三氯化硼的制备和纯化研究综述

论文摘要

三氯化硼在精细化学品、航空航天、材料加工及半导体领域具有不可替代的作用。三氯化硼在大规模集成电路金属铝层刻蚀制程中起到重要作用,其纯度与质量要求较为严格。详尽地将三氯化硼的制备和纯化方法进行了归纳与总结,并追踪了近几年的工艺发展,认为在现有传统三氯化硼生产工艺基础上进行改进,降低能耗、提高合成选择性、提高安全性能与提高传质效率是三氯化硼生产的发展趋势。期待为国内高纯三氯化硼的研发和生产提供借鉴作用,从根本上解决高纯三氯化硼依赖进口、受制于人的被动局面。

论文目录

• 0 引言
• 1 三氯化硼的理化性质
• 2 三氯化硼的制备
•   2.1 硼氧化合物氯化法
•   2.2 硼有机化合物直接氯化方法
•   2.3 硼单质氯化法
•   2.4 金属化合物参与的氯化法
• 3 三氯化硼纯化
• 4 结语

文章来源

类型: 期刊论文

作者: 马建修,王维佳,李广新,靖宇

关键词: 三氯化硼,合成,纯化

来源: 低温与特气 2019年05期

年度: 2019

分类: 工程科技Ⅰ辑

专业: 无机化工

单位: 绿菱电子材料(天津)有限公司

基金: 绿菱作为联合体成员之一,承担中芯国际牵头主持的2018年工业转型升级资金(部门预算)——国家新材料生产应用示范平台建设项目之课题3“集成电路工艺用材料生产应用示范平台”(项目编号:TC180A6MR)

分类号: TQ128.1

页码: 20-24

总页数: 5

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