利用VAD工艺制造G.657.A2光纤的研究

论文摘要

近年来,G.657.A2光纤已成为高性能接入网广泛使用的光纤。为了实现其优质、高效的批量制造,介绍了利用气相轴向沉积法(VAD)制造G.657.A2光纤的工艺方法,通过优化波导结构设计和制造工艺参数,改善了VAD光纤制造工艺制造G.657.A2芯棒时出现的波导结构和宏弯损耗性能不够稳定的缺点。通过对光纤的宏弯损耗性能进行理论分析,结合VAD光纤制造工艺的工艺特点,确立了光纤的波导结构设计;再对用VAD工艺制造下凹包层波导结构进行研究,通过实验对比明确了具有优越宏弯损耗性能的光纤包层沉积工艺参数。对所研制的G.657.A2光纤进行了测试,结果表明VAD光纤制造工艺的产品性能好且生产效益高,是一种值得推广的G.657.A2弯曲损耗不敏感光纤的制造方法。

论文目录

• 0 引言
• 1 光纤宏弯损耗的理论分析
• 2 光纤波导结构设计与研究
•   2.1 G.657.A2的波导结构设计
•   2.2 光纤芯/包层折射率研究
•   2.3 光纤芯包比d a研究
• 3 光纤包层波导结构的制造工艺研究
•   3.1 掺氟量对粉末疏松体强度的影响
•   3.2 沉积温度对掺氟负折射率深度的影响
•   3.3 掺氟量对粉末沉积效率的影响
•   3.4 预制棒芯棒的包层喷灯工艺参数
• 4 VAD工艺制造的G.657.A2光纤的宏弯损耗性能
• 5 结束语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 秦钰,沈一春,钱宜刚

关键词: 气相轴向沉积法,宏弯损耗,波导结构,掺氟

来源: 光通信技术 2019年10期

年度: 2019

分类: 信息科技,基础科学

专业: 物理学,无线电电子学

单位: 中天科技精密材料有限公司

分类号: TN253

DOI: 10.13921/j.cnki.issn1002-5561.2019.10.004

页码: 16-21

总页数: 6

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