多孔MoS2/g-C3N4材料对水环境中四环素的降解

论文摘要

通过浸渍-高温煅烧法制备多孔MoS2/g-C3N4光催化剂,采用X射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）、N2吸附-解吸、紫外-可见光（UV-vis）漫反射吸收光谱对材料进行表征;并在可见光照射下,对四环素（TC）进行光催化降解。结果表明,催化剂量为2.0 g·L-1、pH为5.0时,对TC的去除效果最好,可见光照射180 min,MoS2/g-C3N4（1.0%-MC）复合材料对TC的降解率可达80.6%。反应完成后,复合材料循环利用5次,其降解效率仍保持在70.0%以上。浸渍-高温煅烧法所制备的MoS2/g-C3N4光催化剂具有良好的应用前景。

论文目录

• 1 材料与方法
•   1.1 实验试剂
•   1.2 催化剂的制备
•   1.3 催化剂的表征
•   1.4 TC的降解研究
• 2 结果与讨论
•   2.1 MoS2/g-C3N4复合材料的样品结构分析
•     2.1.1 XRD分析
•     2.1.2 TEM和SEM分析
•     2.1.3 N2吸附-脱附分析
•     2.1.4 UV-vis分析
•   2.2 MoS2/g-C3N4催化降解TC的研究
•   2.3 催化剂投加量分析
•   2.4 pH的影响
•   2.5 催化剂稳定性的研究
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 刘阳,高生旺,王丽君,朱建超,高红,夏训峰

关键词: 浸渍高温煅烧法,四环素,光催化降解

来源: 环境工程学报 2019年04期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 环境科学与资源利用

单位: 昆明理工大学建筑工程学院,中国环境科学研究院

基金: 国家科技支撑计划课题(2014BAL02B02)

分类号: X703

页码: 818-825

总页数: 8

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