全文摘要
本实用新型涉及一种新型钒酸钇晶片，包括晶片本体，晶片本体具有第一透光面、与第一透光面相对设置的第二透光面、第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面，第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面首尾依次垂直相交，且第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面均与第二透光面垂直设置，第一透光面和第二透光面均设有增透膜，所述第一透光面与所述第二透光面之间的夹角在13.1°，所述第二透光面的长度和宽度均为0.67mm，所述增透膜包括复合在所述第一透光面和所述第二透光面上的五氧化二钽增透膜和复合在五氧化二钽增透膜上的二氧化硅增透膜。本实用新型整个钒酸钇晶片具有插入损耗低、结构稳定的优点，对1550nm的光波的透过率可达到99.8％。
设计方案
1.一种新型钒酸钇晶片，包括晶片本体，晶片本体具有第一透光面、与第一透光面相对设置的第二透光面、第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面，第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面首尾依次垂直相交，且第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面均与第二透光面垂直设置，第一透光面和第二透光面均设有增透膜，其特征在于：所述第一透光面与所述第二透光面之间的夹角在13.1°，所述第二透光面的长度和宽度均为0.67mm，所述增透膜包括复合在所述第一透光面和所述第二透光面上的五氧化二钽增透膜和复合在五氧化二钽增透膜上的二氧化硅增透膜。
2.如权利要求1所述的一种新型钒酸钇晶片，其特征在于：所述第一透光面与所述第二透光面之间的最小距离为0.23mm。
3.如权利要求2所述的一种新型钒酸钇晶片，其特征在于：所述五氧化二钽增透膜的厚度在140mm至150mm，所述二氧化硅增透膜的厚度在150mm至160mm。
4.如权利要求3所述的一种新型钒酸钇晶片，其特征在于：所述晶片本体的光轴与所述第二透光面的边线的夹角为22.3°至22.5°。
5.如权利要求4所述的一种新型钒酸钇晶片，其特征在于：所述五氧化二钽增透膜以真空镀的方式形成在所述第一透光面与所述第二透光面，所述二氧化硅增透膜以真空镀的方式形成在五氧化二钽增透膜上。
设计说明书
技术领域
本实用新型涉及一种新型钒酸钇晶片。
背景技术
钒酸钇广泛应用于光纤通信领域，是光通信无源器件如光隔离器、环形器、旋光器、延迟器、偏振器中的关键材料。如CN204945528U，名称为“一种偏振无关光纤隔离器”的中国实用新型专利中，公开了一种偏振无关光纤隔离器，包括磁环、法拉第旋转器、第一楔角片、第二楔角片、第一光纤准直器和第二光纤准直器，所述法拉第旋转器设置在磁环内，第一楔角片安装在磁环内位于法拉第旋转器的左侧，第二楔角片安装在磁环内位于法拉第旋转器的右侧，第二楔角片的晶轴相对于第一楔角片呈45°夹角，第一光纤准直器设置在磁环外部的左侧端，第二光纤准直器设置在磁环外部的右侧端。
该专利中的第一楔角片和第二楔角片即可用到钒酸钇晶片。在授权公告号CN205992066U，名称为“钒酸钇晶片”的中国实用新型专利中，则进一步地公开了钒酸钇晶片的具体结构，其包括梯形状的晶片本体，晶片本体包括一直角面和一斜边，斜边形成一倾斜面，所述直角面和倾斜面的表面均镀有增透膜，直角面与斜边的夹角在12°至13°。传统这种钒酸钇晶片，体积相对较大，为了满足一些迷你隔离器的需要，需要制造体积更小的钒酸钇晶片，钒酸钇晶片体积变小时，需要使得钒酸钇晶片的增透膜更加稳定和耐磨，否则一旦增透膜局部异常(如有小划痕)，则将影响光学传输效果。
鉴于此，本案发明人对上述问题进行深入研究，遂有本案产生。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种规格更小、结构更加稳定、插入损耗小的新型钒酸钇晶片。
为了达到上述目的，本实用新型采用这样的技术方案：
一种新型钒酸钇晶片，包括晶片本体，晶片本体具有第一透光面、与第一透光面相对设置的第二透光面、第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面，第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面首尾依次垂直相交，且第一侧面、第二侧面、第三侧面以及第四侧面均与第二透光面垂直设置，第一透光面和第二透光面均设有增透膜，所述第一透光面与所述第二透光面之间的夹角在13.1°，所述第二透光面的长度和宽度均为0.67mm，所述增透膜包括复合在所述第一透光面和所述第二透光面上的五氧化二钽增透膜和复合在五氧化二钽增透膜上的二氧化硅增透膜。
作为本实用新型的一种优选方式，所述第一透光面与所述第二透光面之间的最小距离为0.23mm。
作为本实用新型的一种优选方式，所述五氧化二钽增透膜的厚度在140mm至150mm，所述二氧化硅增透膜的厚度在150mm至160mm。
作为本实用新型的一种优选方式，所述晶片本体的光轴与所述第二透光面的边线的夹角为22.3°至22.5°。
作为本实用新型的一种优选方式，所述五氧化二钽增透膜以真空镀的方式形成在所述第一透光面与所述第二透光面，所述二氧化硅增透膜以真空镀的方式形成在五氧化二钽增透膜上。
采用本实用新型的技术方案后，第二透光面可以做到长度和宽度均为0.67mm，使得整个晶片本体更加小型化，能够用于小型隔离器中，增透膜包括五氧化二钽增透膜和复合在五氧化二钽增透膜上的二氧化硅增透膜，五氧化二钽增透膜具有膜层附着牢固、光学损耗低的优点，二氧化硅增透膜具有较佳的耐磨性，第一透光面与所述第二透光面之间的夹角在13.1°，整个钒酸钇晶片具有插入损耗低、结构稳定的优点，对1550nm的光波的透过率可达到99.8％。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型另一角度的结构示意图。
图中：
第一透光面10 第二透光面20
第一侧面31 第二侧面32
第三侧面33 第四侧面34
五氧化二钽增透膜40 二氧化硅增透膜50
具体实施方式
为了进一步解释本实用新型的技术方案，下面结合实施例进行详细阐述。
参照图1至图2，一种新型钒酸钇晶片，包括晶片本体，晶片本体为钒酸钇晶片，晶片本体具有第一透光面10、与第一透光面10相对设置的第二透光面20、第一侧面31、第二侧面32、第三侧面33以及第四侧面34，第一侧面31与第三侧面33平行设置，第二侧面32与第四侧面34平行设置，第一透光面10和第二透光面20通过第一侧面31、第二侧面32、第三侧面33以及第四侧面34衔接在一起，第一侧面31、第二侧面32、第三侧面33以及第四侧面34首尾依次垂直相交，且第一侧面31、第二侧面32、第三侧面33以及第四侧面34均与第二透光面20垂直设置，本实用新型中，第二侧面32和第四侧面34为直角梯形，第一透光面10和第二透光面20为矩形，第一侧面31和第三侧面33为矩形，第一透光面10和第二透光面20均设有增透膜，所述第一透光面10与所述第二透光面20之间的夹角在13.1°，即图2中a处的角度，所述第二透光面20的长度和宽度均为0.67mm。所述增透膜包括复合在所述第一透光面10和所述第二透光面20上的五氧化二钽增透膜40和复合在五氧化二钽增透膜40上的二氧化硅增透膜50，也即第一透光面10和所述第二透光面20均设有增透膜。
本实用新型中第一透光面10和第二透光面20的面形均优于λ\/4，光洁度优于40，粗糙度优于均方根2纳米。
作为本实用新型的一种优选方式，所述第一透光面10与所述第二透光面20之间的最小距离为0.23mm，也即图2中d处的距离。
作为本实用新型的一种优选方式，所述五氧化二钽增透膜40的厚度在140mm至150mm，所述二氧化硅增透膜50的厚度在150mm至160mm。
作为本实用新型的一种优选方式，所述晶片本体的光轴与所述第二透光面20的边线的夹角为22.3°至22.5°，即图1中b处的角度，优选22.4°。
作为本实用新型的一种优选方式，所述五氧化二钽增透膜40以真空镀的方式形成在所述第一透光面10与所述第二透光面20，所述二氧化硅增透膜50以真空镀的方式形成在五氧化二钽增透膜40上。真空镀也称为真空蒸镀，为业内的公知技术。
本实用新型的产品形式并非限于本案实施例，任何人对其进行类似思路的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本实用新型的专利范畴。
设计图
相关信息详情
申请码:申请号:CN201920670719.4
申请日:2019-05-10
公开号:公开日:国家:CN
国家/省市:35(福建)
授权编号:CN209895013U
授权时间:20200103
主分类号:G02B5/30
专利分类号:G02B5/30;G02B1/11;G02B6/27
范畴分类:30A;
申请人:福建中策光电股份公司
第一申请人:福建中策光电股份公司
申请人地址:362200 福建省泉州市晋江市陈埭宫口横准工业区
发明人:林景亮;林亚桢;杨向军
第一发明人:林景亮
当前权利人:福建中策光电股份公司
代理人:陈云川
代理机构:35205
代理机构编号:泉州市文华专利代理有限公司 35205
优先权:关键词:当前状态:审核中
类型名称:外观设计
标签：增透膜论文;