从与基底接触向外，四层分别是第四层4：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度(K)1.10、几何厚度(D)93.42，第三层3：高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)2.00、几何厚度(D)118.25，第二层2：低折射率SiO2<\/sub>层、光学厚度(K)0.35、几何厚度(D)29.79，第一层1：高折射率Ti3<\/sub>O5<\/sub>层、光学厚度(K)0.32、几何厚度(D)21.06～17.06，厚度单位nm。
本实用新型光谱曲线优化容易，通过改变第一层1的膜厚就可以直接使用在各种材质基底的镜片上镀膜。例如：在传统镜片TAC和尼龙镜片，以及高折射率的PC镜片上面实现同一种膜系镀制AR蓝的高增透抗反射膜层。这样就减少了研发设计成本，同时产品的光谱曲线在增强或减少反射率的情况下也不会出现光谱曲线变形的现象。
实施例一
各层结构如表一：
申请码:申请号:CN201822267147.3 申请日:2018-12-29 公开号:公开日:国家:CN 国家/省市:92(厦门) 授权编号:CN209182538U 授权时间:20190730 主分类号:G02B 1/115 专利分类号:G02B1/115 范畴分类:30A; 申请人:厦门立扬光学科技有限公司 第一申请人:厦门立扬光学科技有限公司 申请人地址:361000 福建省厦门市海沧新阳工业区翁角路782号 发明人:王为城 第一发明人:王为城 当前权利人:厦门立扬光学科技有限公司 代理人:李宁 代理机构:35218 代理机构编号:厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 优先权:关键词:当前状态:审核中 类型名称:外观设计 标签：光学薄膜论文; 
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