磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响

磁控溅射工艺对CrN薄膜及其腐蚀行为的影响

论文摘要

通过磁控溅射技术制备了CrN薄膜,使用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等方法研究了N2分压、溅射功率以及夹杂物数量对CrN薄膜结构、成分、耐蚀性能的影响。结果表明,提高N2分压能增加CrN相的含量,且CrN基体有明显的(111)和(200)面取向;降低溅射功率有利于使更多的Cr参与反应,生成更多的CrN。此外,夹杂物数量对薄膜质量有重大影响,夹杂物处不易镀上膜导致其耐蚀性明显下降。

论文目录

  • 1 实验方法
  • 2 结果与讨论
  •   2.1 N2分压对CrN薄膜性能的影响
  •   2.2 溅射功率对CrN薄膜性能的影响
  •   2.3 夹杂物对CrN薄膜耐蚀性的影响
  • 3 结论
  • 文章来源

    类型: 期刊论文

    作者: 骆鸿,高书君,肖葵,董超芳,李晓刚

    关键词: 不锈钢,磁控溅射,镀膜,腐蚀

    来源: 中国腐蚀与防护学报 2019年05期

    年度: 2019

    分类: 工程科技Ⅰ辑

    专业: 金属学及金属工艺

    单位: 北京科技大学新材料技术研究院国家材料腐蚀与防护科学数据中心

    基金: 国家重点研发专项(2017YFB0702300),国家材料环境腐蚀平台(2005DKA10400),国家自然科学基金(51671029)~~

    分类号: TG174.4

    页码: 423-430

    总页数: 8

    文件大小: 2327K

    下载量: 202

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