导读:本文包含了纳米压印光刻论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:压印,纳米,光刻,大面积,模具,氟化,低成本。
纳米压印光刻论文文献综述
胡克想,王阳培华,王庆康[1]（2019）在《基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备》一文中研究指出不同特征尺度和不同周期的氟化混合物软复制模板,通过使用硅主模板和紫外纳米压印光刻技术制备而成。与聚二甲基硅氧烷和其他聚合物材料相比,光刻胶具有优良的性能,如优良的机械强度、低表面能和良好的热稳定性等。在紫外和热纳米压印工艺中,主模板被用作印章。实验结果表明,转移到基底上的图案与主模板非常一致。所制备的氟化混合物复制模板不仅适用于紫外纳米压印,也适用于热纳米压印,并且所加工的复制模板还可被用于制备光电器件,以实现传感、成像、探测、通信和数据存储等领域中的相关功能。(本文来源于《飞控与探测》期刊2019年02期）
李桃,廖兵,韦代东,汪慧怡,雍奇文[2]（2018）在《基于多苯烯丙基醚无氟抗粘的巯基-烯纳米压印光刻胶》一文中研究指出为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力,合成了一种无氟抗粘巯基-烯纳米压印光刻胶。以Α,Α,Α′-叁(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯(TPA)和溴丙烯为原料,采用相转移催化法制备了一种功能性单体Α,Α,Α′-叁(4-丙烯基苯基醚)-1-乙基-4-异丙苯(TPAE),并将其按特定配比与叁羟甲基丙烷叁(3-巯基丙酸酯)和光引发剂配制成纳米压印光刻胶。实时傅里叶红外光谱(FT-IR)分析表明,当辐射剂量为200 mJ/cm2时,双键的转化率为78.0%,巯基的转化率为78.1%。胶膜的去离子水接触角为90°。纳米压印光刻胶脱模后的图形结构规整,保真度高,具有良好的脱模性能。(本文来源于《微纳电子技术》期刊2018年06期）
兰红波,郭良乐,许权,钱垒[3]（2018）在《大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造》一文中研究指出为了解决大面积纳米压印所面临的大尺寸晶圆级复合软模具低成本制造的难题,对于当前广泛使用的大尺寸晶圆级双层复合软模具开展了理论分析、数值模拟和制造方法的系统研究。提出并建立了复合软模具脱模过程和气泡缺陷理论模型;利用ABAQUS工程模拟软件,揭示了大尺寸复合软模具影响脱模的因素和内在规律;提出一种大尺寸晶圆级双层复合软模具低成本制造方法,并完成了10.16cm(4inch)满片双层复合软模具复制的实验验证。研究结果为大尺寸复合软模具制造奠定了理论基础,并提供了一种低成本高质量制造大尺寸晶圆级双层复合软模具切实可行的方法。(本文来源于《光学精密工程》期刊2018年04期）
祁元春,王鑫[4]（2016）在《低收缩高抗黏含氟紫外纳米压印光刻胶的制备》一文中研究指出光刻胶的性能是紫外纳米压印中决定压印图形复印精度、图形缺陷率和图形向底材转移时抗黏性的重要影响因素。目前,传统的紫外光固化体系通常易于黏附底材,不容易脱模,造成压印图形缺陷;固化前后体系体积收缩,导致图形复印精度降低~([1,2])。本文采用聚氨酯丙烯酸酯(PUA)、环氧树脂(EP)和含氟丙烯酸酯(FA)为主要原料,制备得到复合聚合物光刻胶。红外光谱(IR),扫描电子显微镜(SEM)和X-射线光电子能谱(XPS)等表征手段证实了含氟丙烯酸酯在表面含量较高,这说明FA在光固化过程中向表面发生迁移。通过对PUA、EP和FA配比的改变实现对复合聚合物的收缩率和分离力的调控。随着FA加入浓度的增加,分离力逐渐下降,但是体系的柔韧性降低,收缩率增加。当加入量为10%时,分离力降到最小,仅为0.5 N;含量超过10%,压印胶层发生脆裂。实验结果表明,当FA含量在9%附近,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶表现出高保真度、高图形转移分辨率和高脱模能力,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗黏修饰的工艺步骤。(本文来源于《中国化学会第30届学术年会摘要集-第十分会：高分子》期刊2016-07-01）
张乐,伏霞[5]（2015）在《纳米压印光刻工艺浅谈及其专利分析》一文中研究指出光刻技术是半导体及其相关产业发展和进步的关键技术之一,传统光刻技术有着各自的缺点,结构复杂,分辨率受限于衍射极限。随着在应用中技术问题的增多,寻找解决技术障碍的新方案、找到下一代可行的技术路径,备受人们的关注。在这场技术竞赛中,纳米压印工艺得到人们的普遍关注,它的分辨率不受限于衍射极限,图形的均一性符合大生产的要求,使得人们看到找到纳米技术的突破口的可能。本文统计、分析了全球纳米压印工艺的专利申请文件,并通过相关重点专利对纳米压印工艺进行了分析介绍,继而针对纳米压印工艺的发展所遇到的关键技术挑战进行了归纳。(本文来源于《科技视界》期刊2015年32期）
张富饶[6]（2015）在《带形纳米压印光刻机的研究与开发》一文中研究指出目前,大面积功能性表面纳米结构和纳米结构涂层能够极大的提高产品性能和改进产品的品质,特别是太阳能电池板、抗反射和自清洁玻璃以及新一代大尺寸高清平板显示等行业对于超大尺寸(m级尺度)非平整刚性衬底纳米图形化有着非常巨大和迫切的市场需求,已经显示了非常广泛和巨大的商业化应用前景;而现有的各种工艺和方法均不能满足12英寸以上非平整刚性衬底大面积图形化工业级生产的要求;因此,迫切需要开发新的大面积纳米图形化的装置和方法。为了能够实现在超大尺寸(m级尺度)非平整刚性衬底的纳米图形化,课题组提出一种适用于超大尺寸非平整刚性衬底纳米图形化的新型纳米压印工艺,并基于该工艺研究开展了纳米压印光刻机的研究与开发,能够实现在超大尺寸非平整刚性衬上实现高效、低成本、规模化大面积纳米图形化;介绍了带型纳米压印工艺基本原理,主要完成了带型纳米压印光刻机各个功能模块(如压印模块、承片机构、工作台、模具进给、机架等)的分析设计以及总体设计,最后完成带型纳米压印光刻机进行叁维数字化建模。为了实现高质量的压印复型,必须能够理解和预测压印载荷作用下光刻胶的流变填充行为;而现有已经建立的基于平板型纳米压印和滚型纳米工艺的压印填充理论模型已经不再适用于基于带形软模具的纳米压印工艺;为此,需要开展基于带形软模具的纳米压印填充行为、机理的研究,建立理论模型,并借助于有限元仿真软件详细分析了模具周期、占空比、深宽比等对聚合物变形的影响;数值计算结果表明,深宽比对聚合物高度影响显着等,该数值分析结果有助于优化过程参数,指导这种新型纳米压印工艺和装备的研究和开发。带形软模具作为提出新型的压印工艺的核心工艺要素,它的性能和质量对于新的压印工艺的成败有着决定性的影响;传统纳米压印工艺所使用的平板型模具和滚轮型模具都已经建立起比较成熟的设计和制造方法,已不适用于带型模具;为此,需要开展新型模具结构设计制造和优化的研究,并探索高效、低成本制造带形软模具的方法;本文提出一种复合薄膜模具,它包括图形层和支撑层;本论文主要针对带型软模具纳米压印过程中软模具变形问题,对其进行设计与制造,并提出了利用滚轮模具和平板模具来制造有接缝带型模具和无接缝带型模具的制造方法。(本文来源于《青岛理工大学》期刊2015-06-01）
[7]（2015）在《欧盟纳米压印光刻技术实现感应薄膜低成本量产》一文中研究指出欧盟第七研发框架计划提供490万欧元资助,总研发投入690万欧元,由芬兰、英国、德国、荷兰、奥地利和瑞士等6个国家的9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队,利用最先进的纳米压印光刻技术,整合基底纳米功能冲压工艺和卷到卷生产制造工艺,实现了低成本、大批量制造大面积纳米结构传感器阵列(NSA)的工业流程设计和设备样机开发,奠定了NSA商业化推广应用的基础。(本文来源于《军民两用技术与产品》期刊2015年01期）
[8]（2015）在《欧盟纳米压印光刻技术实现低成本批量生产感应薄膜》一文中研究指出纳米结构传感器阵列(NSA),以其在单一检测装置有效检测样品中分子或分子一部分的大面积多参数传感优势,而在制药业、环保等其它行业得到广泛应用。但直到目前,其实验室规模小批量生产导致相对较高的制造成本,一定程度上限制了新兴技术在更大范围内的商业化推广应用。欧盟第七研发框架计划(FP7)提供490万欧元资助,总研发投入690万欧元,由欧盟6个成员国及联系国芬兰(总协调)、英国、德国、荷兰、奥地利和瑞士,9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队。从2011年2月开(本文来源于《企业技术开发》期刊2015年01期）
李强[9]（2014）在《纳米压印光刻机精密定位工作台设计与研究》一文中研究指出纳米压印光刻技术作为新一代芯片制造技术之一，因其具有加工成本低廉，生产加工效率高等优点而受到了广泛的关注。而在相关领域的研究中，对于用于光刻机的精密定位工作台所涉及定位技术的研究具有重要的意义。精密定位工作台作为纳米压印光刻机的核心部分，其定位精度直接影响光刻机的压印图形质量。本文深入系统地研究了一种用于纳米压印光刻机的精密定位工作台的构型设计、运动学分析、静力学分析、误差分析与建模等关键技术，具体内容如下：1.以传统3-PPRR并联机构为基础，将机构中的传统运动副用相应的柔性铰链代替，设计了一台精密定位工作台，并建立了该机构的SolidWorks叁维模型。该定位工作台以压电陶瓷驱动器作为驱动装置，从而实现机构末端位姿的主动调整。2.建立了机构的伪刚体模型并通过其运动约束方程，得出了机构的位置逆解表达式，进而得到机构的位置正解表达式。得到了机构速度及加速度的正反解。通过RecurDyn对机构进行运动仿真从而对所规划的运动轨迹进行验证。最后利用Matlab软件对机构的工作空间进行了仿真。3.对各类柔性铰链刚度进行分析与建模后，建立了柔性并联机构的静刚度理论模型，利用所建立的叁维模型对本定位机构进行了有限元分析与仿真，最终验证该机构的静力学特性满足本课题的要求。4.最后，对影响精密定位工作台的多项误差源进行了综合分析与研究。建立了精密定位机构的误差模型，并提出了两种误差补偿办法。(本文来源于《河北工程大学》期刊2014-12-18）
李增辉[10]（2014）在《大面积复合纳米压印光刻机的研究与开发》一文中研究指出LED图形化、晶圆级光学器件、高效太阳能电池板、高性能玻璃、大尺寸高清平板显示等行业对于大面积纳米图形化具有巨大的市场需求，但现有各种微纳米制造技术难以满足其工业级生产的需求，尽管纳米压印被看作最具潜能实现大面积纳米图形化的技术之一，但现有压印工艺仍面临压印力大、脱模困难、模具寿命短、模具与非平整衬底共形接触差等挑战性难题，因此，迫切需要开发新的纳米压印工艺以实现超大尺寸非平整衬底的图形化。课题组提出了一种复合纳米压印工艺，它采用一次性复合薄膜软模具、气体顺序辅助微接触压印和揭开式脱模等策略，为超大尺寸非平整衬底纳米图形化提供了一种新的解决方案，基于该工艺，本文开展了复合纳米压印光刻机的研究与开发。首先，介绍了复合纳米压印工艺基本原理，进行了复合纳米压印光刻机的机械系统和电气控制系统总体设计，提出的复合纳米压印光刻机由压印机构、承片机构、模具进给系统、气动系统、机架五部分组成，并进行了五个功能子模块的详细设计，对于复合纳米压印光刻机控制系统进行了初步的设计。揭开式脱模是复合纳米压印工艺的关键步骤，对于压印图形的精度、效率和质量有着重要的影响，开展揭开式脱模的研究。基于应变能法，并结合脱模过程中能量的守恒，建立了揭开式脱模预估脱模力理论模型；以光栅图形垂直式脱模为例，建立了气体辅助揭开式脱模在脱模过程中所需气压脱模力理论模型；利用ABAQUS工程模拟软件，揭示了模具材料特性、特征图形几何参数对于揭开式脱模影响规律，为复合纳米压印工艺优化和设备开发奠定了重要理论基础。复合薄膜模具是复合纳米压印工艺的关键工艺要素，不同于传统纳米压印使用的模具，本文提出一种新型水溶性复合薄膜模具，它包括图形层和支撑层，其中图形层采用水溶性材料PVA。针对高效太阳能电池板、抗反射玻璃图形化的要求，对于模具图形进行了优化设计，应用有限时域差分法（FDTD）重点对复合薄膜模具的表面微纳结构的抗反射特性进行了优化，得到了一种抗反特性优异的金字塔型二维光栅微纳结构，最后，讨论该模具的制造方法。复合薄膜模具的进给及张力控制极大影响着纳米压印的质量，本文对复合纳米压印光刻机的模具进给系统进行了设计，确定了系统的张力控制方式，并通过对主要功能模块的计算确定出模块机构的主要参数，并搭建了实验平台。(本文来源于《青岛理工大学》期刊2014-12-01）
纳米压印光刻论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了减小纳米压印光刻胶与模板间的接触黏附力,合成了一种无氟抗粘巯基-烯纳米压印光刻胶。以Α,Α,Α′-叁(4-羟苯基)-1-乙基-4-异丙苯(TPA)和溴丙烯为原料,采用相转移催化法制备了一种功能性单体Α,Α,Α′-叁(4-丙烯基苯基醚)-1-乙基-4-异丙苯(TPAE),并将其按特定配比与叁羟甲基丙烷叁(3-巯基丙酸酯)和光引发剂配制成纳米压印光刻胶。实时傅里叶红外光谱(FT-IR)分析表明,当辐射剂量为200 mJ/cm2时,双键的转化率为78.0%,巯基的转化率为78.1%。胶膜的去离子水接触角为90°。纳米压印光刻胶脱模后的图形结构规整,保真度高,具有良好的脱模性能。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
纳米压印光刻论文参考文献
[1].胡克想,王阳培华,王庆康.基于紫外纳米压印光刻的氟化混合物模板制备[J].飞控与探测.2019
[2].李桃,廖兵,韦代东,汪慧怡,雍奇文.基于多苯烯丙基醚无氟抗粘的巯基-烯纳米压印光刻胶[J].微纳电子技术.2018
[3].兰红波,郭良乐,许权,钱垒.大面积纳米压印光刻晶圆级复合软模具制造[J].光学精密工程.2018
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[6].张富饶.带形纳米压印光刻机的研究与开发[D].青岛理工大学.2015
[7]..欧盟纳米压印光刻技术实现感应薄膜低成本量产[J].军民两用技术与产品.2015
[8]..欧盟纳米压印光刻技术实现低成本批量生产感应薄膜[J].企业技术开发.2015
[9].李强.纳米压印光刻机精密定位工作台设计与研究[D].河北工程大学.2014
[10].李增辉.大面积复合纳米压印光刻机的研究与开发[D].青岛理工大学.2014
论文知识图
