导读:本文包含了数字掩模论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:数字,光刻,技术,微光,曲面,聚合物,器件。
数字掩模论文文献综述
刘玉环,赵圆圆,董贤子,郑美玲,段宣明[1]（2019）在《数字掩模投影光刻的极限分辨率研究》一文中研究指出研究了一种基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模投影光刻(DMPL)技术,以400 nm飞秒激光作为光源,结合高缩放比投影系统,来缩小光刻胶与光子束的反应区域,通过调控不同DMD像素投影光场强度分布,将投影光刻的线宽分辨率推进至亚微米尺度,实现了具有跨尺度加工能力(单次曝光面积在百微米以上,曝光精度在百纳米)的DMPL技术,同时详细对比分析了DMPL中存在的几何和物理光学模型,阐明了像素个数与加工结构尺寸的关系,并进一步基于物理光学模型分析了DMPL中极限分辨率的关键科学问题。(本文来源于《量子电子学报》期刊2019年03期）
赵海利,马玉录,马康,刘嵩,谢林生[2]（2018）在《基于DMD数字掩模的光引发表面ATRP制备聚乙二醇聚合物刷微图案》一文中研究指出以基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模技术为基础,以叁(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3)为光氧化还原催化剂,以低聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯为单体,通过光引发表面原子转移自由基聚合(ATRP)在硅片表面实现了复杂图案形状聚乙二醇(PEG)聚合物刷微图案的快速制备(小于10 min)。原子力显微镜(AFM)和光学显微镜测试结果表明该方法能够实现最小10μm图形线宽的PEG聚合物刷微图案,且聚合物刷厚度和图形精度受到催化剂浓度、单体浓度的影响。综合考量聚合物刷厚度与图形精度,优选的催化剂浓度为1. 22 mmol/L,单体浓度为1. 22 mol/L。激光共聚焦显微镜表征异硫氰酸荧光素(FITC)染色牛血清蛋白在PEG聚合物刷微图案表面的吸附结果表明,所得PEG聚合物刷微图案能够在硅片表面实现不同区域的非特异性抗蛋白吸附反差。(本文来源于《高分子材料科学与工程》期刊2018年09期）
许昕[3]（2018）在《基于DMD数字掩模光刻的液晶光控取向技术研究》一文中研究指出随着液晶光电子技术、微电子学、微光学技术的飞速发展,信息时代对器件的微型化、集成化、轻量化的技术要求,液晶显示技术得到了不断的提升与改进,在光纤通信、光计算、光互联等诸多高科技领域均展现出极为广阔的应用前景。光刻技术随着对液晶器件制作低成本、灵活度高的需求,无掩模版光刻技术成为一项研究热点。本文基于DMD数字掩模光刻机投影光刻系统的基本构造与二次曝光干涉理论,将投影光刻系统的可行性与可编程化数字液晶器件灵活性相结合,代替了传统光刻中的掩模版,通过将数字化掩模图案曝光,制作理想微光学元件,实现了可重复擦写光刻方式,降低了掩模版制作成本,相比于其它光刻技术有明显优势。因此本论文在该基础上进行了以下研究:(1)研究了 DMD数字掩模光刻机的内部基本结构与光刻流程,利用合理的光学元器件,对该仪器分辨率进行测试。二维液晶光栅在玻璃基板上进行偏振成像,分别在DMD2倍、5倍、10倍叁个物镜下曝光液晶光栅数字化掩模图案。在光学显微镜下测量其大致周期范围,最终得到各个镜头下分辨率值。(2)根据液晶基本器件结构的原理与功能,我们在DMD下制作了棋格结构与消偏器结构。四张互补棋格图案在旋转特定偏振角度后,可在光学显微镜下得到边界清晰的图样,旋转偏振片,相邻方格有明显明暗变化。消偏器为一种图案化延迟器,可使出射光的偏振度降低,将偏振光转化为非偏振光。实验中验证可通过4像素液晶光栅结构图分别偏振一定角度制作。在偏振片转动后光轴随之移动,得到动态图样。经检测,其可将线偏光转换为随机偏振光,符合空域消偏器光电特性,实现消偏。(本文来源于《湖南大学》期刊2018-05-14）
徐涛[4]（2017）在《逐点优化数字掩模制作曲面微透镜阵列研究》一文中研究指出曲面微透镜阵列以其大视场、对动态物体捕捉灵敏度高以及设计自由度高等诸多优点,使其在国防科技、航空航天等现代工业领域有着越来越重要的地位。目前国内外现有的曲面微透镜阵列的制作技术主要是以逐点法加工制作为主,然而这类制作方法周期长,成本高、效率低,在工业化的应用上有很大的限制。本文基于数字掩模光刻技术,利用平面数字掩模的灰度值对曝光剂量进行纵向调制,从而在平面基底上形成曲面微透镜阵列结构。本文深入研究数字掩模、曝光剂量、制作深度的映射关系,研究了基于数字掩模光刻技术制作曲面微透镜阵列的方法。该方法与目前存在的方法相比,是一种快速的制作方法,具有制作周期短、制作成本低、制作效率高等优点。该方法在工业化应用和产业化制作上有着很好的前景,可以广泛的应用于现代化微纳加工制作等相关领域。主要研究的内容:1.研究了基于数字掩模光刻技术制作曲面透镜阵列的方法。该方法利用SLM对曝光剂量调制,从而精确调制基底每一个像素点的曝光剂量,最终使得基底接收到的曝光剂量近似达到曲面微透镜阵列的结构。2.针对积分算法设计数字掩模的受限性,本文提出逐点优化方法来设计曲面微透镜阵列的数字掩模。并对该方法的机理、系统以及数字掩模设计进行了深入的研究。最后通过实验进行了曲面微透镜阵列的制作,并且对实验结果的尺寸与设计轮廓的尺寸进行了比较研究,从而验证该方法的可行性。3.针对曲面微透镜阵列制作时阵列的尺寸受限于制作系统的制作面积,研究了数字掩模曲面拼接方法用来制作大面积曲面微透镜阵列。并对拼接算法、拼接数字掩模设计以及在拼接过程中的缝隙问题进行了深入研究,最后通过实验进行了大面积曲面微透镜阵列的拼接制作,并且对实验结果尺寸与设计轮廓尺寸进行了比较研究,从而验证大面积曲面微透镜阵列拼接制作的可行性。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2017-06-01）
张志敏[5]（2016）在《曲面3D微结构数字掩模光成型关键技术研究》一文中研究指出曲面3D微结构有着紧凑的结构、独特的色散性能以及灵活的设计自由度等优点,已经逐渐发展成为现代工业及国防科技领域重要的基础器件。目前国内外已有的曲面3D微结构制作技术以逐点加工为主,生产成本高、周期长、效率低,严重制约了其工业化应用。本文基于数字掩模投影光刻技术,以利用平面数字掩模在平面基底上投影光成型曲面3D微结构为关键突破点,深入研究了制作深度、曝光剂量及数字掩模间的映射关系,提出了一种以制作高度可编程控制的二维小方柱阵列近似表达曲面3D微结构轮廓的方法,即曲面3D微结构数字掩模光成型方法。与既有制作方法相比,该方法是一种低成本、短周期,高效率的数字化快速面成型方法,可广泛应用于现代化微纳加工领域。主要研究内容和成果包括:1、首次提出了曲面3D微结构数字掩模光成型方法。该方法充分利用SLM对曝光剂量的数字化离散调制,以投影光刻的方式,在平面基底上曝光经SLM调制的二维方柱形曝光剂量阵列。并针对曲面3D微结构轮廓不能通过单一坐标系精确表达的难题,有针对性的提出了迭代优化设计算法与逐点优化设计算法,以适用于曲面3D微结构的数字掩模优化设计。2、针对单灰阶数字掩模制作曲面3D微结构的曲率受限性,提出了一种曲面3D微结构多灰阶数字掩模光成型方法。该方法以多幅数字掩模迭加曝光的方式,突破数字掩模可用于曝光剂量调制的灰度级数上限,进一步实现数字掩模光成型的制作曲率突破。研究了叁种曲面3D微结构几何结构拆分方法,并提出了与几何结构拆分方法相对应的数字掩模设计算法。3、针对数字掩模光成型系统的制作面积受限性,提出了曲面3D微结构数字掩模曲面拼接光成型方法。该方法利用多幅数字掩模水平拼接,并通过严格控制各掩模衔接处的灰度,使得拼接处的曲率变化符合曲面结构的整体曲率变化规律,并提出了相应的曲面拼接数字掩模设计算法。4、针对曲面3D微结构数字掩模光成型技术的横、纵向制作分辨受限性,提出了数字掩模曲面移动光成型方法,该方法有机的结合静、动两种数字掩模曝光形式,拓展了其制作适用范围,分两类移动方式研究了数字掩模曲面移动光成型掩模生成算法;提出了数字掩模曲面分形光成型方法,该方法将有周期结构的曲面3D微结构按其周期排形式抽样扩大周期拆分为多个分曲面3D微结构,有效的降低了数字掩模的空间频率,减小精缩透镜的低通特性对制作精度的影响,分两类分形方式研究了数字掩模曲面分形光成型数字掩模生成算法。(本文来源于《南京航空航天大学》期刊2016-09-01）
崔晓峰[6]（2015）在《基于数字掩模技术聚合物二元相位光栅的制作》一文中研究指出聚合物材料具有质量轻,化学合成简便且成本低廉的特点,与硅基等无机材料相比,具有较高的电光耦合系数、热光耦合系数以及较低的介电常数,另其制作工艺不仅大规模集成电路的制作工艺兼容,且加工温度更低,因此,关于使用光学聚合物材料设计、制作微光学元件,以及应用聚合物微光学元件等方面研究工作也越来越多。本文首先对聚合物微光学元件的应用发展趋势进行了说明,然后对目前国内外使用光学聚合物材料制作微光学元件的技术进行了综述。针对光敏聚合物其折射率会随着曝光剂量变化的特点,并结合数字掩模光刻技术能对曝光剂量灵活调节,发现数字掩模光刻技术在制作聚合物微光学元件是具有优势的。本文随后对数字掩模光刻系统的结构、工作原理、光路、掩模生成系统等进行了详细介绍。利用光敏聚合物光学材料因与其敏感波长相互作用吸收能量其折射率发生变化这一特点,选用商业光敏聚合物SU-8作为加工材料,通过设计计算机数字掩模来控制曝光剂量,研究了SU-8的临界曝光剂量和曝光深度,以作为制作聚合物微光学元件的依据。然后以聚合物二元相位光栅为例,本文详细给出了基于精缩投影数字掩模光刻系统制作聚合物二元相位光栅的工艺流程并对制作样品进行表征。使用数字掩模对曝光剂量进行调节,在聚合物薄膜中形成期望折射率分布,从而制作出二元相位光栅。应用数字掩模技术制作光敏聚合物相位光栅掩模制作成本低、效率高、操作灵活,且制作工程中无需显影、刻蚀等工艺,避免了物理和化学腐蚀以及高温过程中对器件造成损伤,工艺得到了大大简化。本文也对聚合物二元相位光栅样品的衍射性质进行了实验验证。衍射实验结果表明,通过控制数字掩模的曝光时间,就可以直接改变光敏光学聚合物的折射率和折射率分布。因此,通过调节曝光剂量,数字掩模光刻技术在使用光敏聚合物制作微光学元件是可行的。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2015-06-01）
崔晓峰,高益庆,况国文,李凤[7]（2014）在《基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作》一文中研究指出本文提出了一种新的基于精缩投影数字掩模光刻系统的制作微光学元件的技术一数字光漂白技术。利用光敏聚合物光学材料因与其敏感波长相互作用吸收能量其折射率发生变化这一特点,通过设计计算机数字掩模的灰度分布和曝光时间来控制曝光剂量,可以在聚合物薄膜中形成期望的折射率和折射率分布,从而制作出具有相应功能的微光学元件。新技术所需掩模制作成本低、效率高、操作灵活,且制作工程中无需显影、刻蚀等工艺,避免了物理和化学腐蚀以及高温过程等对器件造成损伤,工艺得到了大大简化。本文使用数字光漂白技术制作了聚(本文来源于《第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集》期刊2014-10-26）
罗宁宁[8]（2012）在《微光学器件数字掩模制作技术的研究》一文中研究指出微光学器件具有体积小、重量轻、造价低等优点，并能实现普通光学器件难以实现的微小、阵列、集成、成像和波面转换等新功能。在国内，微光学的加工水平滞后于微光学器件的设计理论这个问题尤为突出，本文的研究工作就是在此背景下开展的。本论文以改进数字光刻分辨率和拓展数字掩模制作技术的应用为目标，从数字灰阶渐变、数字移动、数字旋转、数字分形等系列数字掩模制作技术入手，进行了深入的研究。主要研究内容和成果包括：1、针对数字灰阶掩模技术中如何精确地用多台阶去替代连续表面轮廓这个关键问题，提出了改进的数字灰阶渐变掩模技术。分析了DMD像素误差，为了减小由DMD像素误差引入的制作误差，确定了掩模特征尺寸的选取原则，并建立了根据曝光量分布计算数字灰阶渐变掩模的理论公式。数字灰阶掩模技术为精确控制轮廓面形提供了思路。2、通过深入研究单向数字移动掩模法，提出了多向数字移动掩模法，采用数字掩模的多向移动实现曝光量积累；提出了基于微切片投影的数字移动掩模法，采用多个微切片投影形成的子掩模组合单向移动实现曝光量积累。多向数字移动掩模法和微切片投影数字移动掩模法拓展了数字移动掩模技术的应用范围。3、提出了基于相位的数字旋转掩模设计法，适用于制作旋转对称相位分布的器件；提出了微切片投影数字旋转掩模设计法，适用于制作非严格对称相位分布的微光学器件。微切片投影数字旋转掩模法，为制作复杂连续浮雕微光学器件提供了思路。4、针对DMD数字掩模制作系统中投影物镜低通特性导致的光刻图形边缘模糊问题，提出了位编码数字分形掩模方法，适用于制作连续微结构。对周期扩大分形掩模方法进行改进，适用于制作离散周期结构。将改进的周期扩大分形与位编码分形相结合，用于制作某些特殊微结构。通过计算参与成像的衍射级次及能量分布，理论上说明了数字分形掩模技术能够改善光刻分辨率，开展的验证性实验也证明了数字分形掩模技术的可行性。(本文来源于《南京航空航天大学》期刊2012-12-01）
钟希欢[9]（2012）在《动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究》一文中研究指出随着微光学器件的应用越来越广泛，微光学器件正在朝更微形化、阵列化、结构复杂化等多个方面发展，并已经取得了很多卓有成效的研究。针对不同场合的需求，对微光学器件的光学性能提出了越来越高的要求，所以对微光学器件的制作方法也提出了越来越高的要求。微光学器件的制作方法从传统的机械方法到数字化掩模光刻技术，技术的每一次更新都相应的解决了微光学器件制作过程中的难题。本文基于对多种数字无掩模光刻技术的充分研究，针对其中存在的不足之处，创新的提出来一种制作微光学器件的方法。本文研究的主要工作有：1.通过研究了大量最新的相关资料，透彻分析了各种微光学器件制作方法的优点和缺点之后，引出本文研究的主要内容——动态分形数字掩模技术，以及分析研究该技术的必要性。2.详细阐述了动态分形数字掩模技术的原理及其相关理论。并且提出了动态分形曝光法的设计以及分析了该曝光方法提出的必要性,通过实验证明动态分形曝光方法有利于制作出叁维面形良好的微透镜及其阵列。3.阐述了动态分形数字掩模技术的设计理论，提出了动态分形量化法以及对曝光时间确定简便的方法。随后利用MATLAB软件对动态分形数字掩模技术的理论进行了仿真实验，实验结果证明该技术的动态分形量化法和确定曝光时间的理论是完全可行的。4.在设计曝光掩模图形的过程中，创新的将叁种制作方法的数字掩模曝光图形设计在同一幅掩模图形中并进行曝光，实验得到了本文预想的结果。随后还利用动态分形数字掩模技术进行微透镜阵列和光栅阵列的制作实验，以进一步验证该技术的可行性与正确性。本文还对实验工艺方面进行了一些探讨，对那些会影响到微透镜及其阵列叁维面形的因素寻找了一些改善方法。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2012-06-01）
海霞[10]（2011）在《基于数字掩模光快速成形技术的微光学元件制作工艺研究》一文中研究指出随着光电子技术的迅速发展，以及光、机、电一体化的发展趋势，对光学系统及其元器件提出了微型化、阵列化与集成化的应用要求。微光学元件具有体积小、重量轻、造价低以及可以实现普通光学元件难以实现的微小、阵列、集成、波面转换等功能，成为制造微光电子系统的关键元件。目前，微光学的制作技术主要有基于光刻的有掩模和无掩模制作技术，基本的制作工艺来源于大规模集成电路中的微电子平面加工技术，对于制作表面叁维浮雕复杂结构的微光学器件存在自身的局限。而先进制造技术中的光快速成形技术用于微细加工，可以较好地实现叁维复杂结构的器件制作。本文研究一种基于光快速成形技术的一种新的微光学元件制作工艺——数字掩模光快速成形工艺，该工艺利用DMD输出数字掩模图形，通过投影成像系统对光敏树脂逐层曝光、固化、迭加，制作成形微光学元件。克服了传统制作工艺难于适应微光学元件叁维浮雕轮廓面型结构制作要求和集成制作应用的缺陷。主要研究工作如下：首先，设计完善了一套微光学元件制作系统，对实验系统的硬件进行了改进、设计和相应的性能分析，主要包括：光源光路的改进及设计、DMD入射光路的改进及设计、掩模板的设计与实现、步进电机微进给装置的控制、以及成形装置中的树脂槽、载物台、防粘光窗设计制作等。其次，根据所研究的制作工艺制定了相应的工艺流程，对制作环境、涂层工艺、以及光敏树脂进行了选取，并对系统的关键工艺进行了实验研究，包括对系统固化光路进行了调节及光斑的质量测试，并对特定的光敏树脂曝光量阈值和透射深度等特性参数进行了测定。最后，对龙基光栅、菲涅耳透镜、闪耀光栅等几种常见的微光学元件进行了实验制作,实验结果证明了该工艺的可行性。同时从硬件系统误差和工艺误差两方面对制作误差进行了分析，并提出了相应的解决措施以便提高元件加工精度。研究表明，该工艺与传统的光固化成形工艺相比，具有设备结构简单、成本低、效率高等优点，可实现微光学元件任意叁维结构的制作，加工灵活，对发展MOEMS有重要意义。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2011-06-01）
数字掩模论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
以基于数字微镜器件(DMD)的数字掩模技术为基础,以叁(2-苯基吡啶)合铱(Ir(ppy)3)为光氧化还原催化剂,以低聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯为单体,通过光引发表面原子转移自由基聚合(ATRP)在硅片表面实现了复杂图案形状聚乙二醇(PEG)聚合物刷微图案的快速制备(小于10 min)。原子力显微镜(AFM)和光学显微镜测试结果表明该方法能够实现最小10μm图形线宽的PEG聚合物刷微图案,且聚合物刷厚度和图形精度受到催化剂浓度、单体浓度的影响。综合考量聚合物刷厚度与图形精度,优选的催化剂浓度为1. 22 mmol/L,单体浓度为1. 22 mol/L。激光共聚焦显微镜表征异硫氰酸荧光素(FITC)染色牛血清蛋白在PEG聚合物刷微图案表面的吸附结果表明,所得PEG聚合物刷微图案能够在硅片表面实现不同区域的非特异性抗蛋白吸附反差。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
数字掩模论文参考文献
[1].刘玉环,赵圆圆,董贤子,郑美玲,段宣明.数字掩模投影光刻的极限分辨率研究[J].量子电子学报.2019
[2].赵海利,马玉录,马康,刘嵩,谢林生.基于DMD数字掩模的光引发表面ATRP制备聚乙二醇聚合物刷微图案[J].高分子材料科学与工程.2018
[3].许昕.基于DMD数字掩模光刻的液晶光控取向技术研究[D].湖南大学.2018
[4].徐涛.逐点优化数字掩模制作曲面微透镜阵列研究[D].南昌航空大学.2017
[5].张志敏.曲面3D微结构数字掩模光成型关键技术研究[D].南京航空航天大学.2016
[6].崔晓峰.基于数字掩模技术聚合物二元相位光栅的制作[D].南昌航空大学.2015
[7].崔晓峰,高益庆,况国文,李凤.基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作[C].第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集.2014
[8].罗宁宁.微光学器件数字掩模制作技术的研究[D].南京航空航天大学.2012
[9].钟希欢.动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究[D].南昌航空大学.2012
[10].海霞.基于数字掩模光快速成形技术的微光学元件制作工艺研究[D].南昌航空大学.2011
论文知识图
