阴离子印迹技术研究进展

论文摘要

离子印迹技术因具有高效的预定性、专一的识别性和广泛的适用性,近年来已用于有毒阴离子的检测、分离及吸附去除。通过梳理离子印迹技术的基本原理、制备方法及其在含毒性阴离子废水处理中的优势,针对典型毒性阴离子(砷、铬、钼、氰化物、硫氰化物、三氯乙酸)印迹复合材料及其应用进行了简述,并对阴离子印迹技术存在的问题和发展进行了分析与展望。

论文目录

• 1 离子印迹技术
•   1.1 印迹技术基本原理
•   1.2 印迹聚合物制备方法
•     1.2.1 本体聚合法
•     1.2.2 原位聚合法
•     1.2.3 乳液聚合法
•     1.2.4 悬浮聚合法
•     1.2.5 沉淀聚合法
•     1.2.6 溶胶-凝胶法
•     1.2.7 表面印迹法
•   1.3 离子印迹的优势
• 2 典型阴离子印迹聚合物及其应用
•   2.1 As离子印迹聚合物
•   2.2 Cr离子印迹聚合物
•   2.3 Mo离子印迹聚合物
•   2.4 CN-印迹聚合物
•   2.5 SCN-印迹聚合物
•   2.6 TCAA离子印迹聚合物
• 3 结语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 杨勤桃,解庆林

关键词: 毒性阴离子,印迹,专一性识别

来源: 现代化工 2019年S1期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 化学

单位: 桂林理工大学环境科学与工程学院

基金: 国家自然科学基金项目(41662005,51564008)

分类号: O652

DOI: 10.16606/j.cnki.issn0253-4320.2019.S.015

页码: 69-73+78

总页数: 6

文件大小: 147K

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