导读:本文包含了电子束蒸发论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:电子束蒸发,化学钢化玻璃盖板,抗冲击强度
电子束蒸发论文文献综述
时庆文[1]（2019）在《电子束蒸发镀膜对化学钢化玻璃盖板强度的影响》一文中研究指出用电子束蒸发镀膜制作不同结构的化学钢化玻璃盖板,并对不同结构的玻璃盖板进行落球冲击实验,结果表明:电子束蒸发镀膜显着降低膜层在油墨侧的化学钢化玻璃盖板抗冲击强度,而对膜层在非油墨侧的化学钢化玻璃盖板抗冲击强度降低很小;验证了不同方案结构对膜层在油墨侧的化学钢化玻璃盖板抗冲击强度的影响,探讨了膜层在油墨侧的玻璃盖板抗冲击强度降低的原因。(本文来源于《第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2019-11-28）
李维源,朱蓓蓓,孙权权,陆波,袁航[2]（2019）在《基于电子束蒸发沉积的曲面纳米薄膜均匀性研究》一文中研究指出半球谐振子金属化是半球谐振陀螺研制过程中的重要环节,针对半球表面薄膜制备均匀性难以实现的问题,提出了一种将薄膜沉积实验和光学模拟相结合的方法。本文采用电子束蒸发技术在半球上沉积Au薄膜,过渡层金属为Cr,利用台阶仪测量球面上不同位点的薄膜厚度,将平面上的膜厚等效为半球曲面上的膜厚,研究球面薄膜的均匀性,得出了如下结论:在半球内外表面上薄膜的膜厚逐渐减小,外球面上球顶处膜厚为唇沿处的6.1倍,而内球面上球顶处膜厚为唇沿处的3.26倍;同时对薄膜沉积均匀性进行了光学模拟,将半球探测器上辐照度等效为实验中沉积所得到的薄膜厚度,计算得出的半球探测器上辐照度分布与实验测量结果一致性较好,可为半球谐振子纳米薄膜的均匀性制备提供理论基础。(本文来源于《飞控与探测》期刊2019年02期）
马自达,陈欣,吴祖光,臧侃,郭方准[3]（2019）在《磁偏转电子束蒸发源的研发》一文中研究指出本文介绍了自主研发的磁偏转电子束蒸发源,主要构造有电子束发射及偏转组件、水冷组件和坩埚换位组件等,设备集成在6英寸的超高真空刀口法兰上,可安装3个坩埚。整体构造通过CST粒子仿真软件进行了优化设计。该蒸发源可发射电子,并通过对电子的加速、偏转和聚焦实现对固体源材料的轰击加热。电子束能量最高为40keV,可用于蒸发几乎所有的金属材料。测试结果显示,坩埚温度和电子束电流成正比例对应关系,蒸发速率稳定,各项性能指标达到设计要求。(本文来源于《科学技术创新》期刊2019年08期）
朱文武[4]（2018）在《基于遗传算法改进的电子束蒸发系统PID控制实现》一文中研究指出依据电子束蒸发系统的晶振探头采集沉积速率,通过晶振膜厚控制仪的输出电压控制电子枪灯丝两端电压,从而调整电子束的输出功率.根据沉积速率的变化,采用遗传算法中的PID闭环反馈控制改变灯丝电压,达到稳定沉积速率的目的.实验证明,利用该方法研究其在电子束蒸发过程中速率控制的算法进行蒸发,可以使实验用镀膜生产使用的SiO_2膜料表面保持一定平整度,并且得到较稳定的蒸发速率.其他镀膜系统以及不同镀膜膜料可依据该算法适当修改参数,即可改善沉积速率的控制效果.(本文来源于《淮海工学院学报(自然科学版)》期刊2018年04期）
陈欣[5]（2018）在《磁偏转电子束蒸发源的研发》一文中研究指出真空环境下的薄膜生长是新功能材料合成和纳米技术领域中必不可少的技术。薄膜生长技术主要分为物理气相沉积和化学气相沉积两种,其中物理气相沉积方法直接将源材料加热蒸发,蒸发速度精确可控,蒸发材料范围广。高能量电子束轰击是蒸镀高熔点和低蒸气压物质的主要方法。我国现有的电子束轰击蒸发源体积大,而且不适合超高真空环境使用,难以满足高性能薄膜生长的需求。基于此,本文研发了磁偏转电子束蒸发源,整体构造集成在一个6英寸超高真空刀口法兰上,结构紧凑;可设置多个坩埚,放置多种蒸镀源材料;电子束能量可调,可蒸镀几乎所有金属材料;整体设计完全依据超高真空标准,满足高性能薄膜生长的需求。本文详细介绍了蒸发源的工作原理;通过理论计算和模拟给出了最佳设计方案;在获得蒸发源核心部件的最佳设计参数后,完成了磁偏转电子束蒸发源的结构设计;绘制了蒸发源各零件的叁维图和二维图,并对零件进行加工和清洁处理,最后完成了磁偏转电子束蒸发源的装配。通过搭建测试装置实际测试并确认了产品的各项指标完全满足设计和实用要求。本项研究的成功,推动我国在超高真空电子束轰击薄膜生长技术领域达到了国际水平。(本文来源于《大连交通大学》期刊2018-06-14）
付学成,张洪波,权雪玲,王凤丹,李进喜[6]（2018）在《电子束蒸发挖坑效应膜厚均匀性的计算新方法》一文中研究指出环形锥面蒸发源模型对沉积膜厚均匀性计算有局限性。针对电子束蒸发镀膜挖坑效应设计一种新的小圆锥体蒸发模型,提出一种新的公式计算沉积膜厚均匀性。采用相同工艺条件,不同时间蒸镀二氧化硅薄膜,验证了小圆锥体模型计算电子束蒸发挖坑膜厚均匀性准确可靠,并成功解释了随着蒸发时间的延长,均匀性变差的原因。该方法可以用于实验教学,真空镀膜工艺以及真空镀膜设备生产领域。(本文来源于《实验室研究与探索》期刊2018年03期）
李海涛,江亚晓,涂丽敏,李少华,潘玲[7]（2018）在《退火温度对电子束蒸发沉积Cu_2O薄膜性能的影响》一文中研究指出近年来,钙钛矿太阳电池(PSCs)得到了迅猛发展,而无机空穴传输材料(IHTMs)的使用可进一步降低电池的成本,提高电池的稳定性.本文通过电子束蒸发制备了Cu_2O薄膜,研究了空气中退火温度及时间对薄膜组成、结构及光电性能的影响,并构筑了p-i-n反型平面异质结钙钛矿太阳电池.研究发现:由于热解作用,直接通过电子束蒸发制备的薄膜为Cu_2O和Cu的混合物;而在空气中经过退火后,由于氧化作用,随着退火温度的升高,薄膜的组分由混合物转变为纯的Cu_2O,再转变成纯的CuO.通过控制退火温度制备的Cu_2O薄膜的光学带隙约为2.5 eV,载流子迁移率约为30 cm~2·V~(-1)·s~(-1).应用于PSCs,薄膜的最佳厚度为40 nm,但电池性能低于PEDOT:PSS基的PSCs.这主要是由于钙钛矿前驱液在Cu_2O薄膜的润湿性较差,吸收层中有大量微孔洞存在,致使漏电流增强,电池的性能降低.然而,当采用Cu_2O/PEDOT:PSS双HTMs设计时,由于PEDOT:PSS对Cu_2O具有较强的腐蚀作用,使电池性能恶化.(本文来源于《物理学报》期刊2018年05期）
牛雪莲,Jellinek,Julius,周丹,杨桂娟,于游[8]（2017）在《电子束蒸发制备高熵合金涂层Al_xFeCoCrNiCu(x=0.25,0.5,1.0)的微观结构和耐腐蚀性能研究（英文）》一文中研究指出实验采用电子束蒸发法在钢基体表面制备高熵合金(HEA)涂层,探究不同Al元素对微观结构、表面形貌和电化学性能的影响。涂层表面的X射线衍射、电子探针和原子力显微镜实验结果表明,不同成分的合金涂层均呈典型的树枝晶结构,组织中仍保持原有的化学组成。涂层表面平整分布均匀,膜层致密。在0.5 mol/L H2SO4溶液和1 mol/L NaCl溶液中,高熵合金的宽钝化区大于700 mV,具有较大的腐蚀电势-129 mV和较小的腐蚀电流密度约2.2×10~(-6) A/cm~2,Al_(0.5)FeCoCrNiCu涂层的耐蚀性最佳。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2017年12期）
肖清泉,房迪,赵珂杰,廖杨芳,陈茜[9]（2017）在《电子束蒸发方法研究Mg_2Si的薄膜及其光学带隙》一文中研究指出Mg_2Si材料作为一种新型环境友好半导体材料,其薄膜制备方法及其光学性质的研究对其应用研发起到基础性作用.采用电子束蒸发方法在Si(111)衬底上沉积Mg膜,在氩气环境下进行热处理以制备Mg_2Si半导体薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、分光光度计对制备的Mg_2Si薄膜进行表征.在氩气环境、温度500℃、压强200 Pa下,研究热处理时间(时间3-7 h)对Mg_2Si薄膜形成的影响.XRD和SEM结果表明:通过电子束蒸发沉积方法在500℃、热处理时间为3~7 h能够得到Mg_2Si薄膜.热处理温度是500时,最佳热处理时间是4 h,得到致密度好的薄膜.通过对薄膜的红外透射谱测试,得到了Mg_2Si薄膜的光学带隙,其间接光学带隙值为0.9433 eV,直接光学带隙值为1.1580 eV.实验数据为Mg_2Si薄膜的研发在制备工艺和光学性质方面提供参考.(本文来源于《红外与毫米波学报》期刊2017年02期）
孙晋国[10]（2016）在《电子束蒸发法沉积金属聚合物基复合薄膜成膜机理及其性能研究》一文中研究指出以铜、银等纳米材料为代表的抗菌材料以其高效的抗菌性能,在生活中有广泛的应用潜力,也成为当代科研的热点。与此同时,具有防污,自清洁的疏水材料也是目前人们追求的潮流,因此本文基于聚合物的疏水特性,再结合纳米银、铜颗粒的高效抗菌性能,采用低功率电子束蒸发法(EBD),制备既具有疏水性能,又具有高效抗菌性能的多功能复合膜材料。主要研究内容如下:采用低功率电子束蒸发法,分别选用乙酸铜粉末、聚乙烯粉末为原材料,使用单晶硅片、石英片、氯化钠片为基底,制备掺铜聚合物基复合薄膜。氮气气氛下,在300-500℃范围内,通过管式炉对初始态薄膜样品进行热处理,通过Tg观察了复合薄膜结构成分变化,XPS分析复合薄膜的元素组成、FTIR和UV-vis分析复合薄膜表面的内部成分,TEM和SEM观察了薄膜的表面形貌,所制备的的复合薄膜为铜纳米颗粒均匀分布于聚合物基膜中的两相结构。复合薄膜具有一定的疏水性能,同时对大肠杆菌有着比较明显的抗菌效果。采用低功率电子束蒸发法,以硝酸银粉末为银源,分别以聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚乳酸为聚合物基体材料,采用上述相同的制备工艺参数,制备银掺杂不同聚合物基复合薄膜。在氮气气氛下,75-225℃范围内,通过管式炉对初始态薄膜样品进行热处理,得到了银纳米颗粒均匀分布于不同聚合物基膜中的两相结构。经过UV-vis、FTIR、XPS等测试手段研究薄膜成分和结构,探究电子束蒸发法制备金属聚合物基复合薄膜的成膜机理。(本文来源于《南京理工大学》期刊2016-12-01）
电子束蒸发论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
半球谐振子金属化是半球谐振陀螺研制过程中的重要环节,针对半球表面薄膜制备均匀性难以实现的问题,提出了一种将薄膜沉积实验和光学模拟相结合的方法。本文采用电子束蒸发技术在半球上沉积Au薄膜,过渡层金属为Cr,利用台阶仪测量球面上不同位点的薄膜厚度,将平面上的膜厚等效为半球曲面上的膜厚,研究球面薄膜的均匀性,得出了如下结论:在半球内外表面上薄膜的膜厚逐渐减小,外球面上球顶处膜厚为唇沿处的6.1倍,而内球面上球顶处膜厚为唇沿处的3.26倍;同时对薄膜沉积均匀性进行了光学模拟,将半球探测器上辐照度等效为实验中沉积所得到的薄膜厚度,计算得出的半球探测器上辐照度分布与实验测量结果一致性较好,可为半球谐振子纳米薄膜的均匀性制备提供理论基础。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
电子束蒸发论文参考文献
[1].时庆文.电子束蒸发镀膜对化学钢化玻璃盖板强度的影响[C].第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集.2019
[2].李维源,朱蓓蓓,孙权权,陆波,袁航.基于电子束蒸发沉积的曲面纳米薄膜均匀性研究[J].飞控与探测.2019
[3].马自达,陈欣,吴祖光,臧侃,郭方准.磁偏转电子束蒸发源的研发[J].科学技术创新.2019
[4].朱文武.基于遗传算法改进的电子束蒸发系统PID控制实现[J].淮海工学院学报(自然科学版).2018
[5].陈欣.磁偏转电子束蒸发源的研发[D].大连交通大学.2018
[6].付学成,张洪波,权雪玲,王凤丹,李进喜.电子束蒸发挖坑效应膜厚均匀性的计算新方法[J].实验室研究与探索.2018
[7].李海涛,江亚晓,涂丽敏,李少华,潘玲.退火温度对电子束蒸发沉积Cu_2O薄膜性能的影响[J].物理学报.2018
[8].牛雪莲,Jellinek,Julius,周丹,杨桂娟,于游.电子束蒸发制备高熵合金涂层Al_xFeCoCrNiCu(x=0.25,0.5,1.0)的微观结构和耐腐蚀性能研究（英文）[J].稀有金属材料与工程.2017
[9].肖清泉,房迪,赵珂杰,廖杨芳,陈茜.电子束蒸发方法研究Mg_2Si的薄膜及其光学带隙[J].红外与毫米波学报.2017
[10].孙晋国.电子束蒸发法沉积金属聚合物基复合薄膜成膜机理及其性能研究[D].南京理工大学.2016