全文摘要
本申请实施例提供显示面板及显示系统，涉及显示技术领域，用于解决显示装置中由于液晶分子，导致画质降低的问题。该显示面板包括位于显示面板的亚像素内的第一电极，以及覆盖第一电极的光调制结构。显示面板还包括位于光调制结构背离第一电极一侧的第二电极。光调制结构包括调光薄膜和折射率调节层。折射率调节层位于调光薄膜背离第一电极的一侧，且与调光薄膜相接触。折射率调节层用于在第一电极和第二电极之间的电场作用下，其折射率发生变化。调光薄膜与折射率调节层相接触的表面的至少一部分为曲面。调光薄膜用于调节光线在调光薄膜与折射率调节层接触面的入射角。
主设计要求
1.一种显示面板，其特征在于，包括位于所述显示面板的亚像素内的第一电极，以及覆盖所述第一电极的光调制结构；所述显示面板还包括位于所述光调制结构背离所述第一电极一侧的第二电极；所述光调制结构包括调光薄膜和折射率调节层；所述折射率调节层位于所述调光薄膜背离所述第一电极的一侧，且与所述调光薄膜相接触；所述折射率调节层用于在所述第一电极和所述第二电极之间的电场作用下，其折射率发生变化；所述调光薄膜与所述折射率调节层相接触的表面的至少一部分为曲面；所述调光薄膜用于调节光线在所述调光薄膜与所述折射率调节层接触面的入射角。
设计方案
1.一种显示面板，其特征在于，包括位于所述显示面板的亚像素内的第一电极，以及覆盖所述第一电极的光调制结构；
所述显示面板还包括位于所述光调制结构背离所述第一电极一侧的第二电极；
所述光调制结构包括调光薄膜和折射率调节层；所述折射率调节层位于所述调光薄膜背离所述第一电极的一侧，且与所述调光薄膜相接触；
所述折射率调节层用于在所述第一电极和所述第二电极之间的电场作用下，其折射率发生变化；
所述调光薄膜与所述折射率调节层相接触的表面的至少一部分为曲面；所述调光薄膜用于调节光线在所述调光薄膜与所述折射率调节层接触面的入射角。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述调光薄膜包括多个凸起；
所述多个凸起分布于所述第一电极靠近所述折射率调节层一侧表面上；
所述凸起与所述折射率调节层相接触的表面为曲面。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个凸起呈矩阵形式排列，且任意两个所述凸起的外形尺寸相同。
4.根据权利要求2-3任一项所述的显示面板，其特征在于，每个所述凸起与所述折射率调节层相接触的表面为半球面。
5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，构成所述折射率调节层的材料包括电光晶体材料。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的横纵交叉的多条栅线和多条数据线；所述多条栅线和所述多条数据线交叉界定出多个所述亚像素；
所述显示面板还包括位于所述亚像素内的晶体管；
所述晶体管的栅极与所述栅线电连接，所述晶体管的第一极与所述数据线电连接；所述晶体管的第二极与所述第一电极电连接。
7.根据权利要求1或6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于每个亚像素内的供电电极，所述供电电极与所述第二电极电连接，所述供电电极用于向所述第二电极提供供电电压。
8.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括黑矩阵；所述黑矩阵位于所述第二电极背离所述第一电极的一侧；
所述黑矩阵至少覆盖所述晶体管的一部分。
9.一种显示系统，其特征在于，包括光源，以及如权利要求1-8任一项所述的显示面板。
10.根据权利要求9所述的显示系统，其特征在于，所述光源位于所述显示面板中，第一电极背离所述第二电极的一侧；且所述光源的出光面与所述显示面板的显示侧平行。
11.根据权利要求10所述的显示系统，其特征在于，所述显示面板还包括彩色滤光层；
所述彩色滤光层位于所述第二电极背离所述第一电极的一侧，且所述彩色滤光层覆盖所述显示面板的光调制结构。
12.根据权利要求9所述的显示系统，其特征在于，所述光源的出光面与所述显示面板的显示侧相交；
所述显示系统还包括，设置于所述光源出光路径上的半透半反镜和反射镜；
所述半透半反镜位于所述反射镜和所述光源之间，且所述显示面板的第一电极背离所述第二电极的一侧靠近所述半透半反镜；所述反射镜用于将所述光源穿过所述半透半反镜的光线反射至所述半透半反镜；
所述半透半反镜用于将反射镜反射的光线反射至所述显示面板。
13.根据权利要求12所述的显示系统，其特征在于，所述显示面板还包括彩色滤光层；
所述彩色滤光层位于所述第一电极背离所述第二电极的一侧，且所述彩色滤光层覆盖所述显示面板的光调制结构。
14.根据权利要求12所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统还包括透镜；
所述透镜和所述显示面板位于所述光源出光路径的两侧，且所述透镜与所述显示面板的位置相对应。
15.根据权利要求9-14任一项所述的显示系统，其特征在于，所述显示系统包括处理器，所述处理器与所述显示面板电连接；所述处理器用于向所述显示面板输出显示图像。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及显示面板及显示系统。
背景技术
显示技术领域，通过控制液晶分子的偏转，可以实现显示对显示画面的灰阶进行控制。以全息显示为例，现有的全息显示装置中，采用液晶空间光调制器对全息干涉图像进行加载。然而液晶光调制器中的液晶分子容易出现极化，从而影响画质，降低显示效果。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供显示面板及显示系统，用于解决显示装置中由于液晶分子，导致画质降低的问题。
为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：
本申请实施例的一方面，提供一种显示面板，包括位于所述显示面板的亚像素内的第一电极，以及覆盖所述第一电极的光调制结构；所述显示面板还包括位于所述光调制结构背离所述第一电极一侧的第二电极；所述光调制结构包括调光薄膜和折射率调节层；所述折射率调节层位于所述调光薄膜背离所述第一电极的一侧，且与所述调光薄膜相接触；所述折射率调节层用于在所述第一电极和所述第二电极之间的电场作用下，其折射率发生变化；所述调光薄膜与所述折射率调节层相接触的表面的至少一部分为曲面；所述调光薄膜用于调节光线在所述调光薄膜与所述折射率调节层接触面的入射角。综上所述，本申请实施例提供的显示面板中具有光调制结构，该光调制结构包括相接触的调光薄膜和折射率调节层。折射率调节层的折射率可以跟随第一电极和第二电极之间电场的变化而变化。这样一来，通过改变第一电极和第二电极的电场，可以达到调节光线在调光薄膜与折射率调节层相接触的表面的全反射角的目的。在此基础上，由于调光薄膜与折射率调节层相接触的表面的至少一部分为曲面，该调光薄膜可以对入射至调光薄膜和折射率调节层接触面的光线的入射角进行调节。基于此，在第一电极、第二电极以及光调制结构的作用下，可以对入射至光调制结构的光线中，穿过该光调制结构或被光调制结构反射的光线的量进行调整，从而可以使得显示面板显示不同灰阶的图像。在此情况下，具有上述显示面板的显示装置需要显示全息图像时，上述显示面板可以用于加载具有不同灰度的全息干涉条纹。在此情况下，无需通过具有液晶分子的液晶光调制器对全息干涉条纹进行加载，从而可以避免由于液晶分子的极化导致，显示画质降低的问题。
在本申请的一些实施例中，所述调光薄膜包括多个凸起；所述多个凸起分布于所述第一电极靠近所述折射率调节层一侧表面上；所述凸起与所述折射率调节层相接触的表面为曲面。
在本申请的一些实施例中，所述多个凸起呈矩阵形式排列，且任意两个所述凸起的外形尺寸相同。
在本申请的一些实施例中，每个所述凸起与所述折射率调节层相接触的表面为半球面。
在本申请的一些实施例中，构成所述折射率调节层的材料包括电光晶体材料。
在本申请的一些实施例中，所述显示面板包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的横纵交叉的多条栅线和多条数据线；所述多条栅线和所述多条数据线交叉界定出多个所述亚像素；所述显示面板还包括位于所述亚像素内的晶体管；所述晶体管的栅极与所述栅线电连接，所述晶体管的第一极与所述数据线电连接；所述晶体管的第二极与所述第一电极电连接。
在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括设置于每个亚像素内的供电电极，所述供电电极与所述第二电极电连接，所述供电电极用于向所述第二电极提供供电电压。
在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括黑矩阵；所述黑矩阵位于所述第二电极背离所述第一电极的一侧；所述黑矩阵至少覆盖所述晶体管的一部分。
本申请实施例的另一方面，提供一种显示系统，包括如上所述的任意一种显示面板。该显示系统具有与前述实施例提供的显示面板相同的技术效果，此处不再赘述。
在本申请的一些实施例中，所述光源位于所述显示面板中，第一电极背离所述第二电极的一侧；且所述光源的出光面与所述显示面板的显示侧平行。
在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括彩色滤光层；所述彩色滤光层位于所述第二电极背离所述第一电极的一侧，且所述彩色滤光层覆盖所述显示面板的光调制结构。
在本申请的一些实施例中，所述光源的出光面与所述显示面板的显示侧相交；所述显示系统还包括，设置于所述光源出光路径上的半透半反镜和反射镜；所述半透半反镜位于所述反射镜和所述光源之间，且所述显示面板的第一电极背离所述第二电极的一侧靠近所述半透半反镜；所述反射镜用于将所述光源穿过所述半透半反镜的光线反射至所述半透半反镜；所述半透半反镜用于将反射镜反射的光线反射至所述显示面板。
在本申请的一些实施例中，所述显示面板还包括彩色滤光层；所述彩色滤光层位于所述第一电极背离所述第二电极的一侧，且所述彩色滤光层覆盖所述显示面板的光调制结构。
在本申请的一些实施例中，所述显示系统还包括透镜；所述透镜和所述显示面板位于所述光源出光路径的两侧，且所述透镜与所述显示面板的位置相对应。
在本申请的一些实施例中，所述显示系统包括处理器，所述处理器与所述显示面板电连接；所述处理器用于向所述显示面板输出显示图像。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请的一些实施例提供的一种显示面板的亚像素的一种划分示意图；
图2为本申请的一些实施例提供的一种显示面板的局部结构示意图；
图3为图2中调光薄膜的一种光线传播示意图；
图4a为图2中调光薄膜的另一种光线传播示意图；
图4b为图2中调光薄膜的另一种光线传播示意图；
图4c为图2中调光薄膜的另一种光线传播示意图；
图5为本申请的一些实施例提供的一种全息干涉图像示意图；
图6为图2中光调制结构的示意图；
图7为本申请的一些实施例提供的一种显示面板的亚像素的另一种划分示意图；
图8为本申请的一些实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图9a为图8所示的显示面板的一种显示方式示意图；
图9b为图8所示的显示面板的另一种显示方式示意图；
图9c为图8所示的显示面板的另一种显示方式示意图；
图10为本申请实施例提供的一种显示系统的结构示意图；
图11为本申请的一些实施例提供的另一种显示系统的结构示意图；
图12为本申请的一些实施例提供的另一种显示系统的结构示意图。
附图标记：
01-显示面板；10-亚像素；100-衬底基板；101-盖板；11-第一电极；12-第二电极；20-光调制结构；201-调光薄膜；2010-凸起；202-折射率调节层；30-供电电极；40-黑矩阵；50-封框胶；60-光源；61-彩色滤光层；62-半透半反镜；63-反射镜；70-处理器。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本申请实施例提供一种显示面板01，如图1所示，该显示面板01具有多个亚像素(sub pixel)10。
此外，如图2所示，上述显示面板01还包括位于亚像素10内的第一电极11，以及覆盖该第一电极11的光调制结构20。
上述显示面板还包括位于光调制结构20背离第一电极10一侧的第二电极12。在此情况下，该光调制结构20位于第一电极10和第二电极12之间。
需要说明的是，在本申请的一些实施例中，所有亚像素10中的光调制结构20可以共用一个第二电极12，在此情况下，该第二电极12能够覆盖显示面板01中的所有光调制结构20。
或者，在本申请的另一些实施例中，显示面板10可以包括多个第二电极12，每个第二电极12位于一个亚像素10内，且该第二电极12覆盖与其位于同一亚像素10内的光调制结构20。此时，在显示过程中，多个位于不同亚像素10的第二电极12施加的电压可以相同。
上述第一电极11可以称为像素电极，第二电极12可以称为公共电极。其中，构成上述第一电极11和第二电极12的材料可以为透明导电材料。例如，氧化铟锡(Indium TinOxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)。
基于此，上述光调制结构20，如图2所示，包括调光薄膜201和折射率调节层202。
其中，折射率调节层202位于调光薄膜201背离第一电极10的一侧，且与调光薄膜相接触。
在此情况下，上述折射率调节层202用于在第一电极10和第二电极12之间的电场作用下，其折射率发生变化。即，当向第一电极10和第二电极12施加电压时，第一电极10和第二电极12之间产生电场，在该电场的作用下，上述折射率调节层202的折射率可以跟随该电场大小的变化而变化。
在本申请的一些实施例中，构成上述折射率调节层202的材料可以包括电光晶体材料。在外电场的作用下，该电光晶体材料的折射率可以发生变化。
在此基础上，上述调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面的至少一部分为曲面。
该调光薄膜201用于调节光线在调光薄膜201与折射率调节层202接触面A的入射角α。
需要说明的是，该调光薄膜201用于调节光线在调光薄膜201与折射率调节层202接触面A的入射角θ是指，由上述可知，调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的至少一部分为曲面，在此情况下，如图3所示，入射至调光薄膜201与折射率调节层202接触面A不同位置的光线，由于表面法线的方向不同，因此光线的入射角θ1和θ2也不同。
综上所述，本申请实施例提供的显示面板01中，具有光调制结构20，该光调制结构20包括相接触的调光薄膜201和折射率调节层202。其中，折射率调节层202的折射率可以跟随第一电极11和第二电极12之间电场的变化而变化。这样一来，通过改变第一电极11和第二电极12的电场，可以达到调节光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的全反射角α的目的。
示例的，调光薄膜201的折射率为n1；在第一电极11和第二电极12的电场作用下，折射率调节层202的折射率为n2。在此情况下，上述全反射角α为：
在此基础上，由于调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的至少一部分为曲面，该调光薄膜201可以对入射至调光薄膜和折射率调节层接触面A的光线的入射角θ进行调节。
在此情况下，当上述全反射角α具有最小值时，光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A各处的入射角，例如图3中的入射角θ1和θ2均大于上述全反射角α，此时，入射至光调制结构20的光线如图4a所示，全部被反射。
或者，当增大上述全反射角α时，如图4b所示，例如入射角θ1＞α；入射角θ1＜α。此时，以入射角θ1入射至上述表面A的光线在调光薄膜201内发生全反射，而以入射角θ2入射至上述表面A的光线能够透过调光薄膜201入射至折射率调节层202。
又或者，当继续增大上述全反射角α时，如图4c所示，例如入射角θ1以及入射角θ1均小于α。此时，以入射角θ1入射至上述表面A的光线，以及以入射角θ2入射至上述表面A的光线均能够透过调光薄膜201入射至折射率调节层202。
由上述可知，在第一电极、第二电极以及光调制结构20的作用下，可以对入射至光调制结构20的光线中，穿过该光调制结构20或被光调制结构20反射的光线的量进行调整，从而可以使得显示面板01显示不同灰阶的图像。
在此情况下，具有上述显示面板01的显示装置需要显示全息图像时，上述显示面板01可以用于加载具有不同灰度的，如图5所示的全息干涉条纹。在此情况下，无需通过具有液晶分子的液晶光调制器对全息干涉条纹进行加载，从而可以避免由于液晶分子的极化导致，显示画质降低的问题。
以下对调光薄膜201的结构进行详细的说明。
如图6所示，上述调光薄膜201包括多个凸起2010。上述多个凸起2010分布于第一电极11靠近折射率调节层202一侧表面上。
此外，如图2所示，凸起2010与折射率调节层202相接触的表面A为曲面。在此情况下，由于调光薄膜201包括多个凸起2010，通过该多个凸起2010可以增加调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的面积，使得入射光在每个凸起2010与折射率调节层202相接触的表面发生上述反射和\/或透射现象，从而提高光调制结构20出射光线的出光效率和均匀性。
本申请对制作由多个凸起2010构成的调光薄膜201的方法不做限定。例如可以采用喷墨打印的方法在第一电极11靠近第二电极12的表面上制作上述多个凸起2010。
在此基础上，上述多个凸起2010呈矩阵形式排列，且任意两个凸起2010的外形尺寸相同。这样一来，可以简化调光薄膜201的制作工艺，无需额外调整制作参数，以制作出不同规格的凸起2010。此外，上述多个呈矩阵形式排列的凸起2010能够使得光调制结构20出射的光线的更加均匀。
基于此，为了增加入射至调光薄膜201的光线在每个凸起2010位置的出光量，每个上述凸起与折射率调节层202相接触的表面可以为半球面。
此外，为了向每个亚像素中的第一电极11进行充电，如图7所示，上述显示面板01包括衬底基板100(如图8所示)，以及位于该衬底基板100上的横纵交叉的多条栅线(gateline，GL)和多条数据线(data line，DL)。
其中，该多条栅线GL和所述数据线DL交叉界定出多个上述亚像素10。
此外，上述显示面板01还包括位于每个亚像素10内的晶体管T，该晶体管的栅极(g)与栅线GL电连接，晶体管的第一极(例如源极s)与数据线DL电连接；晶体管的第二极(例如漏极d)与第一电极11电连接。
如图8所示，晶体管T的栅极g表面覆盖有栅极绝缘层，该栅极绝缘层与晶体管T的源极s和漏极d之间具有有源层。晶体管T的源极s和漏极d的表面覆盖有绝缘层。此外，折射率调节层202与第二电极12之间设置有绝缘层。
在此情况下，当向一行栅线GL输入栅极扫描信号将其选通后，该被选通的栅线GL能够将与其电连接的TFT导通，然后数据线DL上的数据电压Vdata能够通过导通的TFT传输至于该TFT电连接的第一电极11上，从而对该第一电极11进行充电。
此外，为了向的第二电极12供电，上述显示面板01如图8所示，还包括设置于每个亚像素10内的供电电极30。该供电电极30通过设置于绝缘层上的过孔与第二电极电连接。上述供电电极30用于向第二电极12提供供电电压。
在此基础上，为了简化制作工艺，上述供电电极30可以与晶体管T的栅极g同层同材料。这样一来，可以通过一次构图工艺同时完成供电电极30和晶体管栅极g的制作。
在此情况下，通过向供电电极30提供电压，从而可以通过该供电电极30向第二电极12进行充电。
需要说明的是，在本公开的一些实施例中，构图工艺，可指包括光刻工艺，或，包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺，是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。可根据本实用新型中所形成的结构选择相应的构图工艺。
其中，本公开的实施例中的一次构图工艺，是以通过一次掩膜曝光工艺形成不同的曝光区域，然后对不同的曝光区域进行多次刻蚀、灰化等去除工艺最终得到预期图案为例进行的说明。
此外，上述显示面板01还包括覆盖第二电极12的盖板101。构成该盖板101的材料可以为透明玻璃，或者透明树脂材料。
基于此，为了避免外界光线闯过透明的盖板101照射到晶体管T的有源层，从而对该晶体管T的性能产生不良的影响。上述显示面板01还包括，如图8所示，设置于盖板101靠近衬底基板100一侧，且位于第二电极12背离第一电极11的一侧的黑矩阵40。
上述黑矩阵40至少可以覆盖晶体管T的一部分。例如，黑矩阵40在衬底基板100上的正投影可以覆盖晶体管T的有源层区域在衬底基板100上的正投影。此外，为了对显示面板01上不发光的区域进行遮挡，减少金属线的反光或其他光电效应引起的不良，黑矩阵40还可以覆盖栅线GL和数据线DL。
此外，在显示面板01中设置有亚像素10的显示区域的边缘，设置封框胶50，从而将显示区域和非现实区域进行隔离。
以图8所示的显示面板01为例，对显示面板01的显示方式进行说明。
显示方式一：
在本显示方式中，向第一电极11和第二电极12分别施加电压，例如，向第一电极11施加的电压为+8V，第二电极12施加的电压为0V。此时假设折射率调节层202的折射率n2具有最小值，则由上述公式(1)可知，光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的全反射角α具有最小值。
在此情况下，如图9a所示，可以使得光源入射至调光薄膜201的光线，在上述表面A的入射角均大于上述全反射角α，这样一来，所有入射光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A处被全反射，从而使得调光薄膜201无光线出射至折射率调节层202。
基于此，当显示面板01中衬底基板100所在的一侧为显示侧时，光源提供的光线，全部从衬底基板100一侧出射，此时显示面板01显示的灰阶值最大。
或者，当显示面板01中与该衬底基板100相对设置的盖板101所在的一侧为显示侧时，光源提供的光线由于均被反射，所以没有光线从盖板101一侧出射，此时显示面板01显示的灰阶值最小，呈暗态。
显示方式二：
在本显示方式中，向第一电极11和第二电极12分别施加电压，例如，向第一电极11施加的电压为-8V，第二电极12施加的电压为0V。此时假设折射率调节层202的折射率n2与调光薄膜201的折射率n1相同，则由上述公式(1)可知，光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的全反射角α具有最大值。
在此情况下，如图9b所示，可以使得光源入射至调光薄膜201的光线，在上述表面A的入射角均小于上述全反射角α，这样一来，所有入射光线均能够通过调光薄膜201入射至折射率调节层202。
基于此，当显示面板01中衬底基板100所在的一侧为显示侧时，光源提供的光线，由于全部透过调光薄膜201，因此没有光线从衬底基板100一侧出射，此时显示面板01显示的灰阶值最小，呈暗态。
或者，当显示面板01中盖板101所在的一侧为显示侧时，光源提供的光线，由于全部透过调光薄膜201，因此会全部从盖板101一侧出射，此时显示面板01显示的灰阶值最大。
显示方式三：
在本显示方式中，向第一电极11和第二电极12分别施加电压，例如，向第一电极11施加的电压为-8V至+8V，第二电极12施加的电压为0V。此时假设折射率调节层202的折射率n2位于上述最小值和最大值之间，则由上述公式(1)可知，光线在调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A的全反射角α位于上述最小值和最大值之间。
在此情况下，如图9c所示，可以使得光源入射至调光薄膜201的光线中，一部分光线在上述表面A的入射角大于上述全反射角α，而发生全反射，而一部分光线在上述表面A的入射角小于上述全反射角α而透过上述调光薄膜201入射至折射率调节层202。
基于此，光源提供的光线中一部分由衬底基板100一侧出射，一部分光线由盖板101一侧出射。因此无论显示面板01的显示侧位于衬底基板100所在的一侧，还是盖板101所在的一侧，显示面板01显示图像的灰阶值为位于最大灰阶值和最小灰阶值之间的中间灰阶值。
由上述显示方式可知，显示面板01中衬底基板100所在的一侧，以及盖板101所在的一侧均能够进行图像显示，因此本申请实施例提供的显示面板01能够实现双面显示。
本申请实施例提供一种显示系统，包括如上所述的任意一种显示面板01。该显示系统具有与前述实施例提供的显示系统相同的技术效果，此处不再赘述。
上述显示系统可以实现反射式显示和透射式显示，以下对上述两种显示方式进行详细的说明。
例如，当上述显示系统实现透射式显示时，该显示系统，如图10所示包括光源60。
其中，光源60位于显示面板01中，第一电极11背离第二电极12的一侧，并且上述光源60的出光面与显示面板01的显示侧平行。
需要说明的是，上述显示面板01的显示侧是指，该显示面板01显示画面的一侧。对于透射式显示系统而言，显示面板01的显示侧为该显示面板01的盖板101所在的一侧。
在此情况下，光源60发出的光线，能够穿过第一电极11入射至调光薄膜201与折射率调节层202相接触的表面A。
同上所述，当所有光线在该表面A的入射角θ均大于全反射角α时，所有光线在上述表面A发生全反射，因此没有光线透过折射率调节层202和第二电极12，并由盖板101出射。此时，该显示面板01呈暗态。
当所有光线在该表面A的入射角θ均小于全反射角α时，所有光线透过折射率调节层202和第二电极12，并由盖板101出射。此时，该显示面板01的灰阶值最高。
当部分光线在该表面A的入射角θ大于全反射角α，部分光线在该表面A的入射角θ小于全反射角α时，入射角θ较大的光线在上述表面A发生全反射，入射角θ较小的光线透过折射率调节层202和第二电极12，并由盖板101出射。此时，该显示面板01显示中间灰阶。
在此基础上，为了实现彩色显示，对上述实现透射式显示的显示面板01而言，该显示面板01还包括彩色滤光层61。
上述彩色滤光层61位于第二电极12背离第一电极11的一侧，且上述彩色滤光层61覆盖显示面板01的光调制结构20。在此情况下，由光调制结构20出射的光线在沿朝向盖板10的方向传输时，能够透过上述彩色滤光层61，从而在该彩色滤光层61的滤色作用下，使得亚像素10发出彩色，例如蓝色、红色或者绿色的光线。
基于此，位于同一像素(pixel)中的多个亚像素10，每个亚像素10中的彩色滤光层61能够透过的光线的波长不同。
又例如，当上述显示系统实现反射式显示时，如图11所示，上述显示系统中的光源60的出光面与显示面板01的显示侧相交。
需要说明的是，对于能够实现反射式显示的显示面板01而言，显示面板01的显示侧可以是该显示面板01中衬底基板100所在的一侧，也可以是盖板101所在的一侧。此时，由上述可知，显示面板01可以实现双面显示。
此外，上述显示系统还包括，设置于光源60出光路径上的半透半反镜62和反射镜63。
其中，半透半反镜62位于反射镜63和光源60之间，且显示面板01的第一电极11背离第二电极12的一侧靠近半透半反镜62。
上述反射镜63用于将光源60穿过半透半反镜62的光线反射至半透半反镜62。
半透半反镜62用于将反射镜63反射的光线反射至显示面板01。由于显示面板01的第一电极11背离第二电极12的一侧靠近半透半反镜62，因此可以使得光源60发出的光线，先入射至光调制结构20中的调光薄膜201。
在此情况下，通过上述半透半反镜62和反射镜63，可以将出光面与显示面板01的显示侧相交的光源60发出的光线传递至显示面板01中的调光薄膜201。在此情况下，由于光源60与显示面板01的显示侧交错设置，从而使得显示面板01中衬底基板100所在的一侧，以及盖板101所在的一侧均可以进行显示。
此外，上述显示系统还包括透镜64，该透镜64和显示面板01位于上述光源60出光路径的两侧，且该透镜64与显示面板01的位置相对应。在此情况下，上述透镜64可以将显示面板01显示的画面汇聚至需要观看的位置。
在此基础上，为了实现彩色显示，上述显示面板01还包括彩色滤光层61。该彩色滤光层61位于第一电极11背离第二电极12的一侧，且该彩色滤光层61覆盖显示面板01的光调制结构20。该彩色滤光层61的作用和技术效果同上所述，此处不再赘述。
上述光源60可以为LED(Light Emitting Diode，LED)，或者激光。本申请对此不做限定。
此外，对于上述透射式或反射式显示系统而言，如图12所示，该显示系统还包括处理器70。
其中，上述处理器70与显示面板01电连接。该处理器70用于向显示面板01输出显示图像。
在本申请的一些实施例中，上述显示图像可以为2D图像，此时，该显示系统中的显示面板01能够对上述2D图像进行显示。
或者，在本申请的另一些实施例中，上述显示图像可以为全息干涉条纹图像。当显示面板01显示上述全息干涉条纹图像后，光源60的光线照射到该显示面板01上，能够对全息图像进行再现，从而实现全息显示。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920093060.0
申请日:2019-01-21
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:11(北京)
授权编号:CN209148998U
授权时间:20190723
主分类号:G02F 1/03
专利分类号:G02F1/03;G02F1/29
范畴分类:30A;
申请人:京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
第一申请人:京东方科技集团股份有限公司
申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
发明人:石常洪;王进;陶文昌;李宗祥;廖加敏;周敏;刘耀;吴洪江;刘祖文
第一发明人:石常洪
当前权利人:京东方科技集团股份有限公司;福州京东方光电科技有限公司
代理人:贾莹
代理机构:11274
代理机构编号:北京中博世达专利商标代理有限公司
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计