论文摘要
目的探究磁粒研磨法去除TC4孔棱边毛刺的机理,寻求去除TC4孔棱边毛刺的最佳工艺方案。方法分别对磁极单轨迹运动、磁极复合轨迹运动下磁粒研磨去除孔棱边毛刺的基本原理进行分析,分别利用ANSOFT和ANSYS软件对孔棱边处的磁场强度和切削力进行模拟分析。通过磁粒研磨法对孔棱边毛刺进行研磨去除试验,利用超景深3D显微镜测取孔棱边毛刺的微观形貌以及毛刺的高度。结果磁极为单轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,研磨加工15 min后,TC4孔棱边的毛刺高度由原始的60μm左右降至5μm左右。磁极为复合轨迹运动时,磁极自转转速为2000 r/min,磁极公转速度为30 r/min,加工时间为12 min,TC4孔棱边的毛刺已经完全去除,且孔表面微观形貌较好。结论当磁极为复合轨迹运动时,相对于传统的磁极单轨迹运动,孔棱边毛刺的去除效率进一步提高,TC4孔表面微观形貌得到极大改善。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 焦安源,张龙龙,陈燕,刘新龙
关键词: 磁粒研磨,复合轨迹运动,毛刺,毛刺高度,表面形貌
来源: 表面技术 2019年03期
年度: 2019
分类: 工程科技Ⅰ辑,工程科技Ⅱ辑
专业: 航空航天科学与工程
单位: 辽宁科技大学
基金: 国家自然科学基金(51775258,51105187),辽宁省教育厅基金项目(2016HZPY10)~~
分类号: V262
DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2019.03.038
页码: 283-290
总页数: 8
文件大小: 1786K
下载量: 102
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