全文摘要
一种电浆喷嘴的阵列结构，包含多个第一电浆喷嘴及多个第二电浆喷嘴。这些第一电浆喷嘴沿第一方向进行配置。这些第二电浆喷嘴沿第一方向配置于这些第一电浆喷嘴的一侧，其中，这些第一电浆喷嘴及这些第二电浆喷嘴于垂直第一方向上的投影彼此邻接但不重叠或部份重叠。在进行电浆处理制程时，第二电浆喷嘴及第三电浆喷嘴可弥补第一电浆喷嘴的不足，使得基材的整体表面都能被电浆处理到，借此提高电浆处理良率。
主设计要求
1.一种电浆喷嘴的阵列结构，其特征在于，包含：多个第一电浆喷嘴，沿一第一方向进行配置；以及多个第二电浆喷嘴，沿该第一方向配置于所述多个第一电浆喷嘴的一侧，其中，所述多个第一电浆喷嘴及所述多个第二电浆喷嘴于垂直该第一方向上的投影彼此邻接但不重叠。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920005308.3
申请日:2019-01-03
公开号:公开日:国家:TW
国家/省市:71(台湾)
授权编号:CN209602793U
授权时间:20191108
主分类号:D06B 1/02
专利分类号:D06B1/02;D06B23/00
范畴分类:24F;
申请人:雷立强光电科技股份有限公司
第一申请人:雷立强光电科技股份有限公司
申请人地址:中国台湾桃园市八德区友联街49号
发明人:吴清吉;陈裕丰
第一发明人:吴清吉
当前权利人:雷立强光电科技股份有限公司
代理人:徐金国
代理机构:11006
代理机构编号:北京律诚同业知识产权代理有限公司
优先权:TW107202067
关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计
标签：喷嘴论文;