磁控溅射制备CrAlN薄膜的高温抗氧化性

论文摘要

采用磁控溅射镀膜技术,在不同负偏压（80、150和220V）条件下,以304不锈钢为基体,在其表面沉积CrAlN薄膜,并对制备的薄膜进行900℃的热处理氧化试验（氧化时间为1h）。利用X射线衍射分析仪（XRD）、扫描电镜（SEM）及其配备的能谱仪（EDS）分析薄膜在高温热处理下的表面形貌、薄膜成分及物相组成。结果表明:随基体负偏压的升高,Cr2O3和Al2O3以及CrxOy和AlxOy的衍射峰先减少后增加,氮化物的衍射峰先增加后降低,CrAlN薄膜的抗氧化性先增强后降低;负偏压150V下,所制备的CrAlN薄膜经热处理后表面裂纹最少且氧原子含量最低,为55.44%;在负偏压80、150和220V下,CrAlN薄膜氧化质量增加率分别为0.038%,0.035%和0.047%,可见负偏压150V条件下,CrAlN薄膜氧化质量增加最小,具有最优高温氧化性能。

论文目录

• 1 试验
•   1.1 CrAlN薄膜的制备
•   1.2 表征与分析
• 2 结果与讨论
•   2.1 CrAlN薄膜热处理后的XRD结构分析
•   2.2 Cr Al N薄膜热处理后的SEM分析及EDS分析
•     2.2.1 SEM形貌分析
•     2.2.2 EDS成分分析
•   2.3 氧化质量增加分析
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 吴坤尧,代闯,惠晶,孙乐

关键词: 磁控溅射,薄膜,高温抗氧化性

来源: 金属热处理 2019年07期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 金属学及金属工艺

单位: 西安航空学院材料工程学院,陕西科技大学材料科学与工程学院

基金: 西安航空学院2018年大学生创新创业训练计划(DCX2018049)

分类号: TG174.4

DOI: 10.13251/j.issn.0254-6051.2019.07.039

页码: 186-189

总页数: 4

文件大小: 1090K

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