基于铋纳米颗粒的自由沉降法制作X射线吸收光栅

论文摘要

利用深反应离子刻蚀技术或湿法腐蚀在硅上制作光栅结构,将与光栅浸润的液体作为载体携带铋纳米颗粒进入光栅结构内,形成致密排列,从而制作出X射线吸收光栅.致密地填充了周期为42μm、刻蚀深度为150μm的光栅结构,比较了其与微铸造法制作的铋块体吸收光栅的X射线吸收性能,并通过填充周期为24μm和6μm的光栅结构,研究了光栅周期与填充致密性之间的关系.扫描电镜测试结果显示自由沉降法可有效制作较大周期光栅,但对周期为6μm光栅结构填充的致密性不佳。分析结果表明,对于小周期吸收光栅,需筛选所用填充颗粒,以保证颗粒粒径远小于光栅槽宽.基于纳米颗粒的自由沉降法可降低光栅制作成本及技术门槛,方便实现大面积吸收光栅的制作.

论文目录

• 0 引言
• 1 实验
•   1)光栅结构获取
•   2)制作浸润层
•   3)铋纳米颗粒分散
•   4)光栅结构排气及铋纳米颗粒填充
• 2 结果与讨论
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 雷耀虎,许桂雯,李乔飞,WALI Faiz,刘鑫,李冀,黄建衡

关键词: 射线成像,吸收光栅,自由沉降,铋纳米颗粒,刻蚀,相位衬度

来源: 光子学报 2019年10期

年度: 2019

分类: 基础科学,工程科技Ⅰ辑

专业: 物理学,材料科学

单位: 深圳大学物理与光电工程学院光电子器件与系统(教育部/广东省)重点实验室

基金: 国家自然科学基金(Nos.61227802,61405120,61605119,61571305,11674232),深圳市自然科学基础研究(No.JCYJ20170302142617703),深圳大学教师启动项目(Nos.2017017,2018041)~~

分类号: O434.1;TB383.1

页码: 229-234

总页数: 6

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