(Ti,Ta)N三元薄膜的制备和表征

论文摘要

在用真空阴极弧制备TiN和TaN两种薄膜的基础上,采用两个独立的金属弧源同时放电的方法成功制备出（Ti,Ta）N三元薄膜。通过X射线衍射、X射线光电子能谱、原子力显微镜对TiN、TaN和（Ti,Ta）N薄膜的微结构、化学组分、表面形貌进行了比较分析,发现制备的（Ti,Ta）N三元薄膜是以立方结构为主的固溶体相构成,另外还存在单斜结构的Ta3N5相。与两种二元薄膜相比,其XRD图谱的衍射峰显著变宽,择优取向（200）的择优程度进一步加强。三元薄膜表面的Ti∶Ta∶N比为0.46∶0.34∶1,晶粒大小为纳米尺度。

论文目录

• 1 实验部分
•   1.1 薄膜制备装置
•   1.2 薄膜制备过程
•   1.3 薄膜的分析和测试
• 2 结果分析与讨论
•   2.1 薄膜的相组成
•   2.2 薄膜的化学组成
•   2.3 薄膜的表面形貌
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 李立,焦新莹,刘鸿鹏

关键词: 氮化钛薄膜氮化钽薄膜,三元薄膜,真空阴极弧沉积

来源: 真空科学与技术学报 2019年08期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备

单位: 中国民航大学理学院

基金: 中国民航大学大学生创新创业训练计划(IEKCAUC2018008,201810059049)

分类号: TB383.2

DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2019.08.12

页码: 689-693

总页数: 5

文件大小: 1526K

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