全文摘要
本实用新型公开了一种原子层沉积设备用金属盒，涉及原子层沉积技术领域；包括多个通气管，所述通气管相邻两根设置有横杆，所述通气管内侧阵列设置有多个通气孔，所述通气管底部设置有进气口，所述通气管为中空结构。本实用新型除了承载晶圆的功能外，还包括气体流出供给，合二为一，气路设计更简单，实用可靠；减少了原子层沉积设备气管的数量，同时保证了充气的效果，气路的各自分开，完全杜绝了不相容气体的互相污染。
主设计要求
1.一种原子层沉积设备用金属盒，包括多根通气管（1），所述通气管（1）相邻两根设置有横杆（2），其特征在于，所述通气管（1）内侧阵列设置有多个通气孔（3），所述通气管（1）底部设置有进气口（5），所述通气管（1）为中空结构。
设计方案
1.一种原子层沉积设备用金属盒，包括多根通气管（1），所述通气管（1）相邻两根设置有横杆（2），其特征在于，所述通气管（1）内侧阵列设置有多个通气孔（3），所述通气管（1）底部设置有进气口（5），所述通气管（1）为中空结构。
2.根据权利要求1所述的原子层沉积设备用金属盒，其特征在于，所述多根通气管（1）之间相互不连通。
3.根据权利要求1所述的原子层沉积设备用金属盒，其特征在于，所述通气管（1）上通气孔（3）从上到下孔径逐渐变小。
4.根据权利要求1所述的原子层沉积设备用金属盒，其特征在于，所述多根通气管（1）顶部通过支撑杆（4）将相互连接。
5.一种原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备包括权利要求1-4任一所述的原子层沉积设备用金属盒。
6.根据权利要求5所述的原子层沉积设备，其特征在于，所述原子层沉积设备底部设置有与通气管（1）上的进气口（5）配合的突出导管。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及原子层沉积技术领域，具体是一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备。
背景技术
原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。
现有的晶圆金属盒只是用来垂直装载晶圆，原子层沉积设备的气体是通过另外的复杂渠道流向晶圆的上表面，每次跑完工艺后，金属盒需要做翻转运功，从而增加了晶圆的滑动和摩擦引起的颗粒风险。因此需要一种能够避免此类风险的解决方案。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种原子层沉积设备用金属盒及原子层沉积设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下一种技术方案：
一种原子层沉积设备用金属盒，包括多根通气管，所述通气管相邻两根设置有横杆，所述通气管内侧阵列设置有多个通气孔，所述通气管底部设置有进气口，所述通气管为中空结构。
作为本实用新型进一步的方案：所述多根通气管之间相互不连通。
作为本实用新型再进一步的方案：所述通气管上通气孔从上到下孔径逐渐变小。
作为本实用新型再进一步的方案：所述多根通气管顶部通过支撑杆相互连接。
本实用新型提供另一种技术方案：
一种原子层沉积设备，其包括上述原子层沉积设备用金属盒。
作为本实用新型再进一步的方案：所述原子层沉积设备底部设置有与通气管上的进气口配合的突出导管。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型除了承载晶圆的功能外，还包括气体流出供给，合二为一，气路设计更简单，实用可靠；减少了原子层沉积设备气管的数量，同时保证了充气的效果，气路的各自分开，完全杜绝了不相容气体的互相污染，保证工艺质量；气路的流出直接流向晶圆的上表面，避免了气体的其他复杂流向的浪费，并能提高工艺速度；朝向晶圆上表面的喷嘴大小可以根据金属糟上晶圆片的位置进行调节，保证瞬时气体流量平均分配到每片晶圆，这样可以更好地控制批量晶圆的工艺均匀性；通气孔朝向离子源，可让离子均匀有效地在工艺反应时布满每一片晶圆的表面；在自动化工艺生产时，本实用新型无需翻转，避免了晶圆由于翻转滑动摩擦而产生的颗粒。
附图说明
图1为原子层沉积设备用金属盒的结构示意图。
图中：通气管-1、横杆-2、通气孔-3、支撑杆-4、进气口-5。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
请参阅图1，本实用新型实施例1中，一种原子层沉积设备用金属盒，包括多根通气管1，所述通气管1为中空结构，所述通气管1的数量位置根据晶圆大小选择，所述多根通气管1顶部通过支撑杆4相互连接，所述通气管1相邻两根设置有横杆2，设置横杆2便于承载晶圆，所述通气管1内侧阵列设置有多个通气孔3，所述通气孔3用于对横杆2上的晶圆进行吹气，所述通气孔3与通气管1内部连通。
所述多根通气管1之间相互不连通，完全杜绝了不相容气体的互相污染，给客户更好的工艺结果，所述通气管1底部设置有进气口5，便于气源通过通气管1上的通气孔3对晶圆进行吹气。所述通气管1上的通气孔3从上到下孔径逐渐变小，便于使得每层晶圆吹气量相等。
实施例2
一种原子层沉积设备底部，其包括实施例1所述的原子层沉积设备用金属盒，其底部设置有与通气管1上的进气口5配合的突出导管，所述突出导管外接气源。
本实用新型的工作原理是：
将需要原子层沉积的晶圆放置至横杆2上，然后将金属盒与原子沉积设备底部的突出导管配合，外接气源通过突出导管进入至金属盒中的通气管1，再通过通气管上通气孔3均匀对横杆2上的晶圆进行吹气。
本实用新型的金属盒除了承载晶圆的功能外，还包括气体流出供给，合二为一，气路设计更简单明了，并实用可靠；减少了原子层沉积设备气管的数量，同时保证了充气的效果，气路的各自分开，完全杜绝了不相容气体的互相污染，给客户更好的工艺结果；气路的流出直接流向晶圆的上表面，避免了气体的其他复杂流向的浪费，并能提高工艺速度；朝向晶圆上表面的喷嘴大小可以根据金属糟上晶圆片的位置进行调节，保证瞬时气体流量平均分配到每片晶圆，这样可以更好地控制批量晶圆的工艺均匀性；通气孔3朝向离子源，可让离子均匀有效地在工艺反应时布满每一片晶圆的表面；在自动化工艺生产时，本实用新型无需翻转，避免了晶圆由于翻转滑动摩擦而产生的颗粒。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多根”的含义是两根或两根以上。限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920063121.9
申请日:2019-01-15
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:84(南京)
授权编号:CN209276630U
授权时间:20190820
主分类号:C23C 16/455
专利分类号:C23C16/455;C23C16/458
范畴分类:25F;
申请人:南京原磊纳米材料有限公司
第一申请人:南京原磊纳米材料有限公司
申请人地址:211800 江苏省南京市浦口区桥林街道步月路29号12幢305
发明人:郑锦;王新朋;刘兵武
第一发明人:郑锦
当前权利人:南京原磊纳米材料有限公司
代理人:李静
代理机构:11548
代理机构编号:北京华仲龙腾专利代理事务所(普通合伙)
优先权:SG10201805699P
关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计