全文摘要
本实用新型公开一种半导体器件主体清洁装置，包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架上还设有清洁装置和风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架。本清洁装置用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，增加印字清晰度和印字牢度。
主设计要求
1.一种半导体器件主体清洁装置，其特征在于：包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架一侧设有清洁装置，另一侧设有风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架，储液瓶的高度大于清洁装置的高度，风干装置的高度大于清洁装置的高度。
设计方案
1.一种半导体器件主体清洁装置，其特征在于：包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架一侧设有清洁装置，另一侧设有风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架，储液瓶的高度大于清洁装置的高度，风干装置的高度大于清洁装置的高度。
2.根据权利要求1所述的半导体器件主体清洁装置，其特征在于：所述导水槽为T形导水槽，T形导水槽的窄端开有与输液管相连的圆孔。
3.根据权利要求1所述的半导体器件主体清洁装置，其特征在于：储液瓶的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置。
4.根据权利要求1所述的半导体器件主体清洁装置，其特征在于：销轴采用螺杆，销轴未与海绵支架连接的一端上旋有紧固螺钉。
5.根据权利要求1所述的半导体器件主体清洁装置，其特征在于：所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及一种半导体器件主体清洁装置，用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，属于半导体清洁装置技术领域。
背景技术
半导体元器件在测试印字生产过程中机器工作会使器件主体产生不同程度的划痕和灰尘，灰尘会造成器件在印字过程中印不上，因为半导体元器件主体会印有区分正负极或交直流等符号的标识，划痕很容易让使用者难以区分哪个才是正确的印字，故需对元器件主体进行清洁一下增加印字清晰度及印字牢度。
发明内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种半导体器件主体清洁装置，用于半导体元器件印字工序前对器件主体进行清洁，增加印字清晰度和印字牢度。
为了解决所述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种半导体器件主体清洁装置，包括底板、垂直设置于底板上的储液瓶支架和轨道护架，储液瓶支架上设置有储液瓶，轨道护架上开有在竖直方向延伸的竖直槽，轨道护架一侧设有清洁装置，另一侧设有风干装置，清洁装置包括海绵支架、海绵粘板和海绵，海绵支架上设有滑动设置于竖直槽内的销轴，海绵通过海绵粘板粘接在海绵支架下端面，海绵支架上端面开有与海绵相通的导水槽，导水槽通过输液管与储液瓶的出口相连通，风干装置包括轴流风机以及将轴流风机连接在轨道护架上的风机支架，储液瓶的高度大于清洁装置的高度，风干装置的高度大于清洁装置的高度。
进一步的，所述导水槽为T形导水槽，T形导水槽的窄端开有与输液管相连的圆孔。
进一步的，储液瓶的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置。
进一步的，销轴采用螺杆，销轴未与海绵支架连接的一端上旋有紧固螺钉。
进一步的，所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。
本实用新型的有益效果：本实用新型包括储液瓶、清洁装置和风干装置，储液瓶内的清洁液体流道清洁装置的海绵上，海绵将器件本体的灰尘、脏污、油污擦拭掉，利用风干装置的轴流风机将擦拭过的器件吹干，从而使干燥无污的半导体器件流入印字工序，可增加印字清晰度和印字牢度，避免了人工清洗擦除影响工作效率，提高工作效率和器件印字质量。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为清洁装置的俯视结构示意图；
图3为清洁装置的仰视结构示意图；
图中：1、底板，2、储液瓶支架，3、储液瓶，4、滴定装置，5、输液管，6、轨道护架，7、竖直槽，8、风机支架，9、轴流风机，10、销轴，11、海绵支架，12、海绵，13、圆孔，14、导水槽，15、海绵粘板。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1
如图1所示，本实施例所述半导体器件主体清洁装置包括底板1、垂直设置于底板1上的储液瓶支架2和轨道护架6，储液瓶支架2上设置有储液瓶3，轨道护架6上开有在竖直方向延伸的竖直槽7，轨道护架6左侧设有清洁装置，右侧设有风干装置，结合图2、3所示，清洁装置包括海绵支架11、海绵粘板15和海绵12，海绵支架11上设有滑动设置于竖直槽7内的销轴10，海绵12通过海绵粘板15粘接在海绵支架11下端面，海绵支架11上端面开有与海绵12相通的导水槽14，导水槽14通过输液管5与储液瓶3的出口相连通，风干装置包括轴流风机9以及将轴流风机9连接在轨道护架6上的风机支架8，储液瓶3的高度大于清洁装置的高度，风干装置的高度大于清洁装置的高度。
本实施例中，所述导水槽14为T形导水槽，T形导水槽的窄端开有与输液管5相连的圆孔13。储液瓶3内的清洁液体通过圆孔13流入导水槽14内，再通过导水槽14渗透至海绵12内。
本实施例中，储液瓶3的出口设有控制瓶内液体流出速度的滴定装置4。
本实施例中，销轴10采用螺杆，销轴10未与海绵支架11连接的一端上旋有紧固螺钉。紧固螺钉旋紧时，可以将清洁装置固定在特定高度，当固定螺钉松开时，清洁装置可以沿竖直槽上下移动，从而调节清洁装置的高度。
本实施例中，所述清洁装置用于轴向封装二极管和桥堆整流器件。
使用本实施例所述半导体器件主体清洁装置时，首先将本装置的底板1固定在半导体元器件轴向二极管或桥堆器件测试设备上，使半导体器件按从左到右的流动方向在清洁装置下方经过，然后调节清洁装置与器件本体的距离，使清洁装置与器件本体接触，让带有清洁液体的海绵12将器件本体的灰尘、脏污、油污擦拭掉，利用风干装置的轴流风机吹风将擦拭过得器件吹干，从而使干燥无污的半导体器件流入印字工序，大大避免了人工清洗擦除提高工作效率和器件印字质量
以上描述的仅是本实用新型的基本原理和优选实施例，本领域技术人员根据本实用新型做出的改进和替换，属于本实用新型的保护范围。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920284803.2
申请日:2019-03-07
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:88(济南)
授权编号:CN209680627U
授权时间:20191126
主分类号:B08B1/02
专利分类号:B08B1/02;F26B21/00
范畴分类:26P;
申请人:济南鲁晶半导体有限公司
第一申请人:济南鲁晶半导体有限公司
申请人地址:250101 山东省济南市市辖区高新区天辰大街978号中试车间楼301-15室
发明人:赵俊男;王丽丽
第一发明人:赵俊男
当前权利人:济南鲁晶半导体有限公司
代理人:赵玉凤
代理机构:37218
代理机构编号:济南泉城专利商标事务所 37218
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计