倍频微脉冲复合高功率磁控溅射TiCN薄膜结构及性能研究

论文摘要

如何提高高功率磁控溅射技术（HIPIMS）的沉积速率一直是PVD领域的研究热点,微脉冲复合高功率磁控溅射技术由于其在常规HIPIMS的单脉冲内耦合多个微脉冲,不仅进一步激励等离子体放电,更有效降低了磁控靶回吸现象,有利于提高HIPIMS的沉积速率。利用微脉冲复合高功率磁控溅射技术制备TiCN薄膜,系统研究了乙炔（C2H2）流量对TiCN薄膜结构性能的影响。采用扫描电子显微镜、Raman光谱、球-盘式摩擦磨损试验机、电化学分析仪分别表征薄膜截面形貌、结构、摩擦磨损性能、电化学腐蚀性能,结果表明:随着乙炔气体流量升高,TiCN薄膜沉积速率增加,摩擦系数先变小后不变,磨痕宽度先减小后增大,乙炔流量为1.4 mL/min时磨痕宽度最小为80.4μm,TiCN薄膜耐蚀性减弱,在乙炔流量0.8 mL/min时耐蚀性最好。

论文目录

• 0 引言
• 1 实验部分
•   1.1 TiCN薄膜制备
•   1.2 TiCN薄膜分析表征
• 2 结果分析
•   2.1 拉曼分析
•   2.2 薄膜截面形貌
•   2.3 摩擦磨损性能
•   2.4 耐腐蚀性能
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 张炜鑫,巩春志,温家瑞,马玉山,刘海波,何涛,岳玲,田修波

关键词: 微脉冲,高功率磁控溅射,沉积速率,乙炔流量

来源: 真空与低温 2019年02期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅱ辑,工程科技Ⅰ辑

专业: 材料科学,工业通用技术及设备

单位: 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室,吴忠仪表有限责任公司

基金: 国家自然科学基金(11875119,51811530059,11675047),吴忠仪表有限责任公司协同创新项目(WZYB-XTCX-002)

分类号: TB383.2

页码: 116-120

总页数: 5

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