全文摘要
本公开涉及一种双摄像头曝光同步校正装置，其中，包括：托架，设置有与终端外形匹配的容纳槽，在所述容纳槽朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出所述终端的双摄像头的通孔；遮光腔体，包括防透光壳体，在所述防透光壳体上开设有用于所述托架插入或拔出所述遮光腔体内腔的托架开口；均匀光源，设置于所述遮光腔体内腔的底部，发光面朝向所述通孔。通过本公开可在终端产线上进行曝光同步校正。
主设计要求
1.一种双摄像头曝光同步校正装置，其中，包括：托架，设置有与终端外形匹配的容纳槽，在所述容纳槽朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出所述终端的双摄像头的通孔；遮光腔体，包括防透光壳体，在所述防透光壳体上开设有用于所述托架插入或拔出所述遮光腔体内腔的托架开口；均匀光源，设置于所述遮光腔体内腔的底部，发光面朝向所述通孔。
设计方案
1.一种双摄像头曝光同步校正装置，其中，包括：
托架，设置有与终端外形匹配的容纳槽，在所述容纳槽朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出所述终端的双摄像头的通孔；
遮光腔体，包括防透光壳体，在所述防透光壳体上开设有用于所述托架插入或拔出所述遮光腔体内腔的托架开口；
均匀光源，设置于所述遮光腔体内腔的底部，发光面朝向所述通孔。
2.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，在所述防透光壳体内侧对称设置有托架轨道，所述托架轨道一端靠近所述托架开口并与所述托架连接，所述托架通过所述托架轨道滑动插入或拔出所述遮光腔体内腔。
3.根据权利要求2所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述托架轨道包括上滚轮轨道与下滚轮轨道，所述托架置于所述上滚轮轨道与所述下滚轮轨道之间滑动插入或拔出所述遮光腔体内腔。
4.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述托架轨道远离所述托架开口一侧设置有限位挡板。
5.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述托架上的容纳槽为多个，且多个所述容纳槽并列排布。
6.根据权利要求5所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，多个所述容纳槽的通孔与所述均匀光源的距离相等。
7.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述容纳槽与所述通孔相对的一侧还开设有终端推取开孔。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述均匀光源为均匀面板光源。
9.根据权利要求8所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述均匀面板光源与所述防透光壳体一体设置。
10.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述托架开口设置于所述防透光壳体除底面以外的一面。
11.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，还包括支撑所述遮光腔体的腔体支架。
12.根据权利要求1所述的双摄像头曝光同步校正装置，其中，所述遮光腔体为圆柱体、长方体或正方体。
设计说明书
技术领域
本公开涉及双摄像头应用技术领域，尤其涉及一种双摄像头曝光同步校正装置。
背景技术
双摄模组的双摄像头由于可以很好的实现快速对焦，暗光补偿，变焦等功能而得到广泛应用。例如具有双摄像头的终端已被人们广泛应用。
双摄模组的两个摄像头分别称为主摄像头和副摄像头。利用双摄像头拍摄高质量图片需要主摄像头和副摄像头输入图片亮度一致的图片，而双摄像头曝光同步能够很大程度上保证双摄出图片的曝光一致性和亮度一致性，因此主摄像头和副摄像头的曝光同步对于双摄像头拍摄高质量图片具有非常重要的作用。
目前，要实现双摄像头曝光同步就需要进行双摄像头曝光同步校正，以得出曝光同步校正参数提供给曝光同步软件使用。目前的双摄像头曝光同步校正主要是在摄像头模组厂将主摄像头和副摄像头组装在一起，然后放置在双摄模组厂的曝光同步校正工位上利用个人计算机(Personal Computer，PC)端的校正软件进行曝光同步校正。由于双摄模组厂的曝光同步校正工位是在双摄模组产线上的硬件工位，使得双摄像头曝光同步校正时，双摄模组的主摄像头和副摄像头需要先在同一家模组厂进行组装且搭配固定，限制了双摄模组搭配的灵活性，且校正工作只能在模组厂进行。
实用新型内容
为了解决现有技术中存在的上述问题，提供一种双摄像头曝光同步校正装置，以在终端产线上进行曝光同步校正。
本公开的第一方面提供一种双摄像头曝光同步校正装置，该装置包括：
托架，设置有与终端外形匹配的容纳槽，在所述容纳槽朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出双摄像头的通孔；遮光腔体，包括防透光壳体，在所述防透光壳体上开设有用于所述托架插入或拔出所述遮光腔体内腔的托架开口；均匀光源，设置于所述遮光腔体内腔的底部，发光面朝向所述通孔。
在一例中，在所述防透光壳体内侧对称设置有托架轨道，所述托架轨道一端靠近所述托架开口并与所述托架连接，所述托架通过所述托架轨道滑动插入或拔出所述遮光腔体内腔。
在一例中，所述托架轨道包括上滚轮轨道与下滚轮轨道，所述托架置于所述上滚轮轨道与所述下滚轮轨道之间插入或拔出所述遮光腔体内部。
在一例中，所述托架轨道远离所述托架开口一侧设置有限位挡板。
在一例中，所述托架上的容纳槽为多个，且多个所述容纳槽并列排布。
在一例中，多个所述容纳槽的通孔与所述均匀光源的距离相等。
在一例中，所述容纳槽与所述通孔相对的一侧还开设有终端推取开孔。
在一例中，所述均匀光源为均匀面板光源。
在一例中，所述均匀面板光源与所述防透光壳体一体设置。
在一例中，所述托架开口设置于所述防透光壳体除底面以外的一面。
在一例中，双摄像头曝光同步校正装置还包括支撑所述遮光腔体的腔体支架。
在一例中，所述遮光腔体为圆柱体、长方体或正方体。
本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置，遮光腔体的防透光壳体屏蔽外部光线，遮光腔体底部的均匀光源在遮光腔体内腔内提供均匀的光照，终端放入托架的容纳槽中推入遮光腔体内腔，可获取到亮度一致的均匀光照，进而可实现曝光同步校正。本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置不依赖外部设备，体积较小，重量轻，可方便地在产线布置。并且不受摄像头模组的限制，可在终端产线上进行曝光同步校正，操作方便。在主副摄摄像头由不同模组厂提供时，或者更换不同型号的主副摄模组后，可在产线进行统一的校正操作，不需要修改双摄像头曝光同步校正装置来适配不同的模组，灵活性和一致性较好，可在终端产线上进行曝光同步校正。
附图说明
通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：
图1示出了根据本公开一实施例提供的双摄像头曝光同步校正装置结构示意图。
在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
具体实施方式
下面将参考若干示例性实施方式来描述本公开的原理和精神。应当理解，给出这些实施方式仅仅是为了使本领域技术人员能够更好地理解进而实现本公开，而并非以任何方式限制本公开的范围。
图1所示为本公开提供的一种双摄像头曝光同步校正装置100的结构示意图。参阅图1所示，双摄像头曝光同步校正装置100包括托架1、遮光腔体2和均匀光源3。
本公开中，托架1，设置有与终端外形匹配的容纳槽11，在容纳槽11朝向遮光腔体底部的一侧设置有露出终端的双摄像头的通孔110。遮光腔体2包括防透光壳体，在防透光壳体上开设有用于托架2插入或拔出遮光腔体2内腔的托架开口21。均匀光源3，设置于遮光腔体2内腔的底部，均匀光源3的发光面朝向通孔110，以使均匀光源3的发光面朝向终端的双摄像头，为终端的双摄像头曝光提供均匀光照。
本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置，遮光腔体2的防透光壳体屏蔽外部光线，避免外部光源对双摄像头模组的曝光产生影响。遮光腔体底部设置均匀光源，在腔体内部提供均匀的光照，终端放入托架1的容纳槽11中被推入遮光腔体内腔，可获取到亮度一致的均匀光照，有利于进行曝光校正。
本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置不依赖外部设备，体积较小，重量轻，可方便地在产线布置。并且本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置不受双摄像头模组的限制，操作方便灵活。在主摄像头和副摄像头由不同模组厂提供时，或者更换不同型号的主摄像头和副摄像头后，仍可在产线进行统一的校正操作，不需要修改双摄像头曝光同步校正装置来适配不同的模组，灵活性和一致性较好。
本公开的一实施例中，在遮光腔体2的防透光壳体内侧对称设置有托架轨道4。托架轨道4一端靠近托架开口21并与托架1连接，另一端靠近遮光腔体的底部。托架1通过托架轨道4插入或拔出遮光腔体2的内腔。
其中，托架轨道4包括上滚轮轨道与下滚轮轨道。托架1置于上滚轮轨道与下滚轮轨道之间，以滑动插入或滑动拔出遮光腔体2的内腔。此种实施方式可使托架2成为一种抽屉式托架，便于托架1插入或拔出遮光腔体2。
进一步的，本公开实施例中，在托架轨道4上还设置有限位挡板5，该限位挡板5设置在托架轨道4远离托架开口21的一侧。限位挡板5在托架轨道4上设置的位置为使托架1通过托架轨道4插入遮光腔体2的内腔后，放置在容纳槽11上的终端的双摄像头位于遮光腔体内，而终端的部分显示屏外露。通过设置限位挡板，可防止托架1通过托架轨道4插入遮光腔体2的内腔位置过深，使终端位置插入过深，并保证良好遮光的同时，使终端显示屏部分外露，方便查看曝光同步校正结果。
更进一步的，本公开实施例中，在托架轨道4靠近托架开口21的一侧也可设置限位挡板，通过该限位挡板防止托架1在托架轨道4上拔出时完全拔出遮光腔体2。
本公开实施例中，托架轨道4靠近托架开口21的一侧也可不设置限位挡板，以使托架1在托架轨道4上拔出时可以完全拔出遮光腔体2。
本公开的另一实施例中，托架1上设置的容纳槽11的数量为一个或多个。托架1上设置多个容纳槽11情况下，可实现多台终端同时进行双摄像头的曝光同步校正。其中，多个容纳槽11可并列排布。例如图1中，容纳槽11的数量为两个，两个容纳槽11并列排布。本公开多个容纳槽11的排布方式也可以是无规则排布的，可依据终端放置位置进行定制，使得终端的放置位置灵活可变。
进一步的，本公开中容纳槽11的形状与待进行双摄像头曝光同步校正的终端的形状相匹配，换言之容纳槽11的形状可依据终端形状进行定制，能方便不同形状，不同尺寸的终端进行双摄像头曝光同步校正。
本公开实施例中，多个容纳槽11的通孔与均匀光源3的距离相等，以使放置在容纳槽上的双摄像头与均匀光源3的距离相等，进而接收到亮度一致且均匀的光照。
本公开实施例中，容纳槽11上还开设有终端推取开孔111。终端推取开孔111设置于容纳槽11上与通孔110相对的一侧，以保证遮光效果的情况下，便于在托架1通过托架轨道4拔出遮光腔体2的内腔后，用户从终端推取开孔下方推取终端，取出终端。其中，终端推取开孔111可以是方孔、圆孔等孔状开孔。
本公开实施例中，均匀光源3为均匀面板光源，以便于制作，并能提供均匀度较好的光源。
本公开实施例中，均匀面板光源可与防透光壳体一体设置。例如，均匀面板光源可以为遮光腔体2的底面壳体。
其中，本公开中遮光腔体2可以是圆柱体，也可以是正方体、长方体等六面体，当然也可以为其它形状。
本公开实施例中，托架开口21可设置于防透光壳体除底面以外的一面，以使托架1的位置灵活可变，从遮光腔体2的前面、后面、左面或右面均可插入或拔出遮光腔体2。
进一步的，本公开实施例中，双摄像头曝光同步校正装置100还可包括支撑遮光腔体2的腔体支架，以将双摄像头曝光同步校正装置100固定在工作台上。
应用本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置100进行双摄像头曝光同步校正时，可采用如下方式：将安装有双摄像头的终端放置在托架1的容纳槽11内，并使双摄像头对准容纳槽11的通孔110。将托架1插入遮光腔体2的内腔内。遮光腔体2的防透光壳体屏蔽外部光线，设置于遮光腔体2底部的均匀光源3在遮光腔体2的内腔内部提供均匀的光照，使终端的双摄像头模组收到亮度一致且均匀的光照。终端运行曝光同步校正应用程序，设置主摄像头和副摄像头相应的曝光增益和曝光时间，并控制终端的双摄像头拍照。在曝光同步校正应用程序执行拍照获取双摄像头拍照的图片后，计算出曝光同步校正参数，保存到摄像头模组存储器中，例如保存到带电可擦可编程只读存储(Electrically ErasableProgrammable read only memory，EEPROM)中，以便后续进行曝光同步校正。
本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置，遮光腔体的防透光壳体屏蔽外部光线，遮光腔体底部的均匀光源在遮光腔体内腔内提供均匀的光照，终端放入托架的容纳槽中推入遮光腔体内腔，可获取到亮度一致的均匀光照，进而可实现曝光同步校正。本公开提供的双摄像头曝光同步校正装置不依赖外部设备，体积较小，重量轻，可方便地在产线布置。并且不受摄像头模组的限制，操作方便。在主副摄摄像头由不同模组厂提供时，或者更换不同型号的主副摄模组后，可在产线进行统一的校正操作，不需要修改双摄像头曝光同步校正装置来适配不同的模组，灵活性和一致性较好。
出于示例和描述的目的，已经给出了本公开实施的前述说明。前述说明并非是穷举性的也并非要将本公开限制到所公开的确切形式，根据上述教导还可能存在各种变形和修改，或者是可能从本公开的实践中得到各种变形和修改。选择和描述这些实施例是为了说明本公开的原理及其实际应用，以使得本领域的技术人员能够以适合于构思的特定用途来以各种实施方式和各种修改而利用本公开。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920809533.2
申请日:2019-05-30
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:11(北京)
授权编号:CN209692907U
授权时间:20191126
主分类号:H04N5/235
专利分类号:H04N5/235;H04N5/225
范畴分类:申请人:北京迈格威科技有限公司
第一申请人:北京迈格威科技有限公司
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发明人:赵宏杰
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