青瓷釉的自还原法制备及机理研究

论文摘要

以生料石灰碱釉为基础,通过四角配料法确定青瓷釉基础配方。在此基础上,外加还原剂硅粉在氧化气氛下成功制备青瓷釉。并借助于紫外可见分光光度计、XPS、TG-DSC进行分析。研究表明:自还原法制备青瓷釉最佳配方为:24%熔块、30%石英、24%长石、8%方解石、5%高岭土、3%滑石、4%氧化锌、2%氧化锡、1%氧化铁、0.4%硅粉,最佳烧成温度为1250℃;随着还原剂硅粉加入量的增加,硅粉与三氧化二铁氧化反原反应更加充分,使得釉面朝着青色调方向改变。与此同时釉内残余石英逐渐增多且尺寸变大,当硅粉加入量超过0.45wt%时釉面产生缺陷;其呈色机理为:随着还原剂硅粉加入量的提高,釉内Fe3+与Fe2+的含量比减少,且釉面在紫外区吸光性增强,即釉内二价铁离子的增加起到增色效应,故而呈青色。

论文目录

• 0 引言
• 1 实验
•   1.1 基础釉配方
•   1.2 样品制备
•   1.3 样品表征
• 2 结果与讨论
•   2.1 釉面效果分析
•   2.2 物相分析
•   2.3 微观结构分析
•   2.4 釉色形成机理研究
• 3 结论

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 贺鹏,王芬,朱建锋,汪加欢,施佩,陈璞

关键词: 青瓷釉,烧成气氛,自还原法,反应机理

来源: 中国陶瓷 2019年11期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工

单位: 陕西科技大学材料科学与工程学院陕西省无机材料绿色制备与功能化重点实验室

基金: 国家自然科学基金项目资助（51472153）

分类号: TQ174.43

DOI: 10.16521/j.cnki.issn.1001-9642.2019.11.011

页码: 58-66

总页数: 9

文件大小: 3665K

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