论文摘要
针对化学机械抛光技术（CMP）软件系统复杂、工艺控制种类繁多、运行参数数据量大等问题,提出将MVC（Model-View-Controller）架构应用于CMP软件设计的方法;阐述了MVC架构在CMP软件设计中的应用以及在事件管理程序设计（模块3）和信息筛选中的应用;基于MVC架构的软件设计方法降低了软件模块之间的耦合性,提高了程序的复用性和可维护性。
论文目录
文章来源
类型: 期刊论文
作者: 孔宪越,孟晓云,杨元元
关键词: 化学机械抛光,模型视图控制器架构,软件设计方法
来源: 电子工业专用设备 2019年03期
年度: 2019
分类: 信息科技,工程科技Ⅰ辑
专业: 金属学及金属工艺,计算机软件及计算机应用
单位: 中国电子科技集团公司第四十五研究所
分类号: TP311.52;TG580.692
页码: 25-28
总页数: 4
文件大小: 1259K
下载量: 41
相关论文文献
标签：化学机械抛光论文; 模型视图控制器架构论文; 软件设计方法论文;