论文摘要
设计了一种化学机械抛光设备(CMP)的底座系统,主要包括地脚、方钢管、大铝板等。针对CMP设备在使用中存在的噪声偏大,高转速下的电机转动引起的共振影响晶圆抛光质量问题,通过MSC Patran分析软件,对CMP的主要部件——底座系统,进行了振动模态分析,并在此基础上进行了以改变基频为目标的结构优化设计。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 胡孝伟,刘福强,刘志伟,张金环
关键词: 化学机械抛光设备,底座系统,频率分析,结构优化
来源: 电子工业专用设备 2019年02期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺
单位: 中国电子科技集团公司第四十五研究所
分类号: TG175
页码: 59-62
总页数: 4
文件大小: 1357K
下载量: 36
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标签:化学机械抛光设备论文; 底座系统论文; 频率分析论文; 结构优化论文;