铁皮石斛花色苷稳定性及热降解动力学研究

论文摘要

为了有效控制铁皮石斛深加工产品实际生产过程中花色苷的降解,以铁皮石斛花色苷为原料,研究不同pH、温度、光照、H2O2、Na2SO3、糖和防腐剂对花色苷稳定性的影响。结果表明:铁皮石斛花色苷的稳定性受pH影响,酸性条件下花色苷稳定性较强;花色苷热降解与一级动力学模型相符,降解速率随温度升高而增加,半衰期则随之减小,且pH8.0时活化能最小为37.17 kJ/mol,pH2.0时活化能最大为71.66 k J/mol,热降解反应为吸热非自发反应;光照和H2O2促进铁皮石斛花色苷的降解,降解速率随H2O2体积分数的增加而增加;添加0.20%Na2SO3可抑制花色苷发生降解,而0.10%、0.15%Na2SO3会加速降解;此外,蔗糖、葡萄糖和防腐剂山梨酸钾、苯甲酸钠均会加快花色苷降解。在铁皮石斛产品的实际生产和贮藏过程中,应选择对花色苷破坏性较小的辅料,并于低温和避光环境下贮藏。

论文目录

• 1 材料与方法
•   1.1 材料与仪器
•   1.2 实验方法
•     1.2.1 铁皮石斛花色苷冻干粉的制备
•     1.2.2 p H对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•     1.2.3 温度对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•     1.2.4 光照对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•     1.2.5 氧化还原剂对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•     1.2.6 糖和防腐剂对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•     1.2.7 花色苷含量的测定
•     1.2.8 花色苷残留率及热降解动力学参数的计算
•   1.3 数据处理
• 2 结果与分析
•   2.1 p H对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•   2.2 温度对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•   2.3 不同p H和温度下铁皮石斛花色苷热降解动力学研究
•   2.4 光照对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•   2.5 氧化还原剂对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
•   2.6 糖和防腐剂对铁皮石斛花色苷稳定性的影响
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 马奕瑜,陈静慧,王洪新,陈钎,张敏

关键词: 铁皮石斛,花色苷,稳定性,降解动力学

来源: 食品工业科技 2019年16期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 轻工业手工业

单位: 江南大学食品学院,国家功能食品工程技术研究中心,无锡食品科技园石斛生物科技有限公司

基金: 国家食品科学与工程一流学科建设项目(JUFSTR20180204)

分类号: TS264.4

DOI: 10.13386/j.issn1002-0306.2019.16.009

页码: 50-57

总页数: 8

文件大小: 2301K

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