一种新型直流反溅射装置论文和设计-张浙军

全文摘要

本申请公开了一种新型直流反溅射装置，包括真空腔、真空泵、供气机构、电极和开合门，所述真空泵和所述供气机构均连通所述真空腔，所述电极位于所述真空腔内，还包括凹槽导轨、悬挂架，所述悬挂架包括水平支撑板、竖直支撑板、基板保持器，所述悬挂架上设有滑轮、磁铁、磁轭、支撑板，所述水平支撑板下端面的拐角处通过螺钉安装所述滑轮，面向所述真空腔中心部位的所述竖直支撑板上固定连接所述基板保持器和所述支撑板，所述磁铁和所述磁轭固定在所述支撑板上，所述竖直支撑板的凹槽内放置电缆导管，所述电缆导管通过电池极片与所述基板保持器滑动连接。本申请内安装导轨和滑轮，利于基材在反溅射装置和溅射装置之间的安装，提高器件镀膜效率。

主设计要求

1.一种新型直流反溅射装置，包括真空腔(1)、真空泵(2)、供气机构(3)、电极(4)和开合门(5)，所述真空泵(2)和所述供气机构(3)均连通所述真空腔(1)，所述电极(4)位于所述真空腔(1)内，所述供气机构(3)与所述真空腔(1)之间设有调整闸式阀，所述开合门(5)位于所述真空腔(1)的前端面，所述开合门(5)上设有把手，其特征是：还包括凹槽导轨(6)、悬挂架(7)，所述凹槽导轨(6)的数量为四个，所述凹槽导轨(6)位于所述真空腔(1)内的底部端面上，所述悬挂架(7)的数量为两个，所述悬挂架(7)分别位于所述真空腔(1)内的左侧部位和右侧部位，所述悬挂架(7)包括水平支撑板(8)、竖直支撑板(9)、基板保持器(10)，所述悬挂架(7)上设有滑轮(11)、磁铁(12)、磁轭(13)、支撑板(14)，所述水平支撑板(8)为长方形形状，所述水平支撑板(8)下端面的拐角处通过螺钉安装所述滑轮(11)，所述滑轮(11)与所述凹槽导轨(6)对应连接，所述水平支撑板(8)上端面的中心部位焊接所述竖直支撑板(9)，所述竖直支撑板(9)的长度与所述水平支撑板(8)的长度相同，面向所述真空腔(1)中心部位的所述竖直支撑板(9)上通过螺钉固定连接所述基板保持器(10)，所述基板保持器(10)的数量为若干个，所述基板保持器(10)的正下方设有所述磁铁(12)和所述磁轭(13)，所述磁铁(12)和所述磁轭(13)固定在所述支撑板(14)上，所述支撑板(14)的侧端面通过固定件固定连接在所述竖直支撑板(9)上，所述基板保持器(10)、所述磁铁(12)和所述磁轭(13)的数量相同，所述竖直支撑板(9)上设有若干个水平凹槽，所述凹槽内放置电缆导管(15)，所述电缆导管(15)通过电池极片(16)与所述基板保持器(10)滑动连接，所述电池极片(16)为″L″型极片，所述电缆导管(15)固定在所述真空腔(1)内的后端面上。

设计方案

2.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述电极(4)的数量为若干个，所述电极(4)固定连接在所述真空腔(1)内的上端面上，若干个所述电极(4)位于所述真空腔(1)内的中心轴线上。

3.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述真空腔(1)为长方体形状。

4.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：位于所述真空腔(1)左侧部位的两个所述凹槽导轨(6)之间的距离与所述水平支撑板(8)的宽度相同，位于所述真空腔(1)右侧部位的两个所述凹槽导轨(6)之间的距离与所述水平支撑板(8)的宽度相同。

5.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述磁轭(13)位于所述磁铁(12)的正下方位置，所述磁铁(12)为永久性磁体。

6.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述支撑板(14)位于所述基板保持器(10)的正下方，所述支撑板(14)与所述基板保持器(10)的形状相同。

7.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述电极(4)连接直流脉冲电源。

8.根据权利要求1所述的一种新型直流反溅射装置，其特征是：所述电缆导管(15)内放置电源线，所述电缆导管(15)上的所述电池极片(16)与所述基板保持器(10)上的所述电池极片(16)契合，契合的所述电缆导管(15)和所述基板保持器(10)位于同一水平面上。

设计说明书

技术领域

本公开一般涉及对半导体晶片等基材的反溅射装置，具体涉及一种新型直流反溅射装置。

背景技术

在半导体器件的制造中，在基板上形成金属、氧化物等的薄膜，将其形成为所希望的图案，除了形成电极、布线以外，还形成电阻、电容器等。近年来，例如，器件的使用环境变得更加高温，要求对器件进行保护的钝化薄膜更加高密度化等，对高密度或结晶性高的薄膜的行程技术的必要性提高。同时，在对器件进行钝化薄膜保护前，需要对器件进行清洗，在清洗时使用的装置为反溅射装置。但是目前在清洗器件和镀膜时，需要人工逐个放置，耗费时间和人工，使得工作效率低下。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种新型直流反溅射装置。

第一方面，在对器件进行反溅射清洗和溅射镀膜时，能通用器件悬挂架，节省了从反溅射装置取出清洗后的器件，再放置到溅射镀膜装置中的工作量和时间，提高了工作效率。

根据本申请实施例提供的技术方案，一种新型直流反溅射装置，包括真空腔、真空泵、供气机构、电极和开合门，所述真空泵和所述供气机构均连通所述真空腔，所述电极位于所述真空腔内，所述供气机构与所述真空腔之间设有调整闸式阀，所述开合门位于所述真空腔的前端面，所述开合门上设有把手，还包括凹槽导轨、悬挂架，所述凹槽导轨的数量为四个，所述凹槽导轨位于所述真空腔内的底部端面上，所述悬挂架的数量为两个，所述悬挂架分别位于所述真空腔内的左侧部位和右侧部位，所述悬挂架包括水平支撑板、竖直支撑板、基板保持器，所述悬挂架上设有滑轮、磁铁、磁轭、支撑板，所述水平支撑板为长方形形状，所述水平支撑板下端面的拐角处通过螺钉安装所述滑轮，所述滑轮与所述凹槽导轨对应连接，所述水平支撑板上端面的中心部位焊接所述竖直支撑板，所述竖直支撑板的长度与所述水平支撑板的长度相同，面向所述真空腔中心部位的所述竖直支撑板上通过螺钉固定连接所述基板保持器，所述基板保持器的数量为若干个，所述基板保持器的正下方设有所述磁铁和所述磁轭，所述磁铁和所述磁轭固定在所述支撑板上，所述支撑板的侧端面通过固定件固定连接在所述竖直支撑板上，所述基板保持器、所述磁铁和所述磁轭的数量相同，所述竖直支撑板上设有若干个水平凹槽，所述凹槽内放置电缆导管，所述电缆导管通过电池极片与所述基板保持器滑动连接，所述电池极片为″L″型极片，所述电缆导管固定在所述真空腔内的后端面上。

本申请中，所述电极的数量为若干个，所述电极固定连接在所述真空腔内的上端面上，若干个所述电极位于所述真空腔内的中心轴线上。

本申请中，所述真空腔为长方体形状。

本申请中，位于所述真空腔左侧部位的两个所述凹槽导轨之间的距离与所述水平支撑板的宽度相同，位于所述真空腔右侧部位的两个所述凹槽导轨之间的距离与所述水平支撑板的宽度相同。

本申请中，所述磁轭位于所述磁铁的正下方位置，所述磁铁为永久性磁体。

本申请中，所述支撑板位于所述基板保持器的正下方，所述支撑板与所述基板保持器的形状相同。

本申请中，所述电极连接直流脉冲电源。

本申请中，所述电缆导管内放置电源线，所述电缆导管上的所述电池极片与所述基板保持器上的所述电池极片契合，契合的所述电缆导管和所述基板保持器位于同一水平面上。

综上所述，本申请的上述技术方案通过在反溅射装置中装入导轨和滑轮，使得器件放置架活动连接反溅射装置，利于器件在反溅射装置和溅射装置之间的安装，提高器件镀膜效率。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本申请整体装置正视外部结构示意图；

图2为本申请整体装置正视剖面结构示意图；

图3为本申请装置悬挂架正视外部结构示意图；

图4为本申请装置悬挂架局部放大结构示意图；

图5为本申请装置电缆导管和基板保持器连接结构示意图。

图中标号：1、真空腔；2、真空泵；3、供气机构；4、电极；5、开合门；6、凹槽导轨；7、悬挂架；8、水平支撑板；9、竖直支撑板；10、基板保持器；11、滑轮；12、磁铁；13、磁轭；14、支撑板；15、电缆导管；16、电池极片。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。

请参考图1、图2、图3、图4和图5，一种新型直流反溅射装置，包括真空腔1、真空泵2、供气机构3、电极4和开合门5，所述真空泵2和所述供气机构3均连通所述真空腔1，所述电极4位于所述真空腔1内，所述供气机构3与所述真空腔1之间设有调整闸式阀，所述开合门5位于所述真空腔1的前端面，所述开合门5上设有把手，还包括凹槽导轨6、悬挂架7，所述凹槽导轨6的数量为四个，所述凹槽导轨6位于所述真空腔1内的底部端面上，所述悬挂架7的数量为两个，所述悬挂架7分别位于所述真空腔1内的左侧部位和右侧部位，所述悬挂架7包括水平支撑板8、竖直支撑板9、基板保持器10，所述悬挂架7上设有滑轮11、磁铁12、磁轭13、支撑板14，所述水平支撑板8为长方形形状，所述水平支撑板8下端面的拐角处通过螺钉安装所述滑轮11，所述滑轮11与所述凹槽导轨6对应连接，所述水平支撑板8上端面的中心部位焊接所述竖直支撑板9，所述竖直支撑板9的长度与所述水平支撑板8的长度相同，面向所述真空腔1中心部位的所述竖直支撑板9上通过螺钉固定连接所述基板保持器10，所述基板保持器10的数量为若干个，所述基板保持器10的正下方设有所述磁铁12和所述磁轭13，所述磁铁12和所述磁轭13固定在所述支撑板14上，所述支撑板14的侧端面通过固定件固定连接在所述竖直支撑板9上，所述基板保持器10、所述磁铁12和所述磁轭13的数量相同，所述竖直支撑板9上设有若干个水平凹槽，所述凹槽内放置电缆导管15，所述电缆导管15通过电池极片16与所述基板保持器10滑动连接，所述电池极片16为″L″型极片，所述电缆导管15固定在所述真空腔1内的后端面上。所述电极4的数量为若干个，所述电极4固定连接在所述真空腔1内的上端面上，若干个所述电极4位于所述真空腔1内的中心轴线上。所述真空腔1为长方体形状。位于所述真空腔1左侧部位的两个所述凹槽导轨6之间的距离与所述水平支撑板8的宽度相同，位于所述真空腔1右侧部位的两个所述凹槽导轨6之间的距离与所述水平支撑板8的宽度相同。所述磁轭13位于所述磁铁12的正下方位置，所述磁铁12为永久性磁体。所述支撑板14位于所述基板保持器10的正下方，所述支撑板14与所述基板保持器10的形状相同。所述电极4连接直流脉冲电源。所述电缆导管15内放置电源线，所述电缆导管15上的所述电池极片16与所述基板保持器10上的所述电池极片16契合，契合的所述电缆导管15和所述基板保持器10位于同一水平面上。

安装方法：所述凹槽导轨6通过螺钉固定在所述真空腔1内部的地表面上，所述悬挂架7通过所述滑轮11与所述凹槽导轨6活动连接，所述竖直支撑板9和所述水平支撑板8焊接为一体结构，所述基板保持器10和所述支撑板14通过紧固件固定连接在所述竖直支撑板9的侧表面上，所述磁铁12和所述磁轭13粘贴在所述支撑板14的上端面上，所述电缆导管15的一端穿过所述真空腔1内侧的后端面，所述电缆导管15的另一端悬空放置。

使用方法：本申请使用时，先将所述悬挂架7上的所述基板保持器10上均放置需要进行反溅射的基材，然后确保所述电缆导管15和所述基板保持器10上的所述电池极片16契合，然后关闭所述开合门5，然后打开所述真空泵2，使得所述真空腔1内的压力达到一定值，然后通过调整闸式阀往所述真空腔1内输送气体，达到一定压力值后，关闭调整闸式阀，然后通过直流脉冲电源打开所述电极4对所述真空腔1内进行放电脉冲，同时使所述电缆导管15内的电线连接电源并打开，使所述基板保持器10上固定的基材通电，这时由于所述磁铁12和所述磁轭13的作用，使得所述基板保持器10上的磁场固定，利于清洗。所述电极4放电是为了使得所述真空腔1内的气体离子化，对所述基板保持器10上固定的基材通电，是为了是附着在基材上的氧化物等带电，使得这些氧化物更容易被离子化的粒子吸附而清洗掉。

本申请中还可以在开合门5上设置硅胶层以便于开合。

以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

设计图

一种新型直流反溅射装置论文和设计

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主设计要求

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