UV/H2O2高级氧化工艺去除水中有机污染物的研究进展

论文摘要

UV/H2O2高级氧化技术利用羟基自由基的强氧化性去除水中污染物,具有氧化能力强、处理效率高、无选择性及不产生二次污染等优点,展现出良好的应用前景和发展潜力。本文介绍了UV/H2O2高级氧化工艺处理有机物技术原理,对药剂剂量及背景水质等关键因素,对工艺运行过程及处理效果的影响进展进行综述,并对该工艺技术的应用前景进行展望。

论文目录

• 1. 引言
• 2. UV/H2O2工艺原理
• 3. UV/H2O2工艺的影响因素
•   3.1 UV剂量的影响
•   3.2 H2O2浓度的影响
•   3.3天然有机物的影响
•   3.4初始污染物浓度的影响
•   3.5初始pH的影响
•   3.6无机阴离子的影响
•   3.7温度的影响
•   3.8其它因素的影响
• 4. 总结与展望

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 焦浩,岳建刚,王洪波,宋武昌,贾瑞宝

关键词: 高级氧化,羟基自由基,技术原理,处理效果

来源: 城镇供水 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 环境科学与资源利用

单位: 山东建筑大学,山东省城市供排水水质监测中心,济南水务集团有限公司

分类号: X703

DOI: 10.14143/j.cnki.czgs.2019.04.015

页码: 67-75+9

总页数: 10

文件大小: 1301K

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