导读:本文包含了溅射技术论文开题报告文献综述、选题提纲参考文献及外文文献翻译，主要关键词:磁控溅射,技术,功率,脉冲,机械工程,分会,中国。
溅射技术论文文献综述
陈立[1]（2019）在《AR+DLC+AF复合镀膜线技术和新型NCVM磁控溅射单机技术》一文中研究指出(AR,镜面膜,NCVM等)+DLC+AF产品,具备有叁种膜层各自的优点,但要将AR,DLC,AF叁种特点迥异的叁种膜层成功的结合在一起,在技术上是个较大的难点,叁种膜层在本身成膜的过程中对成膜设备的要求也是迥异的,在叁种膜层复合在一起时,各种成膜设备间的切换,也会造成对复合膜质量极大的影响,AR+DLC+AF复合镀膜线技术,将AR,DLC,AF叁种产品完美的集成在一条inline线上完成。涉及到以下技术亮点1:DLC技术;2:在线AF蒸发技术3:衔接技术4:气氛隔离技术等.通过这些技术融合,可以生产出均匀性在1%左右、DLC膜层莫氏硬度大于或等于8、AR+DLC+AF耐磨1~*1cm钢丝绒耐磨大于5000次,水接触角>100的超硬AR膜。新型NCVM磁控溅射单机技术,是针对膜片镀膜开发的一种大产能,高稳定性,高重复性的单机技术。通过合理的靶位设置、合理的布气抽气设计、稳定的膜厚监控设计、均匀性控制技术、高重复性、合理的除气设计实现大产能、高沉积速率和高稳定性的生产要求。(本文来源于《第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集》期刊2019-11-28）
李金龙,张晶,周艳文,张开策,杜峰[2]（2019）在《利用磁控溅射技术在钛合金制备多层素CrN薄膜的性能》一文中研究指出目的提高钛合金表面硬度,改善其耐磨性,并优化CrN薄膜的制备方法。方法通过调控基体偏压,采用热丝增强等离子体磁控溅射技术制备CrN薄膜。采用扫描电子显微镜观察薄膜的表面及截面形并用附带能谱仪分析成分,利用X射线衍射仪测定薄膜的相组成,利用划痕仪及超景深显微镜测试膜基结合强度,利用显微硬度计及纳米压痕仪测量硬度,并利用ABAQUS软件模拟薄膜冲击响应,采用球-磨磨损试验机及台阶仪检测耐磨性。结果基体偏压为-50V时,薄膜表面呈现出较疏松的棱边和棱角;基体偏压为-100V和-50V/-100V周期性改变时,薄膜表面较致密,并且基体偏压为-50V/-100V时,截面呈现出明显的多层结构。随着基体偏压从-50V增加到-100V时,CrN薄膜的择优取向由(111)面向(200)面转变。基体偏压为-50V/-100V周期性改变制备的多层素CrN薄膜膜基结合强度最好,膜基结合力高达68.6N;硬度、弹性模量及耐磨性也优异,400nm处的纳米硬度高达23.7GPa,弹性模量为309.6 GPa,磨损率最低。结论基体偏压可影响CrN薄膜的择优取向、硬度及耐磨性等性能,在钛合金上制备CrN薄膜可明显提高其硬度及耐磨性,并且通过周期性调节基体偏压大小制备的多层素CrN薄膜性能优于单一基体偏压下制备的薄膜。(本文来源于《TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集》期刊2019-11-15）
杨文茂[3]（2019）在《磁控溅射无氢脆镀层防护高强度合金钢技术进展》一文中研究指出氢脆是一种由于氢渗入金属内部导致损伤,从而使金属材料在低于材料屈服强度的拉应力作用下发生延迟断裂的现象。电镀是吸氢的主要途径之一。由于电流效率无法达到100%,同时伴随着H+的还原,生成的氢会渗透入镀层及基体金属内部,成为氢脆的起源。通常采用镀后较高温度保温除氢法降低氢含量,但无法彻底清除,存在一定的质量安全隐患。为此,无氢生成的表面处理技术是最好的替代技术。(本文来源于《第十届全国腐蚀大会摘要集》期刊2019-10-24）
李刘合[4]（2019）在《“高能冲击磁控溅射技术及工程应用”专题序言》一文中研究指出磁控溅射发展于20世纪70年代,已经被广泛地应用于电子、光学、传感、机械、航空航天等高科技领域。但在应用过程中,人们也日益发现其低离化率(<1%)对磁控溅射的工艺稳定性、绕过性、深孔沉积能力甚至涂层质量等都有很大限制。因此,提高离化率(甚至不惜引入额外的离化装置)曾是该领域持续30多年的研究热点。1999年HiPIMS的出现,改变了这一局面。HiPIMS利用高能脉冲冲击溅射靶材,可在不产生宏观颗粒(Macro Particle)(本文来源于《表面技术》期刊2019年09期）
胡凡,陈特超,范江华,罗超[5]（2019）在《离子束溅射镀膜设备及工艺技术研究》一文中研究指出利用离子束溅射镀膜设备研究了溅射SiO_2薄膜的沉积速率与工艺参数(离子束能量、离子束流、氧气流量和靶基距)之间的关系以及薄膜均匀性修正技术。实验结果表明:SiO_2薄膜沉积速率随着离子束能量与离子束流增加而增大,随着氧气流量的增加先减小后增大;采用修正板技术后薄膜均匀性明显提高。(本文来源于《电子工业专用设备》期刊2019年04期）
王高攀,张旺笋,孙以镁[6]（2019）在《磁控溅射技术在产业用纺织品涂层中的应用进展》一文中研究指出磁控溅射作为一种环保的新型低温高速溅射技术,广泛应用于织物的涂层。文章介绍了织物金属化涂层常用的方法,综述了磁控溅射技术在安全防护、医疗卫生、环境保护和电子工业等领域的研究进展,探讨了磁控溅射技术目前存在的问题。研究认为,磁控溅射技术能有效地在织物表面进行金属化处理,赋予织物特殊性能,但仍需克服自身缺点,向多功能化、复合化、新型技术高效化方向发展。(本文来源于《纺织导报》期刊2019年08期）
[7]（2019）在《2019高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议第一轮通知》一文中研究指出(甘肃兰州2019年7月28-30日)高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。中国机械工程学会表面工程分会作为全国性的学术组织,于2017年在上海首次成功举办了高功率脉冲磁控溅射技术与应用会(本文来源于《真空与低温》期刊2019年03期）
[8]（2019）在《2019高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用会议将在兰州召开》一文中研究指出高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。(本文来源于《表面工程与再制造》期刊2019年03期）
罗明[9]（2019）在《基于磁控溅射技术Sn基薄膜负极材料可控制备及电化学性能研究》一文中研究指出锂离子电池凭借其高电位、无污染、高比容量等优点已经成为能源应用发展的热点。但是目前商业化的碳负极材料因为其较低的比容量制约了其进一步发展。Sn基负极材料理论质量比容量可达到997 mAh g~(-1),是传统碳负极材料的两倍,体积比容量高达7200mAh cm~(-3),具有良好的产业化前景,已成为当前新型锂离子电池负极材料的研发热点。本论文主要制备了如下四种复合薄膜材料,并对其性能进行了研究:(1)Sn-Cu复合薄膜。控制Sn靶材的溅射功率不变,不断调整Cu靶的功率。利用磁控溅射方法制备的薄膜,组分分布致密、均匀,无堆积团聚现象。探索发现,Sn靶40 W,Cu靶25 W为最佳的溅射功率。得到的薄膜材料在循环性能及倍率性能方面得到了改善。0.2C电流密度循环100周后,容量保持率为52.1%;在1 C时容量保持率可以达到82.8%,充电比容量为540 mAh g~(-1)。这表明复合薄膜材料在大倍率电流密度充放电的情况下仍能有效地脱嵌Li~+。(2)Sn-Ni复合薄膜。对制备的薄膜材料尽进行了一系列的测试表明,Ni的加入改善了材料的循环稳定性能。其中,Sn-Ni(40 W-80 W)组材料,150周循环充放电测试容量保持率为45.6%,明显改善了纯Sn材料的循环稳定性。Ni的功率不宜过高,溅射功率过高会导致材料的比容量损失过多。Ni靶的溅射功率设置为80 W最合适。(3)Sn-Ti复合薄膜。探究溅射功率和溅射时间对复合薄膜材料的影响发现,Ti靶的溅射功率过高、沉积时间过长都会使薄膜材料的比容量下降。以Sn靶直流40 W、Ti靶60 W射频溅射5 min,得到的复合材料的循环性能和倍率性能均得到了非常明显的改善。循环50周后仍能保持700 mAh g~(-1)的比容量,容量保持率将近100%;倍率性能方面在1C时容量保持率可以达到91%充电容量为600 mAh g~(-1),这表明复合薄膜材料在大倍率电流密度充放电的情况下仍能保持较小的体积变化,在回到0.2 C电流密度时充电容量为707 mAh g~(-1)。在充放电的过程中,Sn材料的脱落、粉化现象得到了改善,结构基本保持完整。(4)Sn-Al-Ti叁元复合薄膜。Sn-Al-Ti叁元复合薄膜材料首周充电容量为840 mAh g~(-1),首次充放电效率为91.2%;在6000 mAh g~(-1)的充放电电流下仍能保持600 mAh g~(-1)的充电比容量,在20 C大电流密度充放电循环6周后回到0.2 C电流密度充电比容量仍可以达到610 mAh g~(-1),循环120周后可保持694 mAh g~(-1)的充电比容量,保持率达82%。(本文来源于《安庆师范大学》期刊2019-06-01）
本刊编辑部[10]（2019）在《2019高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议将于上海召开》一文中研究指出高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种利用高脉冲峰值功率和低脉冲占空比实现高离化率的溅射沉积薄膜新技术,可以控制膜层的微结构、降低膜层内应力、提高膜层致密度和膜基结合力、获得性能优异的薄膜,在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注。(本文来源于《中国表面工程》期刊2019年02期）
溅射技术论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
目的提高钛合金表面硬度,改善其耐磨性,并优化CrN薄膜的制备方法。方法通过调控基体偏压,采用热丝增强等离子体磁控溅射技术制备CrN薄膜。采用扫描电子显微镜观察薄膜的表面及截面形并用附带能谱仪分析成分,利用X射线衍射仪测定薄膜的相组成,利用划痕仪及超景深显微镜测试膜基结合强度,利用显微硬度计及纳米压痕仪测量硬度,并利用ABAQUS软件模拟薄膜冲击响应,采用球-磨磨损试验机及台阶仪检测耐磨性。结果基体偏压为-50V时,薄膜表面呈现出较疏松的棱边和棱角;基体偏压为-100V和-50V/-100V周期性改变时,薄膜表面较致密,并且基体偏压为-50V/-100V时,截面呈现出明显的多层结构。随着基体偏压从-50V增加到-100V时,CrN薄膜的择优取向由(111)面向(200)面转变。基体偏压为-50V/-100V周期性改变制备的多层素CrN薄膜膜基结合强度最好,膜基结合力高达68.6N;硬度、弹性模量及耐磨性也优异,400nm处的纳米硬度高达23.7GPa,弹性模量为309.6 GPa,磨损率最低。结论基体偏压可影响CrN薄膜的择优取向、硬度及耐磨性等性能,在钛合金上制备CrN薄膜可明显提高其硬度及耐磨性,并且通过周期性调节基体偏压大小制备的多层素CrN薄膜性能优于单一基体偏压下制备的薄膜。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
溅射技术论文参考文献
[1].陈立.AR+DLC+AF复合镀膜线技术和新型NCVM磁控溅射单机技术[C].第叁届粤港澳大湾区真空科技创新发展论坛暨2019年广东省真空学会学术年会论文集.2019
[2].李金龙,张晶,周艳文,张开策,杜峰.利用磁控溅射技术在钛合金制备多层素CrN薄膜的性能[C].TFC'19第十五届全国薄膜技术学术研讨会摘要集.2019
[3].杨文茂.磁控溅射无氢脆镀层防护高强度合金钢技术进展[C].第十届全国腐蚀大会摘要集.2019
[4].李刘合.“高能冲击磁控溅射技术及工程应用”专题序言[J].表面技术.2019
[5].胡凡,陈特超,范江华,罗超.离子束溅射镀膜设备及工艺技术研究[J].电子工业专用设备.2019
[6].王高攀,张旺笋,孙以镁.磁控溅射技术在产业用纺织品涂层中的应用进展[J].纺织导报.2019
[7]..2019高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议第一轮通知[J].真空与低温.2019
[8]..2019高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用会议将在兰州召开[J].表面工程与再制造.2019
[9].罗明.基于磁控溅射技术Sn基薄膜负极材料可控制备及电化学性能研究[D].安庆师范大学.2019
[10].本刊编辑部.2019高功率脉冲磁控溅射沉积薄膜技术与应用专题会议将于上海召开[J].中国表面工程.2019
论文知识图
