导读:本文包含了光学发射谱论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:光学,等离子体,有效温度,薄膜,气相,化学,氮化。
光学发射谱论文文献综述
葛大勇,赵庆勋,杨保柱,何雷[1]（2011）在《光学发射谱在硫掺杂金刚石薄膜制备中的应用》一文中研究指出利用辉光等离子体辅助热丝化学气相沉积法,制备硫掺杂n型金刚石薄膜,利用光学发射谱技术对其生长环境进行原位诊断,分析合成机理及生长的最佳条件。结果表明,合成金刚石薄膜的合成反应区中主要粒子为CH、CH+、活性H原子,提高工作气压和硫碳配比浓度有利于提高硫掺杂浓度,在低温条件下合成了高品质的硫掺杂n型金刚石薄膜。(本文来源于《实验技术与管理》期刊2011年11期）
于威,王保柱,杨彦斌,路万兵,傅广生[2]（2005）在《螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的光学发射谱研究》一文中研究指出利用光学发射谱技术对螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的等离子体内活性粒子的光发射特征进行了原位测量 .研究了薄膜沉积过程中各实验参量对活性基团SiH ,Hβ 以及Hα 的发射谱强度的影响 .实验结果表明 ,静态磁场的加入可显着提高反应气体的解离效率 ;适当的氢稀释可以提高氢活性粒子的浓度 ,而过高的氢稀释比将使含硅活性基团浓度显着减小 ;提高射频馈入功率整体上可以使各活性粒子的浓度增加 ,并有利于提高到达衬底表面氢活性粒子的相对比例 .结合螺旋波等离子体色散关系和等离子体特点对以上结果进行了分析 .该结果为螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了基础数据 .(本文来源于《物理学报》期刊2005年05期）
于威,王淑芳,任国斌,李晓苇,张连水[3]（2002）在《等离子体增强化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的光学发射谱研究》一文中研究指出利用光学发射谱技术对直流辉光放电等离子体增强的化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的等离子体进行了原位诊断 ,结果表明主要的辐射有N2 的第二正系跃迁、N+2 的第一负系跃迁、CN和NH的紫外跃迁。研究了气源中氢气含量、放电电流及沉积气压的变化对N2 (337 1nm) ,N+2 (391 4nm)和CN(388 3nm)辐射强度的影响 ,并在此基础上探讨了这几种跃迁的激发机制 ,其结果为氮化碳合成中优化沉积参数、控制实验过程提供了依据(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2002年01期）
丁世学,易良红[4]（2000）在《几何薄光学厚吸积盘发射谱的研究》一文中研究指出在几何薄光学厚稳态吸积盘的假定下，通过标准吸积盘理论，讨论了其所具有的黑体谱性质，并且计算了吸积盘的有效温度．所得的发射谱特征较好地符合Ｐｒｉｎｇｌｅ等人的结论．计算的吸积盘的表面温度比较Ｓｈａｋｕｒａ和Ｓｕｎｙａｅｖ所得结果要高１－２个数量级，这一结果说明吸积盘的辐射不仅位于紫外波段， 而且可能位于 Ｘ射线波段．(本文来源于《襄樊学院学报》期刊2000年05期）
光学发射谱论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
利用光学发射谱技术对螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的等离子体内活性粒子的光发射特征进行了原位测量 .研究了薄膜沉积过程中各实验参量对活性基团SiH ,Hβ 以及Hα 的发射谱强度的影响 .实验结果表明 ,静态磁场的加入可显着提高反应气体的解离效率 ;适当的氢稀释可以提高氢活性粒子的浓度 ,而过高的氢稀释比将使含硅活性基团浓度显着减小 ;提高射频馈入功率整体上可以使各活性粒子的浓度增加 ,并有利于提高到达衬底表面氢活性粒子的相对比例 .结合螺旋波等离子体色散关系和等离子体特点对以上结果进行了分析 .该结果为螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜过程的理解及制备工艺参数的调整提供了基础数据 .
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光学发射谱论文参考文献
[1].葛大勇,赵庆勋,杨保柱,何雷.光学发射谱在硫掺杂金刚石薄膜制备中的应用[J].实验技术与管理.2011
[2].于威,王保柱,杨彦斌,路万兵,傅广生.螺旋波等离子体化学气相沉积纳米硅薄膜的光学发射谱研究[J].物理学报.2005
[3].于威,王淑芳,任国斌,李晓苇,张连水.等离子体增强化学气相沉积氮化碳薄膜过程中的光学发射谱研究[J].光谱学与光谱分析.2002
[4].丁世学,易良红.几何薄光学厚吸积盘发射谱的研究[J].襄樊学院学报.2000
论文知识图
