全文摘要
本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置，其特征在于，包括：中空的端口放大装置(1)，所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积；栅栏(5)，所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(1)的出口端，且与所述出口相对。通过设置端口放大装置可在一定程度上增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。本实用新型还公开了一种具有上述等离子体扩散装置的等离子体刻蚀装置。
主设计要求
1.一种等离子体扩散装置，其特征在于，包括：中空的端口放大装置(1)，所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积；栅栏(5)，所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(1)的出口端，且与所述出口相对。
设计方案
1.一种等离子体扩散装置，其特征在于，包括：
中空的端口放大装置(1)，所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积；
栅栏(5)，所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(1)的出口端，且与所述出口相对。
2.根据权利要求1所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述端口放大装置(1)的进口与所述等离子体源输出端的端口大小相同，且所述端口放大装置(1)的进口向所述端口放大装置(1)的出口渐扩。
3.根据权利要求1所述的等离子体扩散装置，其特征在于，还包括具有与所述端口放大装置(1)的出口大小相同的第一通孔的挡板(2)，所述挡板(2)与所述端口放大装置(1)的出口端密封可拆卸连接，且所述第一通孔与所述出口相对，所述栅栏(5)安装在所述挡板(2)上。
4.根据权利要求3所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述挡板(2)与所述端口放大装置(1)通过氟橡胶圈(3)密封连接。
5.根据权利要求3所述的等离子体扩散装置，其特征在于，还包括：
安装在所述挡板(2)上的衬板(4)，所述衬板(4)具有与所述第一通孔相对且大小相同的第二通孔；
压板(6)，所述压板(6)与所述衬板(4)相连，所述栅栏(5)可拆卸的安装在所述衬板(4)与所述压板(6)之间。
6.根据权利要求5所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述衬板(4)与所述压板(6)通过紧定螺钉连接。
7.根据权利要求5所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述栅栏(5)通过锁紧螺钉固定在所述衬板(4)与所述压板(6)之间。
8.根据权利要求1-7任一项所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述栅栏(5)为石墨条。
9.根据权利要求8所述的等离子体扩散装置，其特征在于，所述石墨条的两个侧面均为阶梯式结构，且相邻的所述石墨条的侧面能够搭接配合。
10.一种等离子体刻蚀装置，包括等离子体源，其特征在于，还包括如权利要求1-9任一项所述等离子体扩散装置。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及等离子体的技术领域，特别涉及一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置。
背景技术
等离子体刻蚀技术在衍射光学、集成电路、芯片、显示屏、建筑等领域有着广泛应用。等离子体刻蚀首先通过射频、微波、直流高压等激励源将反应气体电离，再通过磁场及电场加速带电粒子，轰击物件表面，实现对物件表面物质或结构的均匀刻蚀。以芯片行业为例，等离子体刻蚀常被用来刻蚀半导体基片(如硅)或者涂覆其上的光刻胶等有机材料。对于小于300mm(对应12inch)直径晶圆或薄基底，已有成熟的等离子体刻蚀设备。随着使用需求的增加，在显示屏、光栅等领域需要对尺寸大于800mm，甚至大于1000mm的基底进行等离子体刻蚀，一般小型等离子体发生器所直接产生等离子体面积无法达到使用要求。
如何使用小口径等离子体源，实现对超出现有方法和设备尺寸多得多的基底的等离子体刻蚀，并且保证大尺寸范围内的均匀性或深度可控性，成为了大型显示屏和大口径光栅发展的一个重要问题。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种等离子体扩散装置，以增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。此外，本实用新型的另一目的在于提供一种具有上述等离子体扩散装置的等离子体刻蚀装置。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
一种等离子体扩散装置，其包括：
中空的端口放大装置，所述端口放大装置的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置的进口的面积小于出口的面积；
栅栏，所述栅栏安装在所述端口放大装置的出口端，且与所述出口相对。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述端口放大装置的进口与所述等离子体源输出端的端口大小相同，且所述端口放大装置的进口向所述端口放大装置的出口渐扩。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，还包括具有与所述端口放大装置的出口大小相同的第一通孔的挡板，所述挡板与所述端口放大装置的出口端密封可拆卸连接，且所述第一通孔与所述出口相对，所述栅栏安装在所述挡板上。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述挡板与所述端口放大装置通过氟橡胶圈密封连接。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，还包括：
安装在所述挡板上的衬板，所述衬板具有与所述第一通孔相对且大小相同的第二通孔；
压板，所述压板与所述衬板相连，所述栅栏可拆卸的安装在所述衬板与所述压板之间。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述衬板与所述压板通过紧定螺钉连接。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述栅栏通过锁紧螺钉固定在所述衬板与所述压板之间。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述栅栏为石墨条。
优选的，上述的等离子体扩散装置中，所述石墨条的两个侧面均为阶梯式结构，且相邻的所述石墨条的侧面能够搭接配合。
一种等离子体刻蚀装置，包括等离子体源，其还包括上述任一项所述等离子体扩散装置。
由以上技术方案可以看出，本实用新型所公开的一种等离子体扩散装置，通过设置端口放大装置可在一定程度上增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见的，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例中公开的等离子体扩散装置的结构示意图；
图2为本实用新型实施例中公开的等离子体扩散装置的爆炸图；
图3为本实用新型实施例中公开的等离子体扩散装置的主视图；
图4为本实用新型实施例中公开的端口放大装置的结构示意图；
图5为本实用新型实施例中公开的栅栏的结构示意图。
具体实施方式
有鉴于此，本实用新型的核心在于提供一种等离子体扩散装置，以增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。本实用新型的另一核心在于提供了一种具有上述等离子体扩散装置的等离子体刻蚀装置。
为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。
如图1-图5所示，本实用新型公开了一种等离子体扩散装置，包括端口放大装置1和栅栏5。其中，端口放大装置1的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，而端口放大装置1的进口的面积小于出口的面积，而栅栏5安装在端口放大装置1的出口端，并且栅栏5与端口放大装置1的出口相对，以对从出口发射的等离子体的密度进行调节。通过设置端口放大装置1可在一定程度上增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。
具体的实施例中上述的端口放大装置1的进口与等离子体源输出端的端口大小相同，并且端口放大装置1的进口向端口放大装置1的出口渐扩。如此设置后，该端口放大装置1为喇叭形扩散结构，中间为空心贯通结构，整体呈现为喇叭形，喇叭形结构起到扩散作用。其与等离子体发生器输出端连接部分可以采用标准法兰连接结构，但不限于标准法兰这一种连接形式。
本申请中的等离子体扩散装置还包括具有与端口放大装置1的出口大小相同的第一通孔的挡板2，该挡板2与端口放大装置1的出口端密封可拆卸连接，并且第一通孔与端口放大装置1的出口相对，上述的栅栏5安装在挡板2上。挡板2的增加是为了便于栅栏5的拆装；其与喇叭形扩散结构的输出端进行连接，其连接面需要进行密封处理，以保证整个使用环境的真空度。挡板2中间的第一通孔形状与喇叭形扩散结构的出口形状保持一致，利于等离子体的通过，而不受到结构形状的影响。
具体的采用氟橡胶圈3密封挡板2和端口放大装置1之间的连接，氟橡胶圈3位于挡板2和端口放大装置1之间，实现密封，亦可采用其他耐高温和符合强度的材质制作。
进一步的实施例中，该等离子体扩散装置还包括衬板4和压板6，其中，衬板4安装在挡板2上，并且衬板4具有与挡板3的第一通孔相对且大小相同的第二通孔；压板6与衬板4相连，上述的栅栏5可拆卸的安装在衬板4和压板6之间。采用衬板4和压板6对栅栏5进行安装，在需要对栅栏5调节宽度时，可仅将衬板4拆卸即可，进一步方便栅栏5的拆装。对于衬板4可为一个框结构，而压板6为条形板，用于与衬板4的安装栅栏5的端板贴合，以使栅栏5安装在衬板4和压板6之间。
在一具体实施例中，上述的衬板4与压板6通过紧定螺钉连接，并且栅栏5通过锁紧螺钉连接，在实际中也可采用其他连接方式实现连接，只要保证可拆卸连接的方式即可。
优选的，上述的栅栏5为石墨条，石墨条侧面采用阶梯式结构，且相邻的所述石墨条的侧面能够搭接配合，目的是在多个石墨条组和时，其间缝隙可以完全消除，利于对等离子体的分布进行调整。但石墨条结构可以采用其他材质进行替换，例如铝合金等。
此外，本申请还公开了一种等离子体刻蚀装置，包括等离子体源，还包括上述实施例中公开的等离子体扩散装置，因此，具有该等离子体扩散装置的等离子体刻蚀装置也具有上述所有技术效果，在此不再一一赘述。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920083740.4
申请日:2019-01-17
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:34(安徽)
授权编号:CN209312713U
授权时间:20190827
主分类号:H01J 37/32
专利分类号:H01J37/32
范畴分类:38D;
申请人:中国科学技术大学
第一申请人:中国科学技术大学
申请人地址:230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号
发明人:周腾;邱克强;刘正坤;徐向东;洪义麟;付绍军
第一发明人:周腾
当前权利人:中国科学技术大学
代理人:徐丽;李海建
代理机构:11227
代理机构编号:北京集佳知识产权代理有限公司
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计