全文摘要
本实用新型涉及一种蒸镀单元及蒸镀装置。蒸镀单元包括：线性蒸镀源，用于向待蒸镀基板射出蒸镀颗粒；以及角度限制件，用于限制蒸镀颗粒的通过角度；角度限制件位于线性蒸镀源沿蒸镀方向的一侧，且角度限制件可沿线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转。应用本实用新型技术方案的蒸镀单元，由于角度限制件可沿线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转，因此能够增加蒸镀材料在角度限制件上的附着面积，延长了对线性蒸镀源进行清理的时间，从而提高蒸镀效率。
主设计要求
1.一种蒸镀单元，其特征在于，所述蒸镀单元包括：线性蒸镀源，用于向待蒸镀基板射出蒸镀颗粒；以及角度限制件，用于限制蒸镀颗粒的通过角度；所述角度限制件位于所述线性蒸镀源沿蒸镀方向的一侧，且所述角度限制件可沿所述线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转。
设计方案
1.一种蒸镀单元，其特征在于，所述蒸镀单元包括：
线性蒸镀源，用于向待蒸镀基板射出蒸镀颗粒；以及
角度限制件，用于限制蒸镀颗粒的通过角度；所述角度限制件位于所述线性蒸镀源沿蒸镀方向的一侧，且所述角度限制件可沿所述线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转。
2.根据权利要求1所述的蒸镀单元，其特征在于，所述角度限制件的个数为两个，分别为第一角度限制件和第二角度限制件，所述第一角度限制件和所述第二角度限制件分别位于所述线性蒸镀源的两侧。
3.根据权利要求2所述的蒸镀单元，其特征在于，所述第一角度限制件与所述第二角度限制件向外异向旋转。
4.根据权利要求1所述的蒸镀单元，其特征在于，所述角度限制件上设有若干个用于收集蒸镀材料的蒸镀材料附着槽。
5.根据权利要求4所述的蒸镀单元，其特征在于，若干个所述蒸镀材料附着槽的开口面积的和与所述角度限制件的表面积的比值为1:1.2～1:1.5。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的蒸镀单元，其特征在于，所述角度限制件呈筒状。
7.根据权利要求1所述的蒸镀单元，其特征在于，所述蒸镀单元还包括位于所述线性蒸镀源与所述角度限制件之间的挡板。
8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括如权利要求1～7中任一项所述的蒸镀单元。
9.根据权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置包括蒸镀单元组，所述蒸镀单元组包括至少两个所述蒸镀单元。
10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，至少两个所述蒸镀单元沿线性排列，且相邻两个所述蒸镀单元的高度不同。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别是涉及一种蒸镀单元及蒸镀装置。
背景技术
有机电致发光显示器是一种基于有机电致发光材料的电流型半导体发光器件，其主要依靠金属电极向发光层施加一定的电压，使发光层中的有机电致发光材料发光，从而实现图像响应。它具有自主发光、高对比度、广视角、快速响应等特性，而被誉为下一代“梦幻显示器”。
制作有机电致发光显示器时，一般利用线性蒸镀源蒸镀工艺将有机电致发光材料或者金属材料蒸镀到目标基板上，以制作其中的发光层或者电极。然而，采用传统的线性蒸镀源进行蒸镀时，角度限制板上会积累大量蒸镀材料，影响成膜的均一性，因此需要定时对线性蒸镀源进行清理，从而影响了蒸镀效率。
实用新型内容
基于此，有必要针对如何提高蒸镀效率的问题，提供一种能够提高蒸镀效率的蒸镀单元及蒸镀装置。
一种蒸镀单元，所述蒸镀单元包括：
线性蒸镀源，用于向待蒸镀基板射出蒸镀颗粒；以及
角度限制件，用于限制蒸镀颗粒的通过角度；所述角度限制件位于所述线性蒸镀源沿蒸镀方向的一侧，且所述角度限制件可沿所述线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转。
在其中一个实施例中，所述角度限制件的个数为两个，分别为第一角度限制件和第二角度限制件，所述第一角度限制件和所述第二角度限制件分别位于所述线性蒸镀源的两侧。
在其中一个实施例中，所述第一角度限制件与所述第二角度限制件可向外异向旋转。
在其中一个实施例中，所述角度限制件上设有若干个用于收集蒸镀材料的蒸镀材料附着槽。
在其中一个实施例中，若干个所述蒸镀材料附着槽的开口面积与所述角度限制件的表面积的比值为1:1.2～1:1.5。
在其中一个实施例中，所述角度限制件呈筒状。
在其中一个实施例中，所述蒸镀单元还包括位于所述线性蒸镀源与所述角度限制件之间的挡板。
此外，还提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀单元。
在其中一个实施例中，所述蒸镀装置包括蒸镀单元组，所述蒸镀单元组包括至少两个所述蒸镀单元。
在其中一个实施例中，至少两个所述蒸镀单元沿线性排列，且相邻两个所述蒸镀单元的高度不同。
应用本实用新型技术方案的蒸镀单元，由于角度限制件可沿线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转，因此能够增加蒸镀材料在角度限制件上的附着面积，延长了对线性蒸镀源进行清理的时间，从而提高蒸镀效率。
附图说明
图1为本实用新型一实施方式的蒸镀单元的平面示意图；
图2为本实用新型一实施方式的蒸镀单元的立体示意图；
图3为本实用新型一实施方式的蒸镀装置的平面示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。
请参见图1和图2，本实用新型一实施方式的蒸镀单元100包括线性蒸镀源110以及角度限制件120。
其中，线性蒸镀源110用于向待蒸镀基板(未图示)射出蒸镀颗粒。蒸镀源例如是在内部容纳蒸镀材料的容器。线性蒸镀源110具有若干个用于射出蒸镀材料的蒸镀开口112，且若干个蒸镀开口112沿线性排布。
其中，角度限制件120用于限制蒸镀颗粒的通过角度。角度限制件120位于线性蒸镀源110沿蒸镀方向的一侧，且角度限制件120可沿线性蒸镀源110的线性方向为轴心旋转，如图1中所示。
具体的，由于线性蒸镀源110射出的蒸镀颗粒的发散方向是分散的，角度限制件120则阻挡了部分蒸镀颗粒，从而限制了蒸镀颗粒的通过角度，如图1中所示，两条虚线之间的夹角即为蒸镀颗粒的通过角度。
其中，蒸镀方向指的是蒸镀颗粒的射出方向，也即自线性蒸镀源110向待蒸镀基板的方向。
其中，线性蒸镀源110的线性方向指的是若干个蒸镀开口112的排布方向，如图2中箭头所指的方向。
在前述实施方式的基础上，角度限制件120的个数为两个，分别为第一角度限制件121和第二角度限制件122，第一角度限制件121和第二角度限制件122分别位于线性蒸镀源110的两侧。可以通过调节第一角度限制件121和第二角度限制件122的高度和距离来调节蒸镀角度。例如，保持第一角度限制件121和第二角度限制件122的距离不变，降低二者的高度，则使蒸镀角度变大；反之则可使蒸镀角度变小。
较优地，第一角度限制件121和第二角度限制件122在线性蒸镀源110的两侧呈对称分布，如图1所示。这样有利于成膜均匀。
在前述实施方式的基础上，第一角度限制件121和第二角度限制件122可向外异向旋转，即二者的旋转方向为向外异向旋转，分别为图1中两个箭头所指的方向。随着蒸镀时间的延长，第一角度限制件121和第二角度限制件122上附着有部分蒸镀材料，由于第一角度限制件121和第二角度限制件122的旋转方向为向外异向旋转，一方面，能够在线性蒸镀源110的外部收集蒸镀材料，减少蒸镀材料在角度限制件120上的堆积厚度；另一方面，能够使蒸镀材料远离线性蒸镀源110，避免堵住蒸镀开口。上述整体能够延长线性蒸镀源110的保养时间，提高蒸镀效率。
当然，第一角度限制件121和第二角度限制件122的旋转方向均不限于此。例如，第一角度限制件121和第二角度限制件122的旋转方向亦可以为同向旋转或者向内异向旋转。
在前述实施方式的基础上，角度限制件120上设有若干个用于收集蒸镀材料的蒸镀材料附着槽(未图示)。在蒸镀过程中，部分蒸镀材料可落入蒸镀材料附着槽内，因此，蒸镀材料附着槽能够进一步增加蒸镀材料的附着面积，以附着较多的蒸镀材料。
需要说明的是，蒸镀材料附着槽的开口形状和深度等可根据实际需求进行设置。
在前述实施方式的基础上，若干个蒸镀材料附着槽的开口面积与角度限制件的表面积的比值为1:1.2～1:1.5。此时，蒸镀材料附着槽的槽深较浅，能够避免产生材料堆积掉落，同时降低后期清洗的难度。
在前述实施方式的基础上，角度限制件120呈筒状。筒状的角度限制件120能够保持均匀的旋转速度，同时可在蒸镀过程中保持固定的蒸镀角度，有利于蒸镀。当然，角度限制件120的形状和尺寸均不限于此。
在前述实施方式的基础上，蒸镀单元100还包括位于线性蒸镀源110与角度限制件120之间的挡板130。挡板130能够避免蒸镀材料射出蒸镀单元100，有利于清理。
此外需要说明的是，本实用新型的蒸镀单元中，线性蒸镀源、角度限制件以及挡板的结构均不限于此。
应用本实用新型技术方案的蒸镀单元，由于角度限制件可沿线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转，因此能够增加蒸镀材料在角度限制件上的附着面积，延长了对线性蒸镀源进行清理的时间，从而提高蒸镀效率。
本实用新型一实施方式的蒸镀装置包括上述的蒸镀单元。
请参见图3，在前述实施方式的基础上，蒸镀装置300包括蒸镀单元组，蒸镀单元组包括至少两个蒸镀单元。蒸镀过程中，至少两个蒸镀单元射出的蒸镀颗粒相互融合，有利于在待蒸镀基板上形成较均匀的膜层。
在前述实施方式的基础上，至少两个蒸镀单元沿线性排列，且相邻两个蒸镀单元的高度不同。
较优地，请一并参见图3，一实施方式的蒸镀单元组包括三个蒸镀单元，且位于外侧的两个蒸镀单元100以中间位置的蒸镀单元200为中心呈镜像对称分布。此外，三个蒸镀单元采用相同的线性蒸镀源，且中间位置的蒸镀单元的角度限制件的高度小于其余两个蒸镀单元的角度限制件的高度。
蒸镀时，外侧的两个蒸镀单元100作为主蒸镀单元(Host)，中间位置的蒸镀单元200为次蒸镀单元(Dopant)，用于补偿主蒸镀单元射出的蒸镀颗粒。这三个蒸镀单元射出的蒸镀颗粒能够较好地相互融合，有利于在待蒸镀基板上形成较均匀的膜层。
需要说明的是，上述蒸镀单元组中蒸镀单元的位置不限于此，还可以根据实际情况设置调整。此外，蒸镀单元组中蒸镀单元的个数亦不限于此。
应用本实用新型技术方案的蒸镀装置，由于角度限制件可沿线性蒸镀源的线性方向为轴心旋转，因此能够增加蒸镀材料在角度限制件上的附着面积，延长了对线性蒸镀源进行清理的时间，从而提高蒸镀效率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920091609.2
申请日:2019-01-21
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:13(河北)
授权编号:CN209722278U
授权时间:20191203
主分类号:C23C14/24
专利分类号:C23C14/24
范畴分类:25F;
申请人:云谷（固安）科技有限公司
第一申请人:云谷（固安）科技有限公司
申请人地址:065500 河北省廊坊市固安县新兴产业示范区
发明人:李灏;罗志忠
第一发明人:李灏
当前权利人:云谷（固安）科技有限公司
代理人:唐清凯
代理机构:44224
代理机构编号:广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计